专利名称:用化学汽相法于浮法玻璃带底表面上沉积反射膜的制作方法
本发明就总体而论是关于化学汽相沉积法的，但更侧重于反射膜的化学汽相沉积工艺。
美国专利3，681，042〔爱德华兹(Edwards)等〕披露了将一种涂料蒸涂到浮法玻璃表面上的工艺把此种涂料的蒸汽夹带于一热的载体气体流中，而将这样的气体载运的涂料导至处于适宜涂层温度下的，待涂复的浮法玻璃表面上。
美国专利3，850，679〔司波各(Spoko)等〕披露了将一种金属氧化物涂层沉积到热玻璃表面上的方法将载体空气、汽化的溶剂以及汽化的含金属之涂层反应料的混合物，通过一喷嘴涂敷到热的玻璃表面上，此喷嘴的雷诺数超过2500，而喷嘴至玻璃表面的间距至少是喷嘴特征基准尺寸的1.25倍。
美国专利3，852，098〔布洛斯(Bloss)等〕披露了在玻璃基片上涂敷一种含金属的薄膜之方法将玻璃加热并使之与一种气体混合物接触，而这种气体混合物在紧接它与玻璃接触前，由一种反应的金属化合物之蒸汽在其温度下浸透至50%到100%的程度。然后借玻璃把这种气体混合物加热到，足以使该金属化合物在玻璃上沉积成膜层的温度。
美国专利3，888，649〔西蒙汉(Simhan)〕披露了一种细长的收敛形喷嘴，它的收缩比为6和6以上，其壁部的形状使贴着它流经此喷嘴的液体，基本上能在喷嘴的整个通道上得到加速。西蒙汉在另一件美国专利(专利号3，942，469)中则提出了一种壁部具有渐增之曲率半径的细长式收敛形喷嘴。
美国专利4，130，673〔拉尔金(Larkin)〕披露了，将细剖分的或汽化的丁锡化三氯涂敷到加热的玻璃制品上，在其表面形成氧化锡的涂层，然后再复涂以通常的润滑蜡，这样就减小了玻璃的摩擦系数并改进了它的抗划痕本领。拉尔金又在美国专利4，144，362中提出了另一种在加热的玻璃制品上形成氧化锡涂层的方法，这里采用了细剖分的液体的一丁锡化三氯，其中未热解的反应物被回收作以后的重新使用。
美国专利4，206，252〔戈登(Gordan)〕中描述了这样一种透明的玻璃窗，它的第一层涂料是红外反射材料，这上面出现的虹彩现象是借助在玻璃与此涂层间提供一种渐变折射率层而得以显著减弱的。这项发明还包括了这种窗的制造方法。戈登还在美国专利4，294，193中描述了用于生产上述带涂层之玻璃的蒸涂设备，在这种带涂层的玻璃中，玻璃基片与红外反射涂层之间设有一种膜层，它的折射率沿该膜层的厚度方向从玻璃基片到该红外反射涂层连续增加。总的说来，该项专利中所描述之设备是适合从气态反应材料来制备组成渐变的涂层的。
美国专利4，325，988〔瓦格纳(Wagner)〕描述了，从一种尘埃大小的颗粒料涂层反应物(最好是采用一种喷射研磨机加工出的此类粒状料)的烟尘形式，在某种基片表面上生成一种薄膜的方法与设备。美国专利4，344，986〔亨奈利(Henery)〕则披露了一种从粉末状涂层反应料来沉积涂层的方法，这里，在载体气体流中形成了紊流。
美国专利4，401，695〔司波各(Spoko)〕披露了从一种粉末涂料反应物的气流束沉积涂层的方法与设备，其中的载体气体是在高的体积率和低的压力条件下供应的。
本发明对于运行中的浮法玻璃带，提供了一种在其底表面上化学汽相沉积上一种含金属膜层的方法。所用的涂层设备包括一种输出涂层反应料蒸汽的槽式喷嘴，此喷嘴邻近同该设备整体装配的排气收集器。这种输出一排气的整体系统装设在玻璃的输送辊之间。在浮法玻璃带底表面上以化学汽相法沉积一在可见光谱区有反射性的含金属膜，把这种膜同在玻璃带上表面沉积之红外反射膜相结合是特别有用的。
