一种蒸镀源及蒸镀装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型实施例提供一种蒸镀源及蒸镀装置，涉及真空蒸发镀膜领域。能够节省在蒸镀过程中更换喷嘴的时间，提高蒸镀效率。该蒸镀源包括用于容纳蒸镀材料的坩埚，坩埚的上表面设置有坩埚开口，坩埚开口的上方安装有喷嘴支架，喷嘴支架与坩埚的上表面接触。喷嘴支架上设置有N个喷口，喷嘴支架用于相对于坩埚转动或移动，以使得坩埚开口与N个喷口中的一个重叠，N≥1，N为正整数。
【专利说明】
一种蒸镀源及蒸镀装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀源及蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]真空蒸镀是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，形成镀层的工艺。在有机显示领域，有机显示器件的镀膜工艺好坏是影响有机显示器件功能优劣的关键因素。
[0003]由于在蒸镀过程中，为了适应不同蒸镀基片以及不同的蒸镀要求，经常需要在蒸镀过程中更换蒸镀源出口处的不同形状规格的喷嘴，在现有技术中，当需要更换喷嘴时，必须停机并打开真空腔室，手动拆卸更换喷嘴后，再重新抽真空并开机蒸镀，频繁的更换喷嘴会延长蒸镀装置的蒸镀时间，降低蒸镀效率。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型实施例提供一种蒸镀源及蒸镀装置，能够节省在蒸镀过程中更换喷嘴的时间，提高蒸镀效率。
[0005]为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案:
[0006]本实用新型实施例的一方面，提供一种蒸镀源，包括用于容纳蒸镀材料的坩祸，坩祸的上表面设置有坩祸开口，坩祸开口的上方安装有喷嘴支架，喷嘴支架与坩祸的上表面接触。喷嘴支架上设置有N个喷口，喷嘴支架用于相对于坩祸转动或移动，以使得坩祸开口与N个喷口中的一个重叠，N彡I，N为正整数。
[0007]优选的，坩祸上设置有导向槽，喷嘴支架上设置有与导向槽相配合的导向块;或，坩祸上设置有导向块，喷嘴支架上设置有与导向块相配合的导向槽。
[0008]优选的，坩祸上设置有支撑轴，喷嘴支架上设置有与支撑轴相配合的安装孔;或，坩祸上设置有安装孔，喷嘴支架上设置有与安装孔相配合的支撑轴。
[0009]优选的，坩祸上设置有支撑轴，喷嘴支架上设置有与支撑轴相配合的安装孔时，支撑轴上还安装有轴承，轴承的外圈固定在安装孔内。
[0010]进一步的，还包括固定在坩祸上的遮挡板，遮挡板包括上挡板，用于遮挡未与坩祸开口重叠的喷口的上表面。
[0011]更进一步的，遮挡板还包括下挡板，用于遮挡未与坩祸开口重叠的喷口的下表面。
[0012]优选的，在喷口内设置喷嘴。
[0013]本实用新型实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述蒸镀源。
[0014]优选的，当所述喷嘴支架能够相对于所述坩祸移动时，所述蒸镀装置还包括直线电机，所述直线电机的次级连接所述导向块。
[0015]优选的，当坩祸上设置有支撑轴时，蒸镀装置还包括旋转电机，旋转电机的输出轴与支撑轴连接。
[0016]进一步的，还包括设置于坩祸开口上方的探测器，用于检测蒸镀源蒸镀出的蒸镀材料的速率。
[0017]本实用新型实施例提供一种蒸镀源及蒸镀装置，包括用于容纳蒸镀材料的坩祸，坩祸的上表面设置有坩祸开口，坩祸开口的上方安装有喷嘴支架，喷嘴支架与坩祸的上表面接触。喷嘴支架上设置有N个喷口，喷嘴支架用于相对于坩祸转动或移动，以使得坩祸开口与N个喷口中的一个重叠，N多I，N为正整数。通过在坩祸开口上设置与坩祸上表面接触的包括至少一个喷口的喷嘴支架，喷嘴支架能够相对于坩祸转动或移动，以通过改变喷口与坩祸开口之间的重叠面积来调节蒸镀源的蒸镀速率，或通过更换喷口使得能够针对不同的蒸镀要求使用不同的喷口。
【附图说明】
[0018]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；
