一种能够保持真空度的溅射镀膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于溅射技术领域，具体涉及一种能够保持真空度的溅射镀膜装置。
【背景技术】
[0002]薄膜技术涉及半导体、太阳能、LED、平板显示器、有机材料、信息工程等方方面面，在当前材料领域占有重要地位。因此有效的成膜技术备受关注，如化学气相沉积，脉冲激光沉积、溅射法、电子束沉积、旋转喷涂法等等，其中磁控溅射法具有成膜速率高、均匀性好、成本低、易于大规模生产等优点，在工业上有着广泛的应用。
[0003]通常，工业上所用磁控溅射主要是动态沉积，即被镀衬底是在运动传输之中，这样可以形成连续的生产线，用于大规模工业生产。但是现有的溅射镀膜装置的真空腔的真空度很难保持在10 X 10 3以上，而且腔体容易漏气，从而会影响工作效率和生产质量，不能满足现在工业快速发展的需要，因此需要设计出一种能够保持真空度的溅射镀膜装置。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，包括溅射镀膜装置、真空控制装置、控制器，所述溅射镀膜装置由腔体、镀膜腔室、靶材、传递辊、挡板组件、阴极板、阳极板、磁铁线圈和电线组成，所述镀膜腔室设置在腔体的内部，所述阴极板设置在镀膜腔室的底部，所述传递辊和挡板组件均设置在阴极板的上侧，且挡板组件间隔设置在传递辊之间，所述阳极板设置在腔体的顶部，且设置在镀膜腔室内，所述靶材设置在阳极板的下侧，所磁铁线圈设置在镀膜腔室的两侧，所述电线分别与控制器、阴极板和阳极板电性连接，所述真空控制装置由真空进气控制装置、充气阀、板阀、分子栗、电磁阀、机械栗和粗抽阀组成，所述真空进气控制装置设置在腔体的顶部上，所述充气阀安装在腔体左侧的上部，所述板阀通过管道分别与腔体底部的右侧和分子栗固定连接，所述分子栗通过管道与机械栗固定连接，所述电磁阀设置在分子栗与机械栗之间的管道上，所述机械栗通过管道与粗抽阀固定连接，所述粗抽阀通过管道与腔体的右侧固定连接，所述控制器安装在腔体右侧的上部。
[0006]优选的，所述腔体左侧的底部设有工件进口，腔体右侧的底部设有工件出口。
[0007]优选的，所述机械栗和分子栗上均设有压力表。
[0008]优选的，所述真空进气装置由钢瓶阀、流量计和进气阀组成，所述钢瓶阀、流量计和进气阀从上到下依次安装在通向镀膜腔室的进气管道上。
[0009]本实用新型的技术效果和优点:该能够保持真空度的溅射镀膜装置，分子栗是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空栗；控制器能够控制真空控制装置，从而控制腔体的真空度，使之保持在10 X 10 3以上，符合实际要求，因此能够满足实际工业发展的需求，提高产品质量和工作效率；该能够保持真空度的溅射镀膜装置具有操作简单，维护方便、易控制真空度，工作效率高等优点，具有市场推广价值。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]图中:1溅射镀膜装置、2腔体、3镀膜腔室、4靶材、5传递辊、6挡板组件、7阴极板、8阳极板、9磁铁线圈、10电线、11真空控制装置、12真空进气控制装置、13充气阀、14板阀、15分子栗、16电磁阀、17机械栗、18粗抽阀、19控制器。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0013]本实用新型提供了如图1所示的一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，包括溅射镀膜装置1、真空控制装置11、控制器19，所述溅射镀膜装置I由腔体2、镀膜腔室3、靶材4、传递辊5、挡板组件6、阴极板7、阳极板8、磁铁线圈9和电线10组成，所述镀膜腔室3设置在腔体2的内部，所述腔体2左侧的底部设有工件进口，腔体2右侧的底部设有工件出口，所述阴极板7设置在镀膜腔室3的底部，所述传递辊5和挡板组件6均设置在阴极板7的上侧，且挡板组件6间隔设置在传递辊5之间，所述阳极板8设置在腔体2的顶部，且设置在镀膜腔室3内，所述靶材4设置在阳极板8的下侧，所磁铁线圈9设置在镀膜腔室3的两侧，所述电线10分别与控制器19、阴极板7和阳极板8电性连接，所述真空控制装置11由真空进气控制装置12、充气阀13、板阀14、分子栗15、电磁阀16、机械栗17和粗抽阀18组成，所述真空进气控制装置12设置在腔体2的顶部上，所述真空进气装置12由钢瓶阀、流量计和进气阀组成，所述钢瓶阀、流量计和进气阀从上到下依次安装在通向镀膜腔室的进气管道上，所述充气阀13安装在腔体2左侧的上部，所述板阀14通过管道分别与腔体2底部的右侧和分子栗15固定连接，所述分子栗15通过管道与机械栗17固定连接，所述电磁阀16设置在分子栗15与机械栗17之间的管道上，所述机械栗17通过管道与粗抽阀18固定连接，所述机械栗17和分子栗15上均设有压力表，所述粗抽阀18通过管道与腔体2的右侧固定连接，所述控制器19安装在腔体2右侧的上部。
