一种光学玻璃熔炼坩埚的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学领域制造领域，具体是一种用于制造光学玻璃的坩埚。
【背景技术】
[0002]钼坩埚可熔炼质量较高、对粘土坩埚有严重侵蚀作用的玻璃，如重冕、重钡火石、稀土玻璃和氟磷玻璃。钼坩埚用电加热，一般采用硅碳棒或硅钥棒电炉。但制造析晶倾向大、要求迅速降温以及对气氛有一定要求的玻璃，则可采用高频加热。
[0003]光学玻璃的成型法有古典破埚法、滚压法和浇注法，但目前越来越广泛地采用漏料成型，用单坩埚或连熔流出料液，能直接拉棒或滴料压型或漏料成型大尺寸的毛坯，提高料滴利用率和成品率。
[0004]传统方式的光学玻璃的单坩埚生产多采用桨叶式搅拌器搅拌，并且埚体采用单一圆柱型设计，但单一圆柱型埚体设计，会使搅拌器露出玻璃液时的玻璃液残留量变多，从而影响产品的良品率。另外，对于某些挥发性较强的玻璃品种，敞开式的单埚体设计，会导致坩埚内玻璃液上下层存在成分差异，从而影响光学玻璃的内部均匀性和产品的稳定性。
[0005]此外，光学玻璃的熔制温度一般均在1000度以上高温，所以坩埚需要采用耐高温的材质制成，60年代以来，各国相继采用内衬钼的连续池窑熔炼，使光学玻璃的产量大大提高，质量也好，这是目前光学玻璃生产工艺发展的主要趋势。但钼金材质价格昂贵，要求投资大，难易承受。
【发明内容】
[0006]为了解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种能够使单坩埚内部与大气密封隔绝的，同时能够提高玻璃均化效果的密闭型光学玻璃熔炼坩埚且成本低的用于生产光学玻璃的?甘祸。
[0007]本实用新型一种光学玻璃熔炼坩埚的具体技术方案是:
[0008]一种光学玻璃熔炼坩埚，包括埚体，所述的埚体包括大埚腔及该大埚腔底部中央下凹的小埚腔；大埚腔的上端口设有密封槽及与该密封槽配合的密封盖；还包括搅拌器，搅拌器的叶片位于小埚腔内；小埚腔底部设有漏料管；大埚腔上设有通气管；所述锅体包括最外层的金属基体层、最内层的耐高温层、及设置在该耐高温层与金属基体层之间的真空腔体层。
[0009]所述的大埚腔及小埚腔均为圆柱型体。
[0010]所述的通气管横向设置在大埚腔下部侧壁上。
[0011 ] 所述的密封槽位于大埚腔上端口的外侧。
[0012]所述的耐高温层的厚度为5?20mm。
[0013]所述的金属基体层与耐高温层一体成型。
[0014]本实用新型的有益效果:
[0015]本实用新型在现有由埚体、漏料管、搅拌器构成的光学玻璃熔炼坩埚的基础上，将埚体设计成大埚腔及位于大埚腔底部中央的小锅腔，大锅腔的上端口设有密封槽及密封盖，搅拌器叶片位于小锅腔内，漏料管设置在小锅腔的底面上，大锅腔上设有通气管，因而在进行光学玻璃熔炼时向大锅腔上端口密封槽内加入与埚体内所熔炼玻璃相同品种的玻璃(多采用玻璃渣加入)，在密封槽内玻璃熔化成玻璃液时可实现坩埚内部与大气密封隔绝，同时，搅拌器叶片在小锅腔中搅拌，可避免在出炉过程中搅拌器叶片会因玻璃液逐渐减少而过早露出，增强搅拌效果，提高产品的良品率。本实用新型具有使单坩埚内部与大气密封隔绝，又同时能够提高玻璃均化效果的特点。
[0016]另外，埚在金属基体层内设置耐高温层，并在金属基体层与耐高温层之间采用真空层隔离，使得坩埚既能满足耐高温要求，而且降低了材料成本，耐热性能也得到提高。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型一种光学玻璃熔炼坩埚的结构示意图；