[0020]图2为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源的另一种实施情形；
[0021]图3为本实用新型实施例提供的另一种蒸镀源的结构示意图；
[0022]图4为本实用新型实施例提供的另一种蒸镀源的另一种实施情形；
[0023]图5为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源具有导向槽和导向块的情形；
[0024]图6为图5中坩祸的俯视图；
[0025]图7为图5中喷嘴支架的仰视图；
[0026]图8为图5中嗔嘴支架的仰视图的另一种情形；
[0027]图9为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源具有支撑轴和安装孔的情形中，坩祸的俯视图；
[0028]图10为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源具有支撑轴和安装孔的情形中，喷嘴支架的仰视图；
[0029]图11为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源的支撑轴上安装有轴承的情形；
[0030]图12为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源的喷嘴支架上设置有上挡板的情形；
[0031]图13为图12的俯视图；
[0032]图14为本实用新型实施例提供的一种蒸镀源的喷嘴支架上还设置有下挡板的情形；
[0033]图15为图14的俯视图(上挡板和下挡板在图中未示出)；
[0034]图16为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置设置有直线电机的结构示意图；
[0035]图17为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置设置有旋转电机的结构示意图；
[0036]图18为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置还设置有探测器的结构示意图；
[0037]图19为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的探测器中处理器设置在真空腔室外的情形的结构示意图。
[0038]附图标记:
[0039]1-坩祸;2-喷嘴支架;3-导向槽;4-导向块;5-支撑轴；6_轴承；7_遮挡板;71-上挡板;7 2-下挡板;8-喷嘴;9-直线电机;91_次级;92-初级；I O-旋转电机；11-探测器；111_探头；112-处理器;a-坩祸开口 ； b-喷口 ； C-安装孔。
【具体实施方式】
[0040]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0041]本实用新型实施例提供一种蒸镀源，如图1所示，包括用于容纳蒸镀材料的坩祸I，坩祸I的上表面设置有坩祸开口 a，坩祸开口 a的上方安装有喷嘴支架2，喷嘴支架2与坩祸I的上表面接触。喷嘴支架2上设置有N个喷口 b，喷嘴支架2用于相对于坩祸I转动或移动，以使得坩祸开口a与N个喷口b中的一个重叠，N彡I，N为正整数。
[0042]如图1所示，为喷嘴支架2上设置有I个喷口b的情况，通过喷嘴支架2相对于坩祸I的移动或转动，喷嘴支架2上的喷口b与坩祸开口a之间的重叠面积不同，如图1所示为完全重叠，如图2所示为部分重叠，以此来根据蒸镀需要，调节同一坩祸I在蒸镀时的蒸镀速率。
[0043]如图3所示，为喷嘴支架2上设置有N个喷口b(N= 2)的情况，喷嘴支架2上的第一个喷口 b与坩祸开口 a完全重叠；如图4所示，通过喷嘴支架2相对于坩祸I的移动或转动，喷嘴支架2上的第二个喷口 b与坩祸开口 a完全重叠，更换与坩祸开口 a重叠的喷口 b。
[0044]需要说明的是，喷嘴支架2安装于坩祸开口a的上方，且喷嘴支架2与坩祸I的上表面接触，即喷嘴支架2与坩祸I的上表面贴合无缝隙，避免坩祸I内的蒸镀材料由喷嘴支架2与坩祸I之间漏出。