图1是说明由辊12输送玻璃带10之过程的剖面图。涂层反应料蒸汽(未示明)通过室25与分配器22，由喷嘴20输送到玻璃带10的底表面上。整体连接的一台排气装置30将未沉积的蒸汽排走。
图2是一个垂直于图1方向上的图，表明装配有分配器22和喷嘴20的两个相邻的蒸涂室25的结构。以三个部分来阐明此排气装置30，每一部分都有一个与真空装置相连的出口(未示明)。
图3是一个剖面图，示意地说明在浮法生产平板玻璃过程中，在隔板105之下从浮抛用金属液槽出料端100经一批辊筒12送至退火炉110的情形。装配有分配器22、喷嘴20和排气装置30的两个相邻之蒸涂室25则位于两对辊筒12之间。在玻璃带10之上方设有两个涂层器40，将涂层反应料沉积到玻璃带10的上表面。排气装置50则将未沉积的涂层反应料和反应产物排出。
将不连续的玻璃板或最好是连续的浮法玻璃带这样一类玻璃基片，用输送辊沿水平方向通过一涂层站。在浮法玻璃生产过程中，此涂层站最好设于浮抛用金属液槽出料端顶盖与退火炉出口之间。已知有多种多样的在这类玻璃基片的上表面进行涂层的方法，例如高温喷涂、粉末涂层以及化学蒸汽沉积等。本发明则提供一种在玻璃的底表面上进行涂层的方法。根据本发明的要求，涂层设备是装设在一对相邻的传送辊之间，最好是设置在刚刚超过使玻璃带举离浮抛槽中熔融金属之提升辊处。
本发明提出的这种涂层设备包括一带有涂层反应料入口端的窄长的室，室上还有一个出口端，它的长度基本上相当于拟涂层之玻璃区域的宽度。在这一室中供应有载体气体和涂层反应料蒸汽的混合物。涂层反应料最好在进入上述室之前加以汽化，以节省需将蒸发装置设于该室中而要占据的空间。这样的室最好从其圆筒形的入料端起渐次收缩为一锥形，直到成为窄槽形的出料端或喷嘴，后者将汽化的涂层反应料之气体混合物引导至待涂层的玻璃表面上。适合这种用途的喷嘴已在司波各等的美国专利3，850，679以及西蒙汉的美国专利3，888，649与3，942，469中有过详细的描述，其中所披露的内容，本专利已予吸收作为参考。在一个最优的实施例中，在上述的室与喷嘴之间设置有一分配器，用来促进涂层反应料蒸汽沿着喷嘴的长度均匀分布。较佳的一种分配器为一种结构式部件，它置放在该室的出口端上方，具有一批可让蒸汽通入喷嘴的均匀隔开的孔。涂层反应料蒸汽和载体气体的各股射流，最好在此种混合物从喷嘴射出之前加以扩散。可以在喷嘴的入口端用一批扩散器来实现这种扩散，这类扩散器的结构与亨奈利在美国专利4，344，986中给出的粉末涂层器内的紊流器相同，该专利中所披露的内容，这里已收入作为参考。
根据本发明，用化学汽相法沉积到玻璃底表面上的涂层反应料，最好是可热解的有机金属化合物。固然，元素周期表中从Ⅰb族直至Ⅶb族以及Ⅷ族的金属之有机化合物都可采用，例如β-双酮、醋酸盐类、己酸盐类、甲酸盐类，等等，特别是钴、铁和铬一类金属的乙酰醋酸盐，而最好则是锡的有机金属化合物。许多种在环境温度下以固态形式存在的有机金属化合物，都可用作蒸发与化学汽相沉积工艺中的溶液。
