一种内装式磁控溅射靶镀膜机的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种镀膜机，其包括钟形罩体，罩体上方设置真空罩顶端法兰，罩体下部连接真空系统，罩体内部设置有基片架旋转轮圈、蒸发源以及挡板，基片架旋转轮圈通过传动杆与罩体底部相连，蒸发源设置于挡板下方，挡板通过蒸发挡板转动杆与所述罩体底部相连，基片架旋转轮圈一端安装有可旋转的溅射基片架，位于档板的上方且在溅射基片架竖直方向上安装有蒸发基片架，所述基片架旋转轮圈中部安装有靶体，所述基片架旋转轮圈另一端竖直方向安装有预溅射挡板，所述预溅射挡板一侧安装有加热烘烤装置。本实用新型通过安装内装式磁控溅射靶,增加了原有镀膜机的功能,使所能镀制的薄膜范围大大地增加。
【专利说明】
一种内装式磁控溅射靶镀膜机
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种镀膜机，具体而言，特别涉及一种内装式磁控溅射靶镀膜机。
【背景技术】
[0002]镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种基于这一点，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。
[0003]蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程散点一岛状结构-迷走结构-层状生长形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0004]本
【申请人】对原有的真空电阻加热蒸发镀膜机进行了改造，在保留其真空蒸发镀膜原有功能的基础上，根据镀膜机的结构特点，设计了一种集蒸发镀膜以及磁控镀膜于一体的内装式磁控溅射靶镀膜机。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供了一种集蒸发镀膜以及磁控镀膜于一体的内装式磁控溅射靶镀膜机。
[0006]本实用新型解决问题采用的技术方案是:
[0007]—种内装式磁控溅射靶镀膜机，包括钟形罩体，所述罩体上方设置真空罩顶端法兰，所述罩体下部连接真空系统，所述罩体内部设置有基片架旋转轮圈、蒸发源以及挡板，所述基片架旋转轮圈通过传动杆与罩体底部相连，所述蒸发源设置于挡板下方，所述挡板通过蒸发挡板转动杆与所述罩体底部相连，所述基片架旋转轮圈一端安装有可旋转的溅射基片架，位于档板的上方且在溅射基片架竖直方向上安装有蒸发基片架，所述基片架旋转轮圈中部安装有靶体，所述基片架旋转轮圈另一端竖直方向安装有预溅射挡板，所述预溅射挡板一侧安装有加热烘烤装置。
[0008]在上述一种内装式磁控溅射靶镀膜机中，所述靶体为钕铁硼永磁铁。
[0009]在上述一种内装式磁控溅射靶镀膜机中，所述靶体内部通有冷却水。
[0010]在上述一种内装式磁控溅射靶镀膜机中，所述罩体内部上端设置有烘烤加热装置。
[0011 ]在上述一种内装式磁控溅射靶镀膜机中，所述靶体下方安装有靶座。
[0012]本实用新型的有益效果是:本实用新型通过安装内装式磁控溅射靶，增加了原有镀膜机的功能，使之能同时满足蒸发镀膜和溅射镀膜的要求，提高了设备与制备薄膜的质量，并使所能镀制的薄膜范围大大地增加。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的结构示意图。
[0014]图中:1、罩体，2、真空罩顶端法兰，3、真空系统，4、基片架旋转轮圈，5、蒸发源，6、挡板，7、传动杆，8、蒸发挡板转动杆，9、溅射基片架，10、蒸发基片架，11、靶体，12、加热烘烤装置，13、预溅射挡板，14、烘烤加热装置，15、靶座。
【具体实施方式】
[0015]以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明
[0016]图1示出了本实用新型的一种实施方式，一种内装式磁控溅射靶镀膜机，包括钟形罩体I，所述罩体I上方设置真空罩顶端法兰2，所述罩体I下部连接真空系统3，所述罩体I内部设置有基片架旋转轮圈4、蒸发源5以及挡板6，所述基片架旋转轮圈4通过传动杆7与罩体I底部相连，所述蒸发源5设置于挡板6下方，所述挡板6通过蒸发挡板转动杆8与所述罩体I底部相连，所述基片架旋转轮圈4 一端安装有可旋转的溅射基片架9，位于档板6的上方且在溅射基片架9竖直方向上安装有蒸发基片架10，所述基片架旋转轮圈4中部安装有靶体11，所述靶体11下方安装有靶座15，靶体内部排布一定形状的钕铁硼永磁铁，并通有冷却水，靶面溅射区的实测磁场强度为450高斯。冷却水通过镀膜机真空室底部备用孔引入真空室，并研制出特殊的水管接头使靶和冷却水管既能可靠的密封连接，又不会造成短路。所述基片架旋转轮圈4另一端竖直方向安装有预溅射挡板13，所述预溅射挡板6—侧安装有加热烘烤装置12，所述罩体I内部上端设置有烘烤加热装置14。加热烘烤装置12或者烘烤加热装置14都是常规的电阻加热方式，在此就不再累述。
[0017]真空室中安装了对基片进行加热烘烤装置12，烘烤电源和溅射电源均从镀膜机真空室底板上的备用孔引入。在蒸发镀膜的基片架旋转轮圈4上竖直安装了溅射镀膜用的基片架和挡板。当预溅射时挡板位于靶的对面，而溅射时接通蒸发台原有的基片旋转电源，使溅射基片架9面对靶、并围绕溅射靶旋转。蒸发与溅射隔离板使得原来的真空镀膜室分隔成左右两个镀膜区域，互不影响。由于溅射镀膜时基片能围绕靶旋转，因而能制备出面积大、均匀性好的薄膜。可以在同一次使用中进行蒸发和溅射镀膜。例如进行真空镀黄铜，在做蒸发前，使溅射基片架置于靶的正对面，防止蒸发时污染溅射用的基片。做完蒸发后，把预溅射挡板旋转至靶的正对面，在PAr = 0.5Pa、溅射功率为1300?2000W下进行预溅射，然后开启旋转机构进行基片旋转下的溅射镀膜，能够非常直观的根据样品颜色的不同，认识到合金蒸发的分解会导致薄膜的分层现象，而溅射镀膜基本上能使溅射膜的成份与溅射靶材的成份保持一致。
[0018]本实用新型通过安装内装式磁控溅射靶，增加了原有镀膜机的功能，使之能同时满足蒸发镀膜和溅射镀膜的要求，提高了设备与制备薄膜的质量，并使所能镀制的薄膜范围大大地增加。
[0019]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。
【主权项】
1.一种内装式磁控溅射靶镀膜机，包括钟形罩体(I)，所述罩体(I)上方设置真空罩顶端法兰(2)，所述罩体(I)下部连接真空系统(3)，所述罩体(I)内部设置有基片架旋转轮圈(4)、蒸发源(5)以及挡板(6)，所述基片架旋转轮圈(4)通过传动杆(7)与罩体(I)底部相连，所述蒸发源(5)设置于挡板(6)下方，所述挡板(6)通过蒸发挡板转动杆(8)与所述罩体(I)底部相连，其特征在于:所述基片架旋转轮圈(4) 一端安装有可旋转的溅射基片架(9)，位于挡板(6)的上方且在溅射基片架(9)竖直方向上安装有蒸发基片架(10)，所述基片架旋转轮圈(4)中部安装有靶体(11)，所述基片架旋转轮圈(4)另一端竖直方向安装有预溅射挡板(13)，所述预溅射挡板(6)—侧安装有加热烘烤装置(12)。2.根据权利要求1所述的一种内装式磁控溅射靶镀膜机，其特征在于:所述靶体(11)为钦铁棚永磁铁。3.根据权利要求2所述的一种内装式磁控溅射靶镀膜机，其特征在于:所述靶体(11)内部通有冷却水。4.根据权利要求1所述的一种内装式磁控溅射靶镀膜机，其特征在于:所述罩体(I)内部上端设置有烘烤加热装置(14)。5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种内装式磁控溅射靶镀膜机，其特征在于:所述靶体(11)下方安装有靶座(15)。
【文档编号】C23C14/34GK205590788SQ201620333221
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年4月18日
【发明人】丁进金
【申请人】绍兴鑫兴纺织镭射科技有限公司