[0045]此外，喷嘴支架2相对于坩祸I转动或移动，以使得坩祸开口a与N个喷口 b中的一个重叠，指的是，喷嘴支架2能够相对于坩祸I以直线运动、转动等方式发生位置的移动，以使得喷嘴支架2上设置的N个喷口 b中的任意一个，能够与坩祸开口 a完全重叠或部分重叠，使得i甘祸I内的蒸镀材料由i甘祸开口 a与喷口 b的重叠部分喷出。
[0046]通过在坩祸开口a上设置与坩祸I上表面接触的包括至少一个喷口 b的喷嘴支架2，喷嘴支架2能够相对于坩祸I转动或移动，以通过改变喷口 b与坩祸开口 a之间的重叠面积来调节蒸镀源的蒸镀速率，或通过更换喷口 b使得能够针对不同的蒸镀要求使用不同的喷口b0
[0047]由于当喷嘴支架2上仅有一个喷口b时，仅能够改变喷口 b与坩祸开口 a之间的重叠面积，而当喷嘴支架2上由至少两个喷口 b时，不仅能够改变喷口 b与坩祸开口 a之间的重叠面积，还可以更换与坩祸开口a重叠或部分重叠的喷口b，因此，以下均以喷嘴支架2上设置有两个喷口 b为例进行说明。
[0048]具体的，如图6所示，在坩祸I上设置有导向槽3，如图7所示，在喷嘴支架2上设置有与导向槽3相配合的导向块4，如图5所示，导向块4在导向槽3内滑动。在此情况下，如图7所示，喷嘴支架2为矩形条状。
[0049]这样一来，当由于喷口b堵塞需要更换时，通过推动喷嘴支架2上的导向块4在坩祸I上的导向槽3内移动，使得喷嘴支架2相对于坩祸I直线移动，喷嘴支架2上的后一个喷口b可以替换前一个喷口 b与坩祸开口 a重叠继续进行蒸镀。
[0050]如图8所示，当喷嘴支架2上设置的喷口b的开口大小不相同时，还可以根据蒸镀需要，通过推动喷嘴支架2上的导向块4在坩祸I上的导向槽3内移动，更换喷口 b，或通过移动改变坩祸开口 a与喷口 b之间的重叠面积，来改变蒸镀速率。
[0051]或者可以在坩祸I上设置导向块4，在喷嘴支架2上设置与导向块4相配合的导向槽
3。这种安装方式与上述在坩祸I上设置导向槽3，在喷嘴支架2上设置与导向槽3相配合的导向块4的方式相比，不同之处仅在于，使得导向块4固定不动，通过推动设置有导向槽3的喷嘴支架2，使得喷嘴支架2相对于坩祸I直线移动，其原理和作用与上述方式相同，此处不再赘述。
[0052]具体的，如图9所示，在坩祸I上设置有支撑轴5，如图10所示(以下图中，以喷嘴支架2上设置有3个喷口 b为例)，喷嘴支架2上设置有与支撑轴5相配合的安装孔c，如图11所示，支撑轴5的上端安装于安装孔c内，并可以与安装孔c相对转动。在此情况下，如图10所示，喷嘴支架2为圆盘状，安装孔c设置在喷嘴支架2的圆心位置处。
[0053]这样一来，当由于喷口b堵塞需要更换时，通过推动喷嘴支架2，使得固定在坩祸I上的支撑轴5与喷嘴支架2上的安装孔c之间相对转动，使得喷嘴支架2相对于坩祸I转动，设置在喷嘴支架2的圆周上的后一个喷口 b可以替换前一个喷口 b与坩祸开口 a重叠继续进行蒸镀。
[0054]同样的，如图10所示，当喷嘴支架2上设置的喷口b的开口大小不相同时，还可以根据蒸镀需要，通过推动喷嘴支架2使得安装孔c以支撑轴5为中心转动，更换喷口 b，或通过转动改变坩祸开口 a与喷口 b之间的重叠面积，来改变蒸镀速率。
[0055]或者可以在坩祸I上设置安装孔C，在喷嘴支架2上设置与安装孔c相配合的支撑轴
5。这种安装方式与上述在坩祸I上设置支撑轴5，在喷嘴支架2上设置与支撑轴5相配合的安装孔c的方式相比，不同之处仅在于，通过推动喷嘴支架2，使得支撑轴5以安装孔c为中心转动，使得喷嘴支架2相对于坩祸I转动，其原理和作用与上述方式相同，此处不再赘述。
[0056]进一步的，如图11所示，当在坩祸I上设置有支撑轴5，在喷嘴支架2上设置有与支撑轴5相配合的安装孔c时，支撑轴5上还安装有轴承6，轴承6的外圈固定在安装孔c内。
[0057]支撑轴5与安装孔c之间通过轴承6相对转动，这样一来一方面可以减小支撑轴5与安装孔c之间在转动时的摩擦力，另一方面，也能够保证转动的精度。
[0058]进一步的，如图12和图13所示(图13为图12的俯视图)，还包括固定在坩祸I上的遮挡板7，遮挡板7包括上挡板71，用于遮挡未与坩祸开口 a重叠的喷口 b的上表面。以下图中均以喷嘴支架2为圆盘状，喷嘴支架上设置有3个喷口 b为例进行详细说明。
[0059]上挡板71固定安装在坩祸I上，并且覆盖未与坩祸开口a重叠的喷口 b的上表面，使得由坩祸I内蒸镀出的蒸镀材料避免沉积在其他未使用的喷口 b的上表面，保证了其他未使用的喷口 b的上表面在使用前没有蒸镀材料沉积而影响使用。
