一种光学元件的三点研磨装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种光学元件的三点研磨装置，包括压力针、支撑单元和抛光盘，所述压力针的末端与支撑单元相连接，所述支撑单元与所述抛光盘相接触；其中：所述支撑单元包括角度架和承载夹具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三个支架组，每个所述支架组包括支架和承载夹具，倾斜结构的所述支架的两端分别与所述基架和所述承载夹具相连接；每个所述承载夹具内安装有待加工的镜片，所述镜片的待加工面与所述抛光盘的研磨工作面接触。本实用新型的三点研磨装置在实现了可同时对三个镜片进行加工的前提下，保证了元件在加工过程中的稳定性。
【专利说明】
一种光学元件的三点研磨装置
技术领域
[000?]本实用新型涉及光学元件的冷加工技术，具体涉及一种光学元件的三点研磨装置。
【背景技术】
[0002]目前对于光学元件的冷加工以单点及多点贴附工艺为主，其中的单点加工每次夹具中只能放置并加工一枚镜片，加工效率较低，近平面球面由于支点高稳定性差。而多点结构由于对夹具设计加工要求高，单体成本大，工序繁杂，不适合小批量多品种产品的加工。
【实用新型内容】
[0003]有鉴于此，本实用新型提出一种光学元件的三点研磨装置，旨在优化研磨加工，最大程度地规避单点加工的效率以及多点加工的工序复杂问题。
[0004]本实用新型采用的技术方案具体为:
[0005]—种光学元件的三点研磨装置，包括压力针、支撑单元和抛光盘，所述压力针的末端与支撑单元相连接，所述支撑单元与所述抛光盘相接触;其中:
[0006]所述支撑单元包括角度架和承载夹具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三个支架组，每个所述支架组包括支架和承载夹具，倾斜结构的所述支架的两端分别与所述基架和所述承载夹具相连接；
[0007]每个所述承载夹具内安装有待加工的镜片，所述镜片的待加工面与所述抛光盘的研磨工作面接触。
[0008]在上述光学元件的三点研磨装置中，三个所述支架组的支架以三点式的分布方式倾斜、对称地设于所述基架。
[0009]在上述光学元件的三点研磨装置中，所述压力针通过球形顶尖加压于所述基架中心的凹槽，实现活动式连接。
[0010]在上述光学元件的三点研磨装置中，所述基架与各个所述支架为固定的一体式结构。
[0011]在上述光学元件的三点研磨装置中，所述支架与与其对应的承载夹具为固定的一体式结构。
[0012]在上述光学元件的三点研磨装置中，抛光盘对三个支架组内的待加工镜片进行研磨的过程中，三个支架组的承载夹具的运动轨迹互不干涉。
[0013]本实用新型产生的有益效果是:
[0014]本实用新型的三点研磨装置利用对称三支点自由活动结构对光学元件进行冷加工，易于操作且活动结构具有调节性，较之于单点加工，提高了加工效率，尤其适用于批量处理。
【附图说明】
[0015]当结合附图考虑时，能够更完整更好地理解本实用新型。此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。
[0016]图1为本实用新型一种光学元件的三点研磨装置的立体示意图；
[0017]图2为本实用新型一种光学元件的三点研磨装置的相关参数图。
[0018]图中:
[0019]1、压力针
[0020]21、基架
[0021]22、支架
[0022]23、承载夹具
[0023]3、抛光盘。
【具体实施方式】
[0024]下面结合附图及实施例对本实用新型的技术方案作进一步详细的说明。
[0025]如图1-2所示的一种光学元件的三点研磨装置，包括压力针1、支撑单元和抛光盘3，压力针I与支撑单元相连接，支撑单元内安装的待加工镜片与抛光盘3接触;其中:
[0026]支撑单元包括角度架和承载夹具23，角度架包括基架和倾斜、对称式设于基架上的三个支架，每个支架分别连接有承载夹具23，置于承载夹具23内的待加工的镜片与抛光盘3的盘面接触对其进行研磨加工。其中:
[0027]压力针I末端的球形顶尖配合以直接加压的方式与基架21中心的凹槽实现活动式连接，基架21与各支架22以及支架22与其对应的承载夹具23(厚度为I?2_)之间均为固定的一体式结构。
[0028]本实用新型的三点研磨装置通过压力针I及三点对称的承载夹具23将由设备传导来的压力转接到被加工的学元件上，根据镜片的球面半径确定抛光盘3的球面半径，同时根据镜片的其他参数(外径、厚度)确定支架22相对于基架21的设置角度，以如图2所示的凹面镜片为例，镜片&和&(以及没在图中显示的C3)的外径为d，则为了兼顾研磨质量和效率，需满足以下条件:
[0029]tan(P/2) = (d/2+a)/R，即 0 = 2arctan( (d/2+a)/R) (I)
[0030]l = 2Rsin(0/2)(2)
[0031]上述参数的设定保证了在对镜片进行研磨加工时，三个镜片的球面中心与抛光盘3的球面中心重合；以及三个镜片在抛光盘表面的旋转运动之间互不干涉。同时利用球心指向原则及单点自平衡构造保证了元件加工过程中的稳定性。
[0032]以上结合附图对本实用新型的实施例进行了详细地说明，此处的附图是用来提供对本实用新型的进一步理解。显然，以上所述仅为本实用新型较佳的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何对本领域的技术人员来说是可轻易想到的、实质上没有脱离本实用新型的变化或替换，也均包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种光学元件的三点研磨装置，其特征在于，包括压力针、支撑单元和抛光盘，所述压力针的末端与支撑单元相连接，所述支撑单元与所述抛光盘相接触;其中: 所述支撑单元包括角度架和承载夹具，角度架包括基架和由所述基架向外延伸的三个支架组，每个所述支架组包括支架和承载夹具，倾斜结构的所述支架的两端分别与所述基架和所述承载夹具相连接； 每个所述承载夹具内安装有待加工的镜片，所述镜片的待加工面与所述抛光盘的研磨工作面接触。2.根据权利要求1所述的光学元件的三点研磨装置，其特征在于，三个所述支架组的支架以三点式的分布方式倾斜、对称地设于所述基架。3.根据权利要求1所述的光学元件的三点研磨装置，其特征在于，所述压力针通过球形顶尖加压于所述基架中心的凹槽，实现活动式连接。4.根据权利要求1所述的光学元件的三点研磨装置，其特征在于，所述基架与各个所述支架为固定的一体式结构。5.根据权利要求1所述的光学元件的三点研磨装置，其特征在于，所述支架与与其对应的承载夹具为固定的一体式结构。6.根据权利要求1所述的光学元件的三点研磨装置，其特征在于，抛光盘对三个支架组内的待加工镜片进行研磨的过程中，三个支架组的承载夹具的运动轨迹互不干涉。
【文档编号】B24B37/02GK205438157SQ201521137944
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年12月31日
【发明人】姜宏林
【申请人】希比希光学（北京）有限公司