在实施本发明所公布的方法中，有广大一类脂族的和烯族的烃类和卤化碳类适用作为此处的溶剂，单一组份的溶剂，特别是采用了二氯甲烷的一种溶剂系统，可有效地用在本发明中。业已发现，采用两种或两种以上溶剂之溶剂系统是特别有效的。可以用来实施本发明的一些有代表性的溶剂为二溴甲烷、四氯化碳、四溴化碳、氯仿、溴仿、1，1，1-三氯乙烷、全氯乙烯、二氯碘甲烷、1，1，2-三溴乙烷、三氯乙烯、三溴乙烯、三氯-氟乙烷、六氯乙烷、1，1，1，2-四氯-2-氯乙烷、1，1，2-三氯-1，2-二氯乙烷、四氟代甲烷、六氯丁二烯、四氯乙烷，等等。也可采用其他的溶剂，特别是作为一种或多种有机极性溶剂的混合物，这些极性溶剂的例子有含有1～4个碳原子与一个羟基以及一或多个芳族非极性化合物(如苯、甲苯或二甲苯)的乙醇。但后述这类材料有挥发性，因而最好是采用前述的卤代烃类以及卤化碳类，不过从经济上考虑，所述具有挥发性的这类材料倒是特别有用的。
在本发明的一个优选实施例中，是将在一种有机溶剂中起反应的有机金属盐所组成之溶液引导到汽化室的。汽化室中有一加热元件能将其周围空间加热到这样一个温度，此温度足以汽化此空间内的涂料溶液，但只有当其中的液体接触到此加热元件本身时才会使液体也汽化。使一种载体气体通过上述加热件后即带走，以阻止涂料与此种气体混合后会提高它的汽化率，同时将蒸汽化的涂料带过加热器而到达待涂层的基片上。溶剂和有机金属涂层反应料从汽化室引导至图中所示的蒸涂室25中。
按照本发明所提出的某些从优选择的有机金属化合物，它们在环境温度下为液态，而且可以在使用时不需要溶剂。特别理想的一种有机金属化合物为一丁锡化三氯，这是一种无色的液体，它的特征参数为常压时的沸点，430°F(221℃);在310°F(154.4℃)的偏压为0.1个大气压;汽化热为14.5大卡，而汽化熵为29.4克劳/摩尔。一丁锡化三氯最好是通过与热的载体气体(一般是空气)接触而汽化，并且最好应保持在约低于400°F(204℃)，一般约为385°F(196℃)之下，以免分解。适合这方面用途的汽化器已在美国专利3，970，037(司波各)与4，297，971(亨奈利)中有过详细描述，作为参考，本专利中引用了其中所披露的内容。
在本发明的一个优选之实施例中，使加热了的载体气体总量中的一部分在汽化室中与一丁锡化三氯混合，此汽化室中设有一个浸没在热油中的管状线圈。涂料反应物蒸汽与载体气体的高度饱和之反应物，这时以从室中至喷嘴的另外的已加热之载体气体稀释，而此喷嘴是把涂层反应料输送至玻璃表面上的。
此玻璃表面所处的温度足以使有机金属涂层反应料起反应，并在玻璃表面上沉积成一层薄膜，此温度至少为400℃(752°F)，而最好约为550至600℃(1022～1112°F)。在此玻璃表面上接附有一相对静止的气体层，即所谓界面层，它的温度从涂层站的环境温度〔约200～300℃(约392～572°F)〕渐变到玻璃的表面温度〔约400～600℃(约752～1112°F)〕。这一界面层的表观厚度约小于1毫米。在以往工艺的化学汽相沉积法中，涂层反应料的蒸汽是输送到玻璃表面，而反应的副产物则被排出，经过上述界面层而扩散。与此相反，按照本发明，从喷嘴射出的涂层反应料蒸汽-载体气体的一股窄射流形成了破坏此界面层的紊流，加速了涂层反应料在玻璃表面沉积成薄膜的接触与反应。较理想的喷嘴已详述于司波各等的美国专利3，850，679以及西蒙汉的美国专利3，888，649中，所披露的内容已综合在本专利中作为参考。
