一种磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种能够通过磁力控制的磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶。
【背景技术】
[0002]真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空镀膜生产是实现膜层附着在工件表面，以获得需要的工件表面特性。真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射，使溅射物附着在工件表面形成膜层，即达到镀膜，磁控溅射镀膜机是常见的真空溅射镀膜设备，然而，由于其上设置的磁控溅射靶中，靶材和靶芯相对不动，而靶芯上的磁块分布难于相对均匀，且难以保证不同磁块的磁性一致，使得生产中磁场强度有差异，溅射不均匀，影响镀膜质量，因而优待改进。由于磁控溅射过程中会产生高温，而现有技术没能有效给予降温，导致磁控效果降低，不利于生产。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是为了弥补现有技术的不足，提供了一种磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶。
[0004]为了达到本实用新型的目的，技术方案如下:
[0005]—种真空磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，依次设置有靶头、靶芯、冷却水进口、密封腔、驱动装置、连接法兰、铜质靶材、辅助环、磁块、冷却通道、冷却水出口。
[0006]优选地，所述密封腔的出口设置在密封腔的上端，且通过控制阀控制。
[0007]优选地，所述靶芯之穿入铜质靶材的部分外周还套设有辅助环，辅助环的外径小于处于铜质靶材内的冷却通道内径。
[0008]优选地，所述磁块按靶芯外周均匀分布，且采用高磁和低磁相互间隔的分布。
[0009]优选地，所述铜质靶材为中空结构，内部设有冷却通道，冷却通道的冷却水进口设置在靶头处，冷却水出口设置在铜质靶材的后端。
[0010]本实用新型具有的有益效果:
[0011]通过驱动装置带动内部设有的靶芯旋转，并且设有磁块和铜质靶材的配合，从而使溅射更均匀，且设有冷却通道降温结构，及时给靶降温，提升镀膜效果，该结构简单，设计科学合理，投资成本低，经济效益较高。并且可提升磁控旋转溅射靶材的利用率，旋转靶材的利用率达到80%，也可延长磁控旋转溅射靶材的使用寿命，旋转靶可使用180天。又能调节磁控旋转溅射靶材的均匀性，达到稳定性高，以及解决镀膜产品的放电现象。
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶的结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面结合实施例对本实用新型作进一步描述，但本实用新型的保护范围不仅仅局限于实施例。
[0014]如图1所示，一种真空磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，依次设置有靶头1、靶芯2、冷却水进口 3、密封腔4、驱动装置5、连接法兰6、铜质靶材7、辅助环8、磁块9、冷却通道10、冷却水出口 11。
[0015]密封腔4的出口设置在密封腔4的上端，且通过控制阀控制，并且控制阀安装在密封腔4的中上部，这样可以减少控制。靶芯2)之穿入铜质靶材7的部分外周还套设有辅助环8，辅助环8的外径小于处于铜质靶材7内的冷却通道10内径。磁块9按靶芯2外周均匀分布，且采用高磁和低磁相互间隔的分布。铜质靶材7为中空结构，内部设有冷却通道10，冷却通道10的冷却水进口 3设置在靶头1处，冷却水出口 11设置在铜质靶材7的后端。
[0016]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型而并非限制本实用新型所描述的技术方案，因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本实用新型已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换，而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围中。
【主权项】
1.一种真空磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，依次设置有靶头(I)、靶芯(2)、冷却水进口(3)、密封腔(4)、驱动装置(5)、连接法兰￠)、铜质靶材(7)、辅助环(8)、磁块(9)、冷却通道(10)、冷却水出口 (Il)02.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，所述密封腔(4)的出口设置在密封腔(4)的上端，且通过控制阀控制。3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，所述靶芯(2)之穿入铜质靶材(7)的部分外周还套设有辅助环(8)，辅助环(8)的外径小于处于铜质靶材(7)内的冷却通道(10)内径。4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，所述磁块(9)按靶芯(2)外周均匀分布，且采用高磁和低磁相互间隔的分布。5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶，其特征在于，所述铜质靶材(7)为中空结构，内部设有冷却通道(10)，冷却通道(10)的冷却水进口(3)设置在靶头(I)处，冷却水出口(11)设置在铜质靶材(7)的后端。
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜机的旋转靶，其特征在于，依次设置有靶头、靶芯、密封腔、驱动装置、连接法兰、铜质靶材、辅助环、磁块、冷却通道。优选的，所述密封腔的出口设置在密封腔的上端，且通过控制阀控制。所述靶芯之穿入铜质靶材的部分外周还套设有辅助环，辅助环的外径小于处于铜质靶材内的冷却通道内径。所述磁块按靶芯外周均匀分布，且采用高磁和低磁相互间隔的分布。所述铜质靶材为中空结构，内部设有冷却通道，冷却通道的冷却液进口设置在靶头处，冷却水出口设置在铜质靶材的后端。本实用新型具有的有益效果：通过靶芯旋转，从而使溅射更均匀，且设有冷却通道降温结构，提升镀膜效果，该结构简单，经济效益较高。
【IPC分类】C23C14/35
【公开号】CN204982042
【申请号】CN201520587323
【发明人】江维
【申请人】咸宁南玻节能玻璃有限公司
【公开日】2016年1月20日
【申请日】2015年8月6日