[0018]其中，1、大锅腔；2、小锅腔；3、密封槽；4、锅盖；5、搅拌器；6、搅拌叶；7、漏料管；8、排气管；9、金属基体层；10、耐高温层；11、真空腔体层。
【具体实施方式】
[0019]现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0020]如图1所示，本实用新型一种光学玻璃熔炼坩埚，包括埚体，所述的埚体包括大埚腔I及该大埚腔底部中央下凹的小埚腔2 ;大埚腔I的上端口设有密封槽3及与该密封槽3配合的密封盖4 ;还包括搅拌器5，搅拌器5的叶片6位于小埚腔2内；小埚腔2底部设有漏料管7 ;大埚腔I上设有通气管8 ;所述锅体包括最外层的金属基体层9、最内层的耐高温层10、及设置在该耐高温层10与金属基体层9之间的真空腔体层11。
[0021]进一步的，所述的大埚腔I及小埚腔2均为圆柱型体。
[0022]进一步的，所述的通气管8横向设置在大埚腔I下部侧壁上。
[0023]进一步的，所述的密封槽3位于大埚腔I上端口的外侧。
[0024]进一步的,所述的耐高温层10的厚度为5?20mm。
[0025]进一步的，所述的金属基体层9与耐高温层10 —体成型。
[0026]以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
【主权项】
1.一种光学玻璃熔炼坩埚，包括埚体，其特征在于:所述的埚体包括大埚腔(I)及该大埚腔底部中央下凹的小埚腔(2);大埚腔(I)的上端口设有密封槽(3)及与该密封槽(3)配合的密封盖(4);还包括搅拌器(5)，搅拌器(5)的叶片(6)位于小埚腔(2)内；小埚腔(2)底部设有漏料管(7);大埚腔(I)上设有通气管(8);所述锅体包括最外层的金属基体层(9)、最内层的耐高温层(10)、及设置在该耐高温层(10)与金属基体层(9)之间的真空腔体层(11)。
2.根据权利要求1所述的一种光学玻璃熔炼坩埚，其特征在于，所述的大埚腔(I)及小埚腔(2)均为圆柱型腔体。
3.根据权利要求1所述的一种光学玻璃熔炼坩埚，其特征在于，所述的通气管(8)横向设置在大埚腔(I)下部侧壁上。
4.根据权利要求1所述的一种光学玻璃熔炼i甘祸，其特征在于，所述的密封槽(3)位于大埚腔(I)上端口的外侧。
5.根据权利要求1所述的一种光学玻璃熔炼坩埚，其特征在于，所述的耐高温层(10)的厚度为5?20mm。
6.根据权利要求1所述的一种光学玻璃熔炼坩埚，其特征在于:所述的金属基体层(9)与耐高温层(10)—体成型。
【专利摘要】本实用新型涉及光学领域制造领域，具体是一种用于制造光学玻璃的坩埚。一种光学玻璃熔炼坩埚，包括埚体，所述的埚体包括大埚腔及该大埚腔底部中央下凹的小埚腔；大埚腔的上端口设有密封槽及与该密封槽配合的密封盖；还包括搅拌器，搅拌器的叶片位于小埚腔内；小埚腔底部设有漏料管；大埚腔上设有通气管；所述锅体包括最外层的金属基体层、最内层的耐高温层、及设置在该耐高温层与金属基体层之间的真空腔体层。本实用新型具有使单坩埚内部与大气密封隔绝，又同时能够提高玻璃均化效果的特点，而且降低了材料成本，耐热性能也得到提高。
【IPC分类】C03B5-08
【公开号】CN204385040
【申请号】CN201420446017
【发明人】汤志平
【申请人】南通晶鑫光学玻璃有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2014年8月8日