根据本发明，当涂料蒸汽从喷嘴出发而流向玻璃表面时，表征此蒸汽流的雷诺数高到足以保证产生破坏上述界面层的紊流。此雷诺数NRe由下述方程定义NRe＝W·σ·L/η雷诺数是无量纲的。符号W、σ与η分别表示流动蒸汽的流速、密度和动态粘度;L则是在其他变数已确定的点上所定义之特征长度。根据水力学的已知原理，与所定义的方式有关的特征长度L乃是一种水力学意义下的直径，定义为喷嘴出口横截面积的四倍除以此喷嘴出口的湿润周长。有关的流速、密度和蒸汽粘度都在以上方程中表征为这些性质在喷嘴出口处的数值。至少约为1700的雷诺数可保证产生紊流，而当雷诺数大于2500时则会更好，还可进一步保证均匀性。
为了使未反应的或未沉积的涂层反应料或反应的副产物对沉积的薄膜污染之可能性减到最小，本发明中提出的涂层设备包括有整体装配的排气装置。与喷嘴邻接并基本上是沿着此喷嘴的整个长度上，设有一个保持在负压下的孔，以用来提供排气装置，将未反应或未反应沉积的涂层反应料以及反应副产物从涂层作业处排出，借以使新涂层的表面或将涂层的表面不致受到污染。排气装置也有助于在涂层位置处形成紊流以破坏界面层。由于本发明中的化学汽相沉积法并不取决于涂层反应料蒸汽通过正常的界面层而扩散，因而不会受到象布洛斯等在美国专利3，852，098中所披露的那种，具有高的汽化熵之涂层反应料的限制，上述专利中公布的内容已综合在本专利中作为参考。
在一个经特别选定的本发明之较佳实施例中，本发明中提出的方法与设备是用来将一层薄膜沉积到玻璃的底表面上，而基本上是在同时于玻璃的上部表面沉积另一层薄膜。玻璃的上表面，可以用任何一种已知的方法例如高温喷涂和粉末涂层等，涂以此工艺中周知的任何一类薄膜材料，例如金属和金属氧化物等。
在本发明的大多数优选实施例中，本发明的方法与设备则是用来在玻璃带的底表面上沉积一层在可见光谱区有较高反射率的金属氧化物膜，而在玻璃带的上表面则沉积一层红外反射膜。具体地说，本发明特别适合用化学汽相沉积法，将一层在可见区有高反射率的例如氧化锡的薄膜，沉积到玻璃的底表面，用以掩蔽上表面上例如较厚的氧化锡膜一类红外反射膜所产生的干涉色效应。本发明特别适用于以化学上汽相沉积法，将一种基本上是无色的在可见光谱区有高透过率的，掩蔽干涉色之薄的氧化锡膜层，沉积于浮法玻璃带的底表面上，同时，结合热解沉积法，把一层较厚的红外反射的氧化锡膜沉积到此玻璃带的上表面。
依据本发明的那种氧化锡反射膜，它的电阻率小于约110欧/平方单位，而更好是小于约60欧/平方单位，同时具有低的发射率，最好小于0.4。选定薄膜的厚度，使之对应于光谱反射曲线上的最小值，这一曲线是把光谱反射率作为膜厚的函数而绘制的。薄膜的厚度最好对应于光谱反射率曲线上第一个最小值，因为此最小值所在的点代表了由氧化锡膜所能得到的最低可见反射率。这一点对应于厚度约1400埃处的二级兰色干涉效应。涂层工艺参数可加以调节，使之在提供最大红外反射率和最小发射率的一定厚度条件下，产生最小的电阻率。要是为了发挥较高的太阳能性能而需要较低的电阻率时，则可形成一较厚的红外反射氧化锡膜，较理想的是使其厚度接近光谱反射率曲线上的第二个最小值，而最好是使此厚度对应于厚约2750埃处的三级兰色干涉效应。
在本发明所优选的实施例中，当其中的氧化锡红外反射膜对应于光谱反射率曲线上第一个最小值的厚度时，此种薄膜由于干涉效应通常呈兰色，而电阻率一般约为45～50欧/平方单位。为了掩蔽玻璃上表面的红外反射氧化锡膜的可见虹彩现象，在玻璃的底表面上涂以一层均匀的且反射率要高得多的薄膜，较理想的情形是使其光谱反射率大于约15%，而最好是大于约18%～20%。理想的掩蔽膜应是无色的，即它在可见光波长范围应具有相当平坦的光谱区线，而它的反射亮度应接近1.0。如果采用较厚的红外反射膜，例如电阻率为20～30欧/平方单位而反射率约为12%的一种氧化锡膜，则会由于干涉效应而呈现红兰色，这时就需要用一种低发射率和高反射的掩蔽膜，例如光谱反射率大于约25%的一种氧化钛膜。
