蒸发源及具有该蒸发源的蒸镀设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种蒸发源及具有该蒸发源的蒸镀设备。该蒸发源包括具有容置空间的外壳体，其中所述外壳体上设置有喷射口；用于设置蒸发材料的蒸发源本体，所述蒸发源本体设置于所述容置空间内与所述喷射口相对的位置，且所述蒸发源本体与所述喷射口之间形成有蒸发材料所蒸发气体的流动空间；第一加热丝，设置于所述流动空间中。所述蒸发源通过在蒸发源本体上方设置流动空间，且流动空间中设置第一加热丝用于为所通过的蒸发材料进行二次加热，使蒸气温度提高，从而不易在喷射口形成结晶，避免堵塞问题。
【专利说明】
蒸发源及具有该蒸发源的蒸镀设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示器制作技术领域，尤其是指一种蒸发源及具有该蒸发源的蒸链设备。
【背景技术】
[0002]真空蒸镀是指在高真空环境下对镀膜材料进行加热，使其升华并在基板上成膜。现有大尺寸用线性蒸发源，坩祸存放于蒸发源内，蒸镀过程中在坩祸外部对坩祸进行加热，形成的镀膜材料蒸气从喷射机构喷出。
[0003]通常通过分段控制蒸发源温度实现对蒸发速率的控制，但是由于大尺寸蒸镀设备的坩祸尺寸较大，蒸发源内部材料受热不均，坩祸内的材料蒸气会出现分布不均匀的现象，这样当蒸发材料从喷射机构喷出时，由于喷射口温度较低，材料容易形成再结晶，堵塞喷射
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【实用新型内容】
[0004]本实用新型技术方案的目的是提供一种蒸发源及具有该蒸发源的蒸镀设备，解决采用现有技术的蒸发源容易造成喷射口堵塞的问题。
[0005]本实用新型提供一种蒸发源，其中，包括:
[0006]具有容置空间的外壳体，其中所述外壳体上设置有喷射口；
[0007]用于设置蒸发材料的蒸发源本体，所述蒸发源本体设置于所述容置空间内与所述喷射口相对的位置，且所述蒸发源本体与所述喷射口之间形成有蒸发材料所蒸发气体的流动空间；
[0008]第一加热丝，设置于所述流动空间中。
[0009 ]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述蒸发源还包括:
[0010]气流导向结构，设置于所述流动空间中，所述第一加热丝固定于所述气流导向结构上。
[0011]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述气流导向结构包括至少两板体，其中第一板体和第二板体上分别设置有通孔，且所述第一板体和所述第二板体相对于所述蒸发材料的材料表面倾斜设置，所述蒸发材料所蒸发部分气体经过所述第一板体或者所述第二板体上的通孔后到达所述喷射口。
[0012]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述气流导向结构还包括第三板体，位于所述第一板体与所述第二板体之间，且相对于所述蒸发材料的材料表面竖直设置。
[0013]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述第一板体和所述第二板体分别相对于所述第三板体对称设置。
[0014]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述第一板体、所述第二板体和所述第三板体的内部分别设置有所述第一加热丝。
[0015]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述第三板体包括分别与多个所述喷射口对应的突出结构，其中每一突出结构对应地延伸进入其中一所述喷射口内，且设置于所述第三板体的所述第一加热丝包括延伸进入所述突出结构的内部的部分。
[0016]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述蒸发源本体包括坩祸和用于放置坩祸的固定结构，其中所述固定结构上设置第二加热丝。
[0017]优选地，上述所述的蒸发源，其中，所述坩祸为多个，在所述固定结构上依次排布为一列，其中所述喷射口也为多个，沿与所述坩祸排布方向相平行的方向排列为一列。
[0018]本实用新型还提供一种蒸镀设备，包括如上任一项所述的蒸发源。
[0019]本实用新型具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果:
