高效光学镜片真空溅射镀膜装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于包括：真空镀膜室、非气体捕集式真空泵、气体捕集式真空泵、超高真空阀、气体输入控制阀、泄气阀以及溅射系统，溅射系统包括高压电源、阴极工作台和伸缩阳极工作台，阴极工作台设置于真空镀膜室内部的下侧，且与高压电源负极连接，并由高压电源向所述阴极工作台提供高负偏压，伸缩阳极工作台则设置于真空镀膜室内部的上侧，用于根据不同工件的镀膜要求自动伸缩调节与阴极工作台的溅射距离。本实用新型通过气体捕集式真空泵将工作气体进一步纯化，同时伸缩阳极工作台根据不同镜片的镀膜要求自动调节与阴极工作台之间的最佳溅射距离，从而最大限度地提高镜片真空溅射镀膜的工作效率。
【专利说明】
高效光学镜片真空溅射镀膜装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学镜片镀膜制造技术领域，具体来说是一种涉及高效光学镜片真空溅射镀膜装置。
【【背景技术】】
[0002]随着人们生活水平和安全意识的不断提高，手机、行车记录仪、安全摄像头等普及率也随之提高，然而光学镜片是其手机、行车记录仪、安全摄像头等作为对光折射成像的重要部件，必然也导致光学镜片需求日益增多，而光学镜片镀膜生产过程中，其真空镀膜是一项重要的生产工艺技术，对于光学镜片的生产是否合格起着决定性的作用。
[0003]但是现有的真空溅射镀膜设备一般需要先将溅射真空室抽取到一个合适的真空负载，最常用的方法是向真空室内连续充入一定流量的惰性气体，例如，通常采用较为廉价而且安全的工业氩气，但是由于工业气体存在杂质气体的现象不可避免，因此降低了溅射镀膜过程中真空栗的有效抽速，从而降低了溅射真空室的真空负载，在杂质气体不能被有效地抽除的情况下，对于活泼性较强的的Nb、T1、Al等金属，在溅射镀膜过程中与杂质气体中的02、H2等发生反应，对光学镜片表面薄膜质量造成影响，甚至镀膜失败；另外，现有真空溅射镀膜设备中的阳极工作台与阴极工作台之间的溅射距离无法调节，满足不了不同光学镜片的不同镀膜要求，致使镀膜光学镜片没能够在最合适的溅射环境下高效地完成溅射镀膜工作，于此，对于现有的真空溅射设备存在的不足现象而造成光学镜片真空溅射镀膜工作效率低下的问题，如何提供一种高效光学镜片真空溅射镀膜装置是本领域技术人员一直研究的方向。
【
【发明内容】
】
[0004]针对如何提高光学镜片在真空溅射镀膜工作效率的技术问题，本实用新型的目的在于提供高效光学镜片真空溅射镀膜装置。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现:
[0006]高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于包括:
[0007]真空镀膜室；
[0008]非气体捕集式真空栗，其设置于所述真空镀膜室外部的下方；
[0009]气体捕集式真空栗，其与所述气体捕集式真空栗同设于一侧；
[0010]超高真空阀，其均设置于所述非气体捕集式真空栗和所述气体捕集式真空栗与所述真空镀膜室之间，且配合所述非气体捕集式真空栗及所述气体捕集式真空栗用于对所述真空镀膜室快速抽高真空处理；
[0011 ]气体输入控制阀，其设置于所述真空镀膜室的左侧；
[0012]泄气阀，其设置于所述真空镀膜室的右侧；
[0013]溅射系统，其包括高压电源、阴极工作台和可伸缩调节高度的伸缩阳极工作台，所述阴极工作台设置于所述真空镀膜室内部的下侧，且与所述高压电源负极连接，并由所述高压电源向所述阴极工作台提供高负偏压，所述伸缩阳极工作台则设置于所述真空镀膜室内部的上侧，用于根据不同工件的镀膜要求自动伸缩调节与所述阴极工作台的溅射距离。
[0014]如上所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述溅射系统还包括水冷装置，所述水冷装置设置于所述阴极工作台上，用于对所述阴极工作台接通高负偏压而发热时进行冷却。
[0015]如上所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述伸缩阳极工作台上设有伸出所述真空镀膜室的伸缩推动件，用于调节所述伸缩阳极工作台的伸缩距离。
[0016]如上所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述伸缩推动件上套设有上密封圈和下密封圈，所述上密封圈设置于所述真空镀膜室外部的上表面，所述下密封圈设置于所述真空镀膜室内部的上表面，位于所述上密封圈的下方，其两者相互配合用于固定密封所述伸缩推动件与所述真空镀膜室之间的间隙。
[0017]如上所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述非气体捕集式真空栗为分子栗。
[0018]如上所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述气体捕集式真空栗为吸气剂栗。
[0019]与现有技术相比，上述实用新型有如下优点:
[0020]1、本实用新型通过气体捕集式真空栗将工作气体进一步纯化，大大地提高对溅射真空室抽高真空效率，同时伸缩阳极工作台根据不同镜片的镀膜要求自动伸缩调节与阴极工作台之间的距离，满足于溅射靶材最佳的溅射距离，从而能够最大限度地提高光学镜片真空溅射镀膜的工作效率；
[0021]2、本实用新型通过气体捕集式真空栗将工作气体进一步纯化，大大地降低了活性气体对光学镜片表面薄膜的污染，甚至破坏，提高了薄膜的生长质量，进而提高光学镜片的合格率；
[0022]3、本实用新型通过结构简单，制作方便，从而可以最大限度的减少企业经济成本。【【附图说明】】
[0023]图1是本实用新型高效光学镜片真空溅射镀膜装置的结构示意图。
【【具体实施方式】】
[0024]高效光学镜片真空溅射镀膜装置，包括:
[0025]真空镀膜室I;
[0026]非气体捕集式真空栗2，其设置于所述真空镀膜室I外部的下方；
[0027]气体捕集式真空栗3，其与所述气体捕集式真空栗2同设于一侧；
[0028]超高真空阀4，其均设置于所述非气体捕集式真空栗2和所述气体捕集式真空栗3与所述真空镀膜室I之间，且配合所述非气体捕集式真空栗2及所述气体捕集式真空栗3用于对所述真空镀膜室I快速抽高真空处理；
[0029 ]气体输入控制阀5，其设置于所述真空镀膜室I的左侧；
[0030]泄气阀6，其设置于所述真空镀膜室I的右侧；
[0031]溅射系统7，其包括高压电源71、阴极工作台72和可伸缩调节高度的伸缩阳极工作台74，所述阴极工作台72设置于所述真空镀膜室I内部的下侧，且与所述高压电源71负极连接，并由所述高压电源71向所述阴极工作台72提供高负偏压，所述伸缩阳极工作台74则设置于所述真空镀膜室I内部的上侧，用于根据不同工件的镀膜要求自动伸缩调节与所述阴极工作台72的溅射距离。
[0032]具体地，所述溅射系统7还包括水冷装置73，所述水冷装置73设置于所述阴极工作台72上，用于对所述阴极工作台72接通高负偏压而发热时进行冷却。
[0033]进一步地，所述伸缩阳极工作台74上设有伸出所述真空镀膜室I的伸缩推动件741，用于调节所述伸缩阳极工作台74的伸缩距离。
[0034]更进一步地，所述伸缩推动件741上套设有上密封圈742和下密封圈743，所述上密封圈742设置于所述真空镀膜室I外部的上表面，所述下密封圈743设置于所述真空镀膜室I内部的上表面，位于所述上密封圈742的下方，其两者相互配合用于固定密封所述伸缩推动件741与所述真空镀膜室I之间的间隙。
[0035]更进一步地，所述非气体捕集式真空栗2为分子栗。其优点在于能够大大缩短真空镀膜室的抽真空时间，并可获得无油污染的清洁真空环境。
[0036]更进一步地，所述气体捕集式真空栗3为吸气剂栗。其优点在于能够对工业气体进行进一步地纯化，且其结构简单，操作维护容易。
[0037]本实用新型工作原理:
[0038]将要镀膜的镜片基体9放置于伸缩阳极工作台74上，溅射靶材8放置于阴极工作台72，随之开启非气体捕集式真空栗2将真空镀膜室I抽至满足气体捕集式真空栗3工作要求的真空状态，开启气体捕集式真空栗3，同时关闭非气体捕集式真空栗2，进而开启气体输入控制阀5，向真空镀膜室I室内输送工作气体至满足溅射所需的工作气压，随后关闭气体输入控制阀5，切断工作气体的继续输入，并等待10-20分钟，待工作气体被气体捕集式真空栗3纯化后启动溅射系统7，进而通过伸缩推动件741调节伸缩阳极工作台74与阴极工作台之间的距离，满足于溅射靶材8最佳的溅射距离，随后开启高压电源71，进行溅射镀膜工作，待溅射镀膜结束后，开启泄气阀6，用于泄放真空镀膜室I内部气压至大气环境，取出镜片基体9，完成整一个溅射镀膜工作。
[0039]综上所述对本实用新型的实施方式作了详细说明，但是本实用新型不限于上述实施方式。即使其对本实用新型作出各种变化，则仍落入在本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于包括: 真空镀膜室(I); 非气体捕集式真空栗(2)，其设置于所述真空镀膜室(I)外部的下方； 气体捕集式真空栗(3)，其与所述气体捕集式真空栗(2)同设于一侧； 超高真空阀(4)，其均设置于所述非气体捕集式真空栗(2)和所述气体捕集式真空栗(3)与所述真空镀膜室(I)之间，且配合所述非气体捕集式真空栗(2)及所述气体捕集式真空栗(3)用于对所述真空镀膜室(I)快速抽高真空处理； 气体输入控制阀(5)，其设置于所述真空镀膜室(I)的左侧； 泄气阀(6)，其设置于所述真空镀膜室(I)的右侧； 溅射系统(7)，其包括高压电源(71)、阴极工作台(72)和可伸缩调节高度的伸缩阳极工作台(74)，所述阴极工作台(72)设置于所述真空镀膜室(I)内部的下侧，且与所述高压电源(71)负极连接，并由所述高压电源(71)向所述阴极工作台(72)提供高负偏压，所述伸缩阳极工作台(74)则设置于所述真空镀膜室(I)内部的上侧，用于根据不同工件的镀膜要求自动伸缩调节与所述阴极工作台(72)的溅射距离。2.根据权利要求1所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述溅射系统(7)还包括水冷装置(73)，所述水冷装置(73)设置于所述阴极工作台(72)上，用于对所述阴极工作台(72)接通高负偏压而发热时进行冷却。3.根据权利要求2所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述伸缩阳极工作台(74)上设有伸出所述真空镀膜室(I)的伸缩推动件(741)，用于调节所述伸缩阳极工作台(74)的伸缩距离。4.根据权利要求3所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述伸缩推动件(741)上套设有上密封圈(742)和下密封圈(743)，所述上密封圈(742)设置于所述真空镀膜室(I)外部的上表面，所述下密封圈(743)设置于所述真空镀膜室(I)内部的上表面，位于所述上密封圈(742)的下方，其两者相互配合用于固定密封所述伸缩推动件(741)与所述真空镀膜室(I)之间的间隙。5.根据权利要求4所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述非气体捕集式真空栗(2)为分子栗。6.根据权利要求5所述的高效光学镜片真空溅射镀膜装置，其特征在于:所述气体捕集式真空栗(3)为吸气剂栗。
【文档编号】C23C14/34GK205662593SQ201620480047
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年5月23日
【发明人】杨嘉嘉, 杨文志, 陈招燕, 程亚丽
【申请人】中山市万物文化发展有限公司