根据本发明，干涉掩蔽膜中的理想者除了无色和具有比红外反射膜更高的可见光谱区之反射率外，还应是非吸收的，即它的吸收系数要小于25%，以保证对可见光有一高的透过率。最终的制品包括一片透明的玻璃、一层氧化锡的红外反射膜以及一层基本上为无色的掩蔽膜，理想的情形应有至少约60%的可见光透过率，而更好应具有约70%的透过率以适应住宅使用。干涉掩蔽膜的问题在密歇洛蒂(Michelotti)与亨奈利所申请的专利(申请系列号No.518，592，申请日期一九八三年七月二十九日)有了详细描述，所披露的内容已综合于本专利中作为参考。玻璃带上表面的红外反射氧化锡膜最好用粉末状的涂层反应料涂敷，详见美国专利4，325，988(瓦格纳)与4，344，986(亨奈利)，而最好是参看美国专利4，401，695(司波各)，有关其间所披露的内容已综合在本专利中作为参考。
本发明将通过下面对具体实例所作的描述而得到更深入的了解。
例Ⅰ在实验室规模的一项试验中，将液态的一丁锡化三氯注入到一股载体空气气流中，加热到300至350°F(约149至177℃)，使之汽化。在5～10磅/平方英寸的压力下，把一丁锡化三氯的蒸汽输送到已加热的歧管中，后者通过一强制通风室将蒸汽分配给喷嘴，再由此喷嘴将蒸汽导引到待涂层的玻璃基片之底表面。上述系统经设计成能使蒸汽在喷嘴的全长上有均匀分布。喷嘴为窄槽形的，14英寸(约36厘米)长，1/8英寸(约3厘米)宽，离待涂层之玻璃表面的间距为5/16英寸(约8毫米)。喷嘴设计成能提供气体混合物的紊流。此喷嘴按每平方英尺待涂玻璃表面依1.28立方厘米的比例供应涂层反应料，而载体空气的供应率为2.33标准立方英尺/平方英寸待涂玻璃。大小为16×40英寸(约40.6×101.6厘米)的玻璃基片按240英寸(6.1米)/分的线速度进行涂层。涂层中的玻璃表面温度保持在1075°F(约579℃)。涂层反应料蒸汽和空气的混合物在与玻璃表面接触而沉积了一层氧化锡膜后，即沿玻璃表面顺着垂直于喷嘴的长度方向流向与此喷嘴邻接的整体装配的排气收集室中。此排气系统是在0.5英寸(12.7毫米)水柱的负压下工作。迅速地除去未反应的和(或)未沉积的涂层反应料以及(或)反应的副产物，使涂层过程的污染减到了最小限度，而这种污染会在涂层完的产品上造成辊子压痕一类玻璃缺陷。本例中的氧化锡涂层的最终厚度为600埃，无色，无纹理，光谱反射率约为20%。
例Ⅱ按照图1与图2中示意而建立的工业规模的涂层工艺。将液态的一丁锡化三氯混以等体积的一种溶剂，后者又含有等体积的二氯甲烷和三氯乙烯。涂料反应剂溶液的供给速率为每英尺喷嘴长度每分钟37立方厘米，而载体空气的供应速度为每英尺喷嘴长度每分钟32标准立方英尺。涂层反应料-载体空气混合物通过一汽化室，此汽化室包含有30英尺(约9.1米)长，1英寸(2.54厘米)直径的铜管，铜管浸没于385°F(196℃)的油中。涂层反应料蒸汽-载体气体的混合物通过一4英寸(10厘米)直径的入口端进入上述汽化室。此汽化室在两个方向上的尺寸逐渐缩小到一槽形的出口端，后者的大小为约3英尺(0.91米)乘1英寸(2.54厘米)。在汽化室与喷嘴之间有一个分配器，此分配器包括一T形带，上面设有相隔1l/2英寸(3.8厘米)的3/4英寸直径的孔，用来保证蒸汽均匀分配给喷嘴。