一种阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属化学材料技术领域，具体说是阳光控制膜玻璃及制备技术。
【背景技术】
[0002]如何在室内采光良好的请况下，将玻璃能量损失减至最低，是低辐射镀膜玻璃最基本要求。在低辐射玻璃族中，阳光控制低辐射玻璃是一种既具有低辐射性能又具有阳光控制功能的镀膜玻璃，阳光控制是指对透过玻璃进入封闭空间的阳光按不同波段反射、透过、吸收，低辐射是指通过减少热传递到低辐射表面或由该表面发出的热辐射，抑制该制品表面对中波段红外线区辐射的吸收和发射，使该表面成为中波段红外线的反射镜，减少透过该制品的热通量。在线制备低辐射镀膜玻璃，规模大，成本低，易量产，是符合国家节能减排政策的先进技术。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法。
[0004]本发明的技术方案为:一种阳光控制低辐射镀膜玻璃，通过化学反应在玻璃带基片表面沉积含氟、锑的氧化锡底膜层，在所述的氧化锡底膜层上再沉积一层含氟的氧化锡表膜层，得到含上述底膜层、表膜层的双膜层玻璃；一般底膜层的厚度为220-250nm、表膜层的厚度为280-300nm;
[0005]进一步技术方案为:一种阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于以下步骤:
[0006]第一步在玻璃成型锡槽窄段内部玻璃带基片上方设置两台镀膜器，按照玻璃运行方向，在其前端的用于底膜层镀膜器，在其后端的用于表膜层镀膜器，所述两镀膜器下表面标高一致且与玻璃带基片平行，镀膜器设置在锡槽内部温度段是625°C -640°C ;
[0007]第二步将三氟乙酸、三氯化锑溶液在底膜层镀膜液容器混合，然后汽化，汽化温度是170°C，用空气作载体与水蒸气混合，通入底膜层镀膜器，上述混合液通过底膜层镀膜器下方的通气道喷在玻璃带基片表面，在玻璃带基片表面沉积含氟、锑的氧化锡底膜层；
[0008]第三步在第二步沉积含氟、锑的氧化锡底膜层的同时，将三氟乙酸溶液在表膜层镀膜液容器汽化，汽化温度是170°C，用空气作载体与水蒸气混合，通入表膜层镀膜器，上述混合液通过表膜层镀膜器下方的通气道喷在玻璃表面的含氟、锑的氧化锡底膜层上，沉积含氟的氧化锡表膜层，送出玻璃锡槽得到低辐射镀膜玻璃。
[0009]本方法得到的阳光控制低辐射镀膜玻璃，可见光透过率高，紫外线、中波段红外线透过率低，有较低的遮蔽系数，用在建筑物窗户上，夏冬季均能保持很好的舒适度，减少建筑物能耗，是较先进的节能减排技术，具有较高的实用价值和经济价值。
【附图说明】
[0010]图1是阳光控制低辐射镀膜玻璃截面示意图；
[0011]图2是阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法流程示意图。
[0012]玻璃带基片1，底膜层2，表膜层3，底膜层镀膜器4，底膜层镀膜器通气道41，表膜层镀膜器5，表膜层镀膜器通气道51，双膜层玻璃6，玻璃运行方向7。
【具体实施方式】
[0013]为使对本发明的步骤及内容有更进一步的了解与认识，如图1、2所示，用较佳的实施例配合详细的说明如下:
[0014]将底膜层镀膜器4、表膜层镀膜器5两台镀膜器设置在玻璃成型锡槽内的窄段玻璃带基片I上方，按照玻璃带基片I运行方向7，在其前端的用于底膜层2镀膜器4，在其后端的用于表膜层3镀膜器5，所述两镀膜器下表面标高一致且与玻璃带基片I平行，该处温度大约 625 °C -640 °C。
[0015]将含三氟乙酸O?5%溶液、三氯化锑5?10%溶液分别加入底膜层镀膜液容器中，加热汽化，汽化温度是170°C，用气流速度大约0.9m/s，该气体流量大约6.5m3/h，将三氟乙酸与三氯化锑的混合物通过底膜层镀膜器4的通气道41，喷向玻璃带基片1，沉积形成含氟、锑的氧化锡底膜层2 ;由于玻璃带基片I运动方向7是从底膜层镀膜器4向表膜层镀膜器5移动，在镀底膜层2的同时，将含三氟乙酸5%溶液加入表膜层镀膜液容器中，加热汽化，汽化温度是170°C，用气流速度大约0.9m/s，该气体流量大约6.5m3/h将三氟乙酸通过表膜层镀膜器5的通气道51，喷向已沉积底膜层2玻璃带基片I上沉积含氟的氧化锡表膜层3，得到含上述底膜层、表膜层的双膜层玻璃6，送出锡槽得到阳光控制低辐射镀膜玻璃。经过上述步骤得到的底膜层的厚度为220-250nm，表膜层的厚度为280_300nm。
[0016]在进一步试验中，制底膜层的三氟乙酸3%溶液、三氯化锑8%溶液混合汽化，重复上述混合喷涂沉积步骤，得到的底膜层约240nm，其使用效果很好；制表膜层三氟乙酸溶液浓度还可以是6%，重复上述混合喷涂沉积步骤，得到的表膜层约290nm，其使用效果更好。
【主权项】
1.一种阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片，含氟、锑的氧化锡底膜层，含氟的氧化锡表膜层，在玻璃带基片表面是含氟、锑的氧化锡底膜层，含氟的氧化锡表膜层在所述氧化锡底膜层上面。2.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述底膜层的厚度为220_250nm。3.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述表膜层的厚度为280_300nm。4.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述底膜层的厚度为240nmo5.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述表膜层的厚度为290nm。6.一种阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于以下步骤: 第一步在玻璃成型锡槽窄段内部玻璃带基片上方设置两台镀膜器，按照玻璃带基片运行方向，在其前端的用于底膜层镀膜器，在其后端的用于表膜层镀膜器，所述两镀膜器下表面标高一致且与玻璃带基片平行； 第二步将三氟乙酸0-5%、三氯化锑5.2-10%溶液加入底膜层镀膜液容器混合，汽化温度是170°C，汽化后用空气作载体与水蒸气混合，通入底膜层镀膜器，上述混合液通过底膜层镀膜器下方的通气道喷在玻璃带基片表面，在玻璃带基片表面沉积含氟、锑的氧化锡底膜层； 第三步在第二步沉积含氟、锑的氧化锡底膜层的同时，将三氟乙酸5%溶液加入表膜层镀膜液容器，汽化温度是170°C，汽化后用空气作载体与水蒸气混合，通入表膜层镀膜器，上述混合液通过表膜层镀膜器下方的通气道喷在已含氟、锑的氧化锡底膜层玻璃带基片表面上，沉积含氟的氧化锡表膜层，送出玻璃锡槽得到低辐射镀膜玻璃。7.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于镀膜器设置在锡槽内部温度段是625°C -640°C。8.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于上述第二步制底膜层的是三氟乙酸3%溶液和三氯化锑8%溶液。9.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于上述第三步制表膜层是三氟乙酸6%溶液。
【专利摘要】一种阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法，用常压化学气相沉积法将汽化的液态气体喷涂在625℃-640℃左右的玻璃表面，热解生成含掺杂剂锑的近红外阳光吸收底层，和含掺杂剂氟的对中远红外具有反射低热辐射控制层；它是一种既具有低辐射性能又具有阳光控制性能的镀膜玻璃，该膜层对透过玻璃的阳光分不同波段进行反射、透过、吸收，减少透过玻璃的热通量，减少并降低能耗，符合国家节能减排政策。
【IPC分类】C03C17/34, C03C17/23
【公开号】CN104944797
【申请号】CN201510355115
【发明人】吴昌飞, 艾蒙雁
【申请人】芜湖市晨曦新型建材科技有限公司
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2015年6月24日