[0060]更进一步的，如图14所示，遮挡板7还包括下挡板72，用于遮挡未与坩祸开口a重叠的喷口 b的下表面。
[0061]下挡板72固定安装在坩祸I上，并且覆盖未与坩祸开口a重叠的喷口 b的下表面，使得由坩祸I内蒸镀出的蒸镀材料避免沉积在其他未使用的喷口 b的下表面，保证了其他未使用的喷口 b的下表面在使用前没有蒸镀材料沉积而影响使用。优选的，上挡板71和下挡板72为一体结构的遮挡板7，这样可以便与遮挡板7在坩祸I上的固定以及上挡板71和下挡板72与未使用的喷口 b的上表面和下表面的对位。
[0062]为了便于喷嘴支架2以及喷嘴支架2上的喷口b的加工，进一步的，如图14和图15所示，在喷嘴支架2的喷口 b内设置喷嘴8。
[0063]这样一来，在加工喷嘴支架2时可以将多个喷口b加工为相同的尺寸规格，当需要向不同方向蒸镀，或以不同开口大小蒸镀时，仅需在喷口 b内安装不同的喷嘴8即可。此外，对于喷嘴8在蒸镀过程中堵塞的情况，还可以不用清洗喷口 b，直接更换喷嘴8。
[0064]本实用新型实施例提供一种蒸镀装置，包括上述蒸镀源。
[0065]手动更换喷嘴8时，需要打开真空腔室，喷嘴8更换完成，再重新抽真空后才可以重新蒸镀，浪费工作时间，同时多次对真空腔室内抽取真空，也导致资源浪费。
[0066]因此，如图16所示，当喷嘴支架2能够相对于坩祸I移动时，蒸镀装置还包括直线电机9，直线电机9的初级92安装于导向槽3内，直线电机9的次级91连接导向块4。
[0067]这样一来，当需要更换喷嘴8时，通过直线电机9的次级91带动导向块4在导向槽3内的直线电机9的初级92上直线移动，使得喷嘴支架2相对于坩祸I移动，即可更换喷嘴8，而不需要打开真空腔室，有效的节省了蒸镀时更换喷嘴8的时间。优选的，可将直线电机9的初级91直接加工与导向槽3内，直线电机9的次级92与导向块4连为一体或用直线电机9的次级92代替导向块4，通过直线电机9带动喷嘴支架2相对于坩祸I移动以更换喷嘴8，节省蒸镀装置的零件数量并保证零件之间的连接稳定性。
[0068]此外，如图17所示，当坩祸I上设置有支撑轴5时，蒸镀装置还包括旋转电机10，旋转电机1的输出轴与支撑轴5连接。
[0069]这样一来，当需要更换喷嘴8时，通过旋转电机10的输出轴带动支撑轴5旋转，使得喷嘴支架2相对于坩祸I转动，即可更换喷嘴8，而不需要打开真空腔室，有效的节省了蒸镀时更换喷嘴8的时间。优选的，可将旋转电机1的输出轴与支撑轴5连为一体或用旋转电机10的输出轴代替支撑轴5，通过旋转电机10带动喷嘴支架2相对于坩祸I转动以更换喷嘴8，节省蒸镀装置的零件数量并保证零件之间的连接稳定性。
[0070]进一步的，如图18所示，本实用新型的蒸镀装置还包括设置于坩祸开口a上方的探测器11，探测器11通过数据线与直线电机9或旋转电机10连接，用于检测蒸镀源蒸镀出的蒸镀材料的速率。
[0071]探测器11包括探头111和处理器112(在图18中，探头111和处理器112集成为一体结构的探测器11)，探测器11设置于坩祸开口 a上方，用于检测由喷嘴8喷出的蒸镀材料的速率，当测得的速率明显减小时，说明在使用中的喷头8发生了堵塞，影响蒸镀材料的喷出，则处理器通过数据线控制直线电机9或旋转电机10启动，更换喷嘴8。
[0072]或者当在同一次蒸镀作业中，需要定时更换喷嘴8的喷射速率或喷射方向时，可以先将符合喷射速率和喷射方向要求的喷嘴8安装在喷嘴支架2上，探测器11的处理器112在到达更换时间时，通过数据线发送信号至控制直线电机9或旋转电机10，通过直线电机9或旋转电机10更换喷嘴8或改变喷嘴8与坩祸开口a之间的重叠面积，以改变喷射出口的大小。
[0073]优选的，本实用新型的蒸镀装置中，所使用的探测器11的探头111为石英晶振片，处理器112为单片机。使用石英晶振片探测喷嘴8处的蒸镀速率，并将探测结果传输至单片机，通过单片机控制电机的工作，这样一来一方面，石英晶振片和单片机的体积较小，在坩祸开口a上方位置处占用的空间较少，可以忽略其对喷嘴8中蒸镀出的蒸镀材的阻挡，另一方面，石英晶振片的探测稳定性好，精度高，单片机的处理速度快，工作稳定。