本例中的喷嘴所具之槽形出口部，长为3英尺(0.91米)而宽为0.12英寸(约3毫米)。此喷嘴的出口端离待涂层的玻璃表面之间距为3/4英寸(约为1.9厘米)。玻璃带到达涂层站之前的表面温度经测定约为1100°F(约合593℃)。在喷嘴出口端测量的涂层反应料蒸汽-载体空气混合物的温度约为350°F(约167℃)。本例中的浮法玻璃带厚为4.5毫米，以215英寸(约5.5米)/分的线速度进行涂层。涂层反应料蒸汽-载体气体混合物接触玻璃表面后，即经由一整体连接的排气系统除去，此排气系统与喷嘴相邻且平行，保持在1.8英寸(4.6厘米)水柱的负压下。在玻璃带的表面上沉积了一层银亮的兰色氧化锡膜，它的电阻率约为5000欧/平方单位，而光谱反射率约为18%。
例Ⅲ用例Ⅱ中的化学汽相沉积法于浮法玻璃带的底表面上，沉积一层氧化锡反射膜，不同之处只是涂层反应料对溶剂之比为1∶10，而溶剂采用了全氯乙烯。同时，用热解法在玻璃的上部表面沉积了一层较厚的红外反射氧化锡膜。本例中，将粉状的二丁锡化二氟涂敷到玻璃的上表面，而将汽化的一丁锡化三氯涂敷到玻璃的底表面，这时应用图3中所示的成对涂层器，沿着此玻璃带的连续长度，涂以6英尺(1.8米)宽的部分。在上部表面的氧化锡涂层，要沉积到这样一个较佳的厚度，使之具有一般为8%的最低反射率，呈现出二级的兰干涉色，而表面电阻率要小于110欧/平方单位，最好约为60欧/平方单位。玻璃带上部表面上的涂层乃是一层有效的红外反射膜，它能为涂了层的玻璃提供低的反射率，而底部的涂层则具有充分的无色性与反射性，能掩蔽上部表面涂层的干涉色。上下这两层膜组合的反射率可以低到使这一已涂层的透明玻璃基片，成为一种高透过率的制品，约具有70%的光谱透过率。
以上例子是用来阐明本发明的。根据本发明提出的这些方法，可以采取各种各样的涂层反应料、溶剂、载体气体和反应条件，用来沉积广大一类含金属的薄膜。在不偏离按后述权利要求
所规定的本发明的概括范围之前提下，可就所阐明的设备，例如在尺寸、外形、涂层器的数目和位置等方面作出改进。
权利要求
1.根据本发明提出的为一种玻璃基片进行涂层的方法，包括以下各道工序a将所述的玻璃基片保持在一个基本成水平的位置上；b将所述的玻璃基片保持在这样一个温度下，足以使汽化的涂层反应料起反应而在此玻璃表面上沉积一层薄膜；c使涂层反应料汽化；d提供一种喷嘴，它的结构可使汽化的涂层反应料形成紊流；e用上述喷嘴将该汽化的涂层反应料输送到此玻璃基片的底表面上，而该反应料即在此底表面上反应沉积成一层薄膜；f提供了与喷嘴邻接的整体装配的排气装置；g使上述排气装置保持在负压下；h通过此排气装置将未反应的和未沉积的涂层反应料蒸汽以及反应过程的副产物撤除。
2.按照权利要求
1所提出的一种方法，其中谈到的玻璃是涂以一层含金属的薄膜。
3.按照权利要求
2所提出的一种方法，其中谈到的玻璃是涂以一层金属氧化物膜。
4.按照权利要求
2或3所提出的一种方法，其中谈及的涂层反应料乃是一种有机金属化合物。
5.按照权利要求
4所提出的一种方法，其中所说的涂层反应料是通过与一种载体气体混合和加热而汽化。
6.按照权利要求
5所提出的一种方法，其中所说的载体气体包括空气。
7.按照权利要求
2至6的任何一项所提出的一种方法，其中提及的玻璃是涂以一层氧化锡膜。
8.按照权利要求
7提出的一种方法，其中所谓的有机金属涂层反应料是一丁锡化三氯。
9.按照权利要求