[0014]工作原理:溅射镀膜是在真空溅射槽内进行的，真空度要达10 X 10 3以上，充入一定量惰性气体，以靶材作为阴极，工件作为阳极，在两电极间加上高压使惰性气体电离，Ar+离子被阴极的负高压(-500V)加速，以高速轰击靶材，从靶面飞溅出来的粒子以足够的速度飞向阳极工件并沉积在其表面上，形成镀层；在该真空溅射镀膜装置，工作时，打开控制器19，同时开启真空进气控制装置12、分子栗15和机械栗17，使镀膜腔室内的真空度达到10 X 10 3，而且要保持在10 X 10 3以上，然后把工件从腔体2的工件进口进入腔体2内，并在传递辊5上运行，在通过腔体2的过程中，工件表面被镀膜，接着从腔体I的工件出口到达腔体2外部以进入下一工序。
[0015]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
【主权项】
1.一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，包括溅射镀膜装置(I)、真空控制装置(11)、控制器(19)，其特征在于:所述溅射镀膜装置(I)由腔体(2)、镀膜腔室(3)、靶材(4)、传递辊(5)、挡板组件(6)、阴极板(7)、阳极板(8)、磁铁线圈(9)和电线(10)组成，所述镀膜腔室(3)设置在腔体(2)的内部，所述阴极板(7)设置在镀膜腔室(3)的底部，所述传递辊(5)和挡板组件(6)均设置在阴极板(7)的上侧，且挡板组件(6)间隔设置在传递辊(5)之间，所述阳极板(8)设置在腔体(2)的顶部，且设置在镀膜腔室(3)内，所述靶材(4)设置在阳极板⑶的下侧，所磁铁线圈(9)设置在镀膜腔室(3)的两侧，所述电线(10)分别与控制器(19)、阴极板(7)和阳极板(8)电性连接，所述真空控制装置(11)由真空进气控制装置(12)、充气阀(13)、板阀(14)、分子栗(15)、电磁阀(16)、机械栗(17)和粗抽阀(18)组成，所述真空进气控制装置(12)设置在腔体(2)的顶部上，所述充气阀(13)安装在腔体(2)左侧的上部，所述板阀(14)通过管道分别与腔体(2)底部的右侧和分子栗(15)固定连接，所述分子栗(15)通过管道与机械栗(17)固定连接，所述电磁阀(16)设置在分子栗(15)与机械栗(17)之间的管道上，所述机械栗(17)通过管道与粗抽阀(18)固定连接，所述粗抽阀(18)通过管道与腔体(2)的右侧固定连接，所述控制器(19)安装在腔体(2)右侧的上部。2.根据权利要求1所述的一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述腔体(2)左侧的底部设有工件进口，腔体(2)右侧的底部设有工件出口。3.根据权利要求1所述的一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述机械栗(17)和分子栗(15)上均设有压力表。4.根据权利要求1所述的一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，其特征在于:所述真空进气装置(12)由钢瓶阀、流量计和进气阀组成，所述钢瓶阀、流量计和进气阀从上到下依次安装在通向镀膜腔室的进气管道上。
【专利摘要】本实用新型公开了一种能够保持真空度的溅射镀膜装置,所述阳极板设置在腔体的顶部，且设置在镀膜腔室内，所述靶材设置在阳极板的下侧，所磁铁线圈设置在镀膜腔室的两侧，所述真空进气控制装置设置在腔体的顶部上，所述分子泵通过管道与机械泵固定连接，所述机械泵通过管道与粗抽阀固定连接，所述控制器安装在腔体右侧的上部。该能够保持真空度的溅射镀膜装置，控制器能够控制真空控制装置，从而控制腔体的真空度，使之保持在10ⅹ10-3以上，符合实际要求，因此能够满足实际工业发展的需求，提高产品质量和工作效率；该能够保持真空度的溅射镀膜装置具有操作简单，维护方便、易控制真空度，工作效率高等优点，具有市场推广价值。
【IPC分类】C23C14/56, C23C14/34
【公开号】CN204874725
【申请号】CN201520494966
【发明人】陈斌
【申请人】陈斌
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月8日