[0020]所述蒸发源通过在蒸发源本体上方设置流动空间，且流动空间中设置第一加热丝用于为所通过的蒸发材料进行二次加热，使蒸气温度提高，从而不易在喷射口形成结晶，避免堵塞冋题O
【附图说明】
[0021]图1表示本实用新型实施例所述蒸发源的内部构造的正面结构示意图；
[0022]图2表示本实用新型实施例所述蒸发源的内部构造的侧面结构示意图；
[0023]图3表示本实用新型实施例所述蒸发源所设置气流导向板中，第一板体或第二板体的结构示意图；
[0024]图4表示本实用新型实施例所述蒸发源所设置气流导向板中，第三板体的结构示意图。
【具体实施方式】
[0025]为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合具体实施例及附图进行详细描述。
[0026]本实用新型具体实施例所述蒸发源，包括:
[0027]具有容置空间的外壳体，其中所述外壳体上设置有喷射口；
[0028]用于设置蒸发材料的蒸发源本体，所述蒸发源本体设置于所述容置空间内与所述喷射口相对的位置，且所述蒸发源本体与所述喷射口之间形成有蒸发材料所蒸发气体的流动空间；
[0029]第一加热丝，设置于所述流动空间中。
[0030]本实用新型所述蒸发源通过在蒸发源本体上方设置空间，也即流动空间，且流动空间中设置加热丝(第一加热丝)用于为所通过的蒸发材料进行二次加热，使蒸气温度提尚，从而不易在嗔射口形成结晶，避免堵塞冋题。
[0031]较佳地，上述结构所述蒸发源还包括气流导向结构，设置于流动空间中，其中第一加热丝固定于该气流导向结构上。
[0032]通过气流导向结构对气流进行引导，控制流动空间中蒸发材料所蒸发气体的流动，使蒸发材料从喷射口喷出时更加均匀，从而达到提高蒸发源的成膜均匀性的目的。
[0033]以下结合附图对本实用新型实施例所述蒸发源的具体结构进行详细描述。
[0034]参阅图1和图2，本实用新型具体实施例中所述蒸发源的具体结构包括:
[0035]具有容置空间11的外壳体10，其中外壳体10上设置有喷射口12;
[0036]用于设置蒸发材料的蒸发源本体20，其中蒸发源本体20设置于容置空间11内与喷射口 12相对的位置，且蒸发源本体20与喷射口 12之间形成有蒸发材料所蒸发气体的流动空间30。
[0037]本实用新型具体实施例中，蒸发源形成为线性蒸发源，也即喷射口12为多个，沿一方向依次排列为一列。具体地，蒸发源本体20包括坩祸(图中未显示)和用于放置坩祸的固定结构21，固定结构21上设置有第二加热丝22，用于为坩祸加热，使坩祸内的蒸发材料受热后形成材料蒸气，从喷射口 12喷出以用于基板的镀膜。
[0038]具体地，线性蒸发源中，如图1所示，固定结构21设置坩祸的端面呈长长形形状，坩祸为多个，在固定结构21上依次排布为一列，且外壳体10上所设置的喷射口 12也为多个，沿与坩祸排布方向相平行的方向排列为一列，基于该种结构，各个喷射口 12所喷出蒸发材料的蒸发气体形成为线状排列。
[0039]进一步，本实用新型具体实施例所述蒸发源，在蒸发源本体20与喷射口12之间所形成的流动空间30中，还设置有气流导向结构，包括至少两板体，板体上设置有用于蒸发气体通过的通孔。通过气流导向结构将蒸发源本体20上方的流动空间30划分为多个空间，使蒸发源本体所形成蒸发材料的蒸发气体在流动空间30中被均匀地划分，这样使得到达各喷射口处的蒸发气体会更加均匀，蒸发材料从喷射口喷出时更加均匀，从而达到提高蒸发源的成膜均匀性的目的。
[0040]参阅图1、图2、图3和图4，流动空间30中的气流导向结构具体包括:
[0041 ]第一板体41，沿第一板体41的长度方向均勾分布有多个通孔44;
[0042]第二板体42，沿第二板体42的长度方向均匀分布有多个通孔44;
[0043]第三板体43，位于第一板体41与第二板体42之间，且相对于蒸发材料的材料表面竖直设置；
[0044]此外，如图2，第一板体41和第二板体42相对于蒸发源本体20上蒸发材料的材料表面倾斜设置，这样蒸发材料所蒸发部分气体经过第一板体41或者第二板体42上的通孔，使气流流动更加均匀后到达喷射口 12。利用第一板体41、第二板体42和第三板体43将流动空间30划分为四个空间，蒸发材料所蒸发气体被划分为四部分，且每一部分中的气流流动更加均匀，使得到达各喷射口处的蒸发气体会更加均匀。
[0045]较佳地，第一板体41和第二板体42分别相对于第三板体43对称设置，以使流动空间30被划分的空间更加均匀，到达各喷射口处的蒸发气体也会更加均匀。