8提出的一种方法，其中，一丁锡化三氯溶解在一种溶剂中，而合成的溶液是可汽化的。
10.按照权利要求
9提出的一种方法，其中说到的溶剂是二氯甲烷、三氯乙烯、全氯乙烯或它们的混合物。
11.按照本发明所提出的一种，用于生产高透过率、低反射率的涂层玻璃制品的方法，包括以下各道工序a 使玻璃基片在一基本上成水平的位置之条件下运送过一涂层区域;b 将上述玻璃基片保持到这样一个温度下，足以使含金属的涂层反应料起反应，并在此基片的表面上沉积一层含金属的薄膜;c 使上述玻璃基片的表面与含金属的涂层反应料接触，后者起反应而在此表面沉积一层红外反射金属膜，这层膜在反射时呈现出一种可见的干涉色效应;d 使此玻璃基片的底表面基本上是与上述过程同时地接触到一种汽化的含金属之涂层反应料，后者反应沉积成一层有较高反射率的金属氧化物膜，这层膜能掩蔽基片上表面之红外反射金属氧化物膜的可见干涉色效应。
12.按照权利要求
11提出的一种方法，其中，在玻璃底表面上的反射性金属氧化物膜，是氧化锡膜或氧化钛膜。
13.按照权利要求
12提出的一种方法，其中，玻璃底表面上的膜料乃是由汽化一丁锡化三氯所形成的氧化锡。
14.按照权利要求
11至13中任何一项所提出的方法，其中，玻璃的上部表面膜是这样的氧化锡膜，它的表面电阻率不大于110欧/平方单位，而它的光谱反射率不大于12%。
15.按照权利要求
14所提出的一种方法，其中，玻璃上部表面的氧化锡膜是由热解一种粉末的有机化合物而形成。
16.按照权利要求
15所提出的一种方法，其中的有机化合物是二丁锡化二氟。
17.按照权利要求
11至16中任何一项所提出的一种方法，其中，玻璃底表面上薄膜的光谱反射率是从15%至21%。
18.按照权利要求
17提出的一种方法，其中，最终获得的已涂层制品以透明玻璃为基片，光谱透过率为68%至72%，从上表面之氧化锡涂层而产生的光谱反射率为8%至12%，同时产生有兰干涉色效应;而从底表面上基本上为无色的氧化锡涂层则得到15%至21%的光谱反射率，而这一膜层则掩蔽着上部红外反射氧化锡涂层的干涉色效应。
19.按照本发明所提出的一种在基片表面上沉积薄膜的设备，包括a 使涂层反应料汽化的设备;b 将此汽化的涂层反应料输送到该基片表面上的装置，此装置含有一个具有槽形的出口，槽形出口的长度基本上与待涂层之基片表面的宽度相当，并能形成紊流;c 与上述喷嘴邻接的排气装置，此装置基本上是完全沿着此喷嘴的长度而延伸的。
20.按照权利要求
19所提出的一种设备，其中，设计用来输送所说已汽化的涂层反应料之喷嘴，其雷诺数至少为1700。
21.按照以上所述权利要求
中的任何一项中所提出的方法或设备而生产出的一种已涂层之玻璃基片。
专利摘要
用化学汽相沉积法在玻璃带底表面沉积一层含金属膜的方法与设备，其中包括提供一种其结构能使汽化涂层反应料形成紊流并借此形成薄膜的喷嘴以及一种与以上喷嘴邻接的将未反应与未沉积的涂层反应料蒸汽以及副产物排出的排气装置，另外提供一种方法使所述玻璃基片的上表面与一种金属反应料接触形成一层红外金属氧化物膜，而在此玻璃基片底表面形成的另一种反射率较高的金属氧化物膜掩蔽着前者的可见干涉色效应。
文档编号C03C17/09GK85106614SQ85106614
公开日1987年2月4日 申请日期1985年8月2日
发明者乔治·埃尔伍德·斯莱特 申请人:Ppg工业公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan