磁芯热处理放置架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及了一种热处理领域，尤其是一种用于磁芯热处理的磁芯热处理放置架。
【背景技术】
[0002]磁性材料由于其独特的材料性质，在成型后需要对其进行热处理，而现有的放置架不适用于恒直炉的使用，因此，急需一种新的放置架来适用于恒直炉。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种能有效提高存储量且不影响磁芯磁性的磁芯热处理放置架。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型所设计的一种磁芯热处理放置架，它包括支架、底座、立柱、杂质吸附盒、拉手、磁芯套筒；所述的底座设置在支架的下部，在底座上设有多个上下贯通的通孔；所述的立柱也有多个，设置在底座的上表面；所述的杂质吸附盒至少有一个，也设置在底座的上表面；所述的磁芯套筒有多个，且磁芯套筒与立柱一一对应，磁芯套筒套设在立柱上；所述的拉手设置在支架的上部。
[0005]为了提高放置架的生产效率，所述的杂质吸附盒为一个，且设置在底座上表面的中间位置。
[0006]为了使加热效果更快，所述的支架采用框架结构。
[0007]本实用新型的磁芯热处理放置架，将磁芯套设在磁芯套筒上，在将磁芯套筒设置在立柱上，由于磁芯套筒为环状结构，使磁芯在热处理时，可以有效保证磁芯内部的磁场的稳定，且在底座上设有杂质吸附盒，使磁芯在热处理过程中产生的杂质得到及时消除，保证了磁芯的生产质量。
[0008]因此，它具有结构简单、设计合理和使用方便等特点。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型的主视图；
[0010]图2为本实用新型的俯视图；
[0011]图3为磁芯套筒的俯视图；
[0012]图4为磁芯套筒在A-A方向上的视图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。
[0014]如图1、图2、图3、图4所示，本实施例描述的一种磁芯热处理放置架，它包括支架1、底座2、立柱3、杂质吸附盒4、拉手5、磁芯套筒6 ;所述的支架I为框架结构；所述的底座2设置在支架I的下部，在底座2上设有多个上下贯通的通孔；所述的立柱3有多个，设置在底座2的上表面；所述的杂质吸附盒4有一个，设置在底座2的上表面的中心位置；所述的磁芯套筒6有多个，且磁芯套筒6与立柱3 —一对应，磁芯套筒6套设在立柱3上；所述的拉手5设置在支架I的上部。
【主权项】
1.一种磁芯热处理放置架，其特征在于:它包括支架、底座、立柱、杂质吸附盒、拉手、磁芯套筒；所述的底座设置在支架的下部，在底座上设有多个上下贯通的通孔；所述的立柱也有多个，设置在底座的上表面；所述的杂质吸附盒至少有一个，也设置在底座的上表面；所述的磁芯套筒有多个，且磁芯套筒与立柱一一对应，磁芯套筒套设在立柱上；所述的拉手设置在支架的上部。2.根据权利要求1所述的一种磁芯热处理放置架，其特征在于:所述的杂质吸附盒为一个，且设置在底座上表面的中间位置。3.根据权利要求1所述的一种磁芯热处理放置架，其特征在于:所述的支架采用框架结构。
【专利摘要】本实用新型公开了一种磁芯热处理放置架；本实用新型的目的是提供一种能有效提高存储量且不影响磁芯磁性的磁芯热处理放置架；它包括支架、底座、立柱、杂质吸附盒、拉手、磁芯套筒；所述的底座设置在支架的下部，在底座上设有多个上下贯通的通孔；所述的立柱也有多个，设置在底座的上表面；所述的杂质吸附盒至少有一个，也设置在底座的上表面；所述的磁芯套筒有多个，且磁芯套筒与立柱一一对应，磁芯套筒套设在立柱上；所述的拉手设置在支架的上部；它具有结构简单、设计合理和使用方便等特点。
【IPC分类】C21D9/00
【公开号】CN204737990
【申请号】CN201520524930
【发明人】张丽, 陈志元
【申请人】浙江恩鸿电子有限公司
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年7月20日