[0046]上述设置方式的第一板体41、第二板体42和第三板体43可以采用分别固定于外壳体10上的方式在流动空间30的内部固定，本领域技术人员应该能够了解其固定方式，且该设置方式并非本实用新型的研究重点，在此不详细描述。
[0047]在采用上述结构的气流导向结构的基础上，上述的第一板体41、第二板体42和第三板体43上分别设置有第一加热丝50，如图3和图4所示，用于在流动空间30中对蒸发材料的蒸发气体进行二次加热，提高蒸发源内部的饱和蒸气压，使蒸发材料从喷射口 12喷出时更加均匀，且由于蒸气温度提高，不易在喷射口形成结晶，避免堵塞问题。
[0048]较佳地，图4所示，第三板体43包括分别与多个喷射口12对应的突出结构431，设置于第三板体43上的第一加热丝50包括延伸进入突出结构431内部的部分。结合图1，当第三板体43竖直安装于流动空间30中时，每一突出结构431对应地插设于一喷射口 12的内部，这样使部分地第一加热丝50延伸进入喷射口 12内部。更佳地，每一喷射口 12内均设置有第一加热丝50，以充分对喷射口 12处的蒸发气体进行二次加热。
[0049]基于以上，采用上述结构的蒸发源，蒸发源内部被划分为两段式，底下部分用于为坩祸加热使蒸发材料加热形成蒸发气体，上部分形成流动空间，设置有加热丝，进行二次加热，并使用导流板控制蒸发气体在蒸发源内部的流动，使蒸发源内部的材料蒸气混合均匀，提高喷射口内部的温度，从而达到精确控制蒸发源蒸发速率，并避免喷射口堵塞的效果。
[0050]以上为线性蒸发源为例对本实用新型所述蒸发源的结构进行了详细描述，可以理解的是，上述原理的蒸发源不仅适用于线性蒸发源，本领域技术人员可以进行适当改进应用于其他结构的蒸发源中，如应用于大尺寸坩祸结构的蒸发源中。
[0051]本实用新型实施例另一方面还提供一种采用上述结构的蒸发源的蒸镀设备。
[0052]基于以上的描述，本领域技术人员应该能够了解采用上述蒸发源的蒸镀设备的具体结构，在此不再赘述。
[0053]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种蒸发源，其特征在于，包括: 具有容置空间的外壳体，其中所述外壳体上设置有喷射口 ； 用于设置蒸发材料的蒸发源本体，所述蒸发源本体设置于所述容置空间内与所述喷射口相对的位置，且所述蒸发源本体与所述喷射口之间形成有蒸发材料所蒸发气体的流动空间； 第一加热丝，设置于所述流动空间中。2.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源还包括: 气流导向结构，设置于所述流动空间中，所述第一加热丝固定于所述气流导向结构上。3.如权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述气流导向结构包括至少两板体，其中第一板体和第二板体上分别设置有通孔，且所述第一板体和所述第二板体相对于所述蒸发材料的材料表面倾斜设置，所述蒸发材料所蒸发部分气体经过所述第一板体或者所述第二板体上的通孔后到达所述喷射口。4.如权利要求3所述的蒸发源，其特征在于，所述气流导向结构还包括第三板体，位于所述第一板体与所述第二板体之间，且相对于所述蒸发材料的材料表面竖直设置。5.如权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述第一板体和所述第二板体分别相对于所述第三板体对称设置。6.如权利要求4所述的蒸发源，其特征在于，所述第一板体、所述第二板体和所述第三板体的内部分别设置有所述第一加热丝。7.如权利要求6所述的蒸发源，其特征在于，所述第三板体包括分别与多个所述喷射口对应的突出结构，其中每一突出结构对应地延伸进入其中一所述喷射口内，且设置于所述第三板体的所述第一加热丝包括延伸进入所述突出结构的内部的部分。8.如权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源本体包括坩祸和用于放置坩祸的固定结构，其中所述固定结构上设置第二加热丝。9.如权利要求8所述的蒸发源，其特征在于，所述坩祸为多个，在所述固定结构上依次排布为一列，其中所述喷射口也为多个，沿与所述坩祸排布方向相平行的方向排列为一列。10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的蒸发源。
【文档编号】C23C14/26GK205501406SQ201620341052
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年4月21日
【发明人】张峰杰
【申请人】京东方科技集团股份有限公司