技术总结
本实用新型公开了一种数控摆动式匀质浸外釉机，包括底座，所述底座顶部的左侧固定连接有机箱，所述机箱的顶部固定连接有驱动电机，所述驱动电机的输出轴固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆的表面套设有螺纹套，所述螺纹套的左侧设置有限位机构，所述螺纹套的右侧通过安装板固定连接有箱体。本实用新型通过旋转电机、转杆、传动机构、蜗杆、蜗轮、转轴和转盘的配合，将陶瓷放置在转盘，旋转电机的输出轴通过转杆带动第一锥齿轮旋转，第一锥齿轮通过第二锥齿轮和蜗杆带动蜗轮旋转，蜗轮通过转轴带动转盘旋转，对陶瓷表面均匀上釉，保障浸釉品质，从而达到上釉均匀的效果，解决了现有装置上釉不均匀的问题。不均匀的问题。不均匀的问题。
技术研发人员：陈国彬 张日平 江建群 范鹏凯
受保护的技术使用者：江西省康舒陶瓷有限公司
技术研发日：2020.06.09
技术公布日：2021/2/9