[0074]进一步的，如图19所示，还可以将探测器11的探头111与处理器112分开设置并通过数据线相连接，其中，探头111设置于坩祸开口 a上方，处理器112设置于真空腔室外部，这样一来可以进一步减小探头111在坩祸开口a上方位置处占用的空间，并且，当为需要定时更换喷嘴8的情况时，可以不设置探头111，仅通过真空腔室外部的处理器112定时通过数据线发送信号至控制直线电机9或旋转电机10，更换喷嘴8或改变喷嘴8与坩祸开口 a之间的重叠面积。
[0075]此外，当蒸镀过程中需要使用角度板调节蒸镀范围时，可以将角度板固定安装在坩祸I上表面或遮挡板7的上挡板71上。同样的，对于蒸镀过程中需要配合使用的其他部件，均可安装在本实用新型蒸镀源或蒸镀装置的相应位置，不影响本实用新型的蒸镀工作。
[0076]当需要使用线型蒸镀源或面型蒸镀源进行蒸镀作业时，也可以通过将本实用新型的点蒸镀源以线型或面型组合为线型蒸镀源或面型蒸镀源。
[0077]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种蒸镀源，其特征在于，包括用于容纳蒸镀材料的坩祸，所述坩祸的上表面设置有坩祸开口，所述坩祸开口的上方安装有喷嘴支架，所述喷嘴支架与所述坩祸的上表面接触； 所述喷嘴支架上设置有N个喷口，所述喷嘴支架用于相对于坩祸转动或移动，以使得所述坩祸开口与所述N个喷口中的一个重叠，N彡I，N为正整数。2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述坩祸上设置有导向槽，所述喷嘴支架上设置有与所述导向槽相配合的导向块;或，所述坩祸上设置有导向块，所述喷嘴支架上设置有与所述导向块相配合的导向槽。3.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述坩祸上设置有支撑轴，所述喷嘴支架上设置有与所述支撑轴相配合的安装孔;或，所述坩祸上设置有安装孔，所述喷嘴支架上设置有与所述安装孔相配合的支撑轴。4.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，当所述坩祸上设置有支撑轴，所述喷嘴支架上设置有与所述支撑轴相配合的安装孔时，所述支撑轴上还安装有轴承，所述轴承的外圈固定在安装孔内。5.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，还包括固定在所述坩祸上的遮挡板，所述遮挡板包括上挡板，用于遮挡未与所述坩祸开口重叠的喷口的上表面。6.根据权利要求5所述的蒸镀源，其特征在于，所述遮挡板还包括下挡板，用于遮挡未与所述坩祸开口重叠的喷口的下表面。7.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷口内设置喷嘴。8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1?7任一项所述的蒸镀源。9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，当所述坩祸上设置有导向槽，所述喷嘴支架上设置有与所述导向槽相配合的导向块;或，所述坩祸上设置有导向块，所述喷嘴支架上设置有与所述导向块相配合的导向槽时，所述蒸镀装置还包括直线电机，所述直线电机的次级连接所述导向块。10.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，当所述坩祸上设置有支撑轴时，所述蒸镀装置还包括旋转电机，所述旋转电机的输出轴与所述支撑轴连接。11.根据权利要求8?10任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括设置于坩祸开口上方的探测器，用于检测所述蒸镀源蒸镀出的蒸镀材料的速率。
【文档编号】C23C14/24GK205662589SQ201620444993
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年5月16日
【发明人】张朝波, 刘亮亮, 唐亮, 田宏伟, 康峰, 白妮妮, 韩帅, 绰洛鹏, 贾敏慧, 闵天圭
【申请人】鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司, 京东方科技集团股份有限公司