一种坩埚喷涂防护装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及坩祸喷涂技术领域，具体涉及一种坩祸喷涂形核粉高效配套装置。
【背景技术】
[0002]现有技术中，坩祸喷涂是多晶铸锭技术重要的环节之一。尤其对坩祸底部进行喷涂形核粉处理从而得到高效硅锭，对喷涂技术要求则更加重要。正常的喷涂时，是在氮化硅脱模剂喷涂完成后，直接在对侧边未进行保护的情况下，正常形核粉的喷涂;喷涂时由于雾化效果，部分形核粉则会喷到侧壁靠底，而底部形核所需的黑粉纯度较低，使得硅锭侧壁受到污染，影响娃锭品质。
[0003]因此需要有一种喷涂装置，针对坩祸底部喷涂形核粉时，能够有效的避免形核粉喷至侧壁影响娃锭品质。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提供一种坩祸喷涂防护装置，它在喷涂高效坩祸底部形核粉时，可有效避免形核粉喷至侧壁而影响硅锭品质，能够达到提高产品品质的效果。
[0005]本实用新型的目的是通过以下装置实现的:
[0006]一种坩祸喷涂防护装置，包括防护板，其特征在于:所述防护板形成环接的方形管筒，两端均为开放结构，在其一端，设置有外翻沿，使用时，外翻沿挂于石英坩祸壁上端。
[0007]本实用新型还可通过以下方案进一步实现:
[0008]所述防护板为一体式结构;材质采用纸质或塑料质。
[0009]所述防护板四周与侧壁喷涂过氮化硅脱模剂的距离为I一 2cm。
[0010]所述防护板底端具体坩祸底部的距离为3— 5cm。
[0011 ]使用时，喷涂好氮化硅脱模剂后，将喷涂形核粉装置套入放在喷涂旋转台内加热的坩祸内部，这样，在进行喷涂底部形核粉时，可以避免形核粉喷到侧壁影响硅锭品质。
[0012]本实用新型的有益效果是:本实用新型为一体式喷涂防护装置，将装置套入坩祸内部并扣在坩祸上沿，四周防喷板可以有效的避免形核粉喷涂至侧壁，进而避免了硅锭侧壁受到污染，有效的提尚了娃徒品质。
[0013]为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，并使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型结构及使用示意图。
[0015]图中:I为喷涂防护装置，2为石英坩祸，3为坩祸喷涂旋转台，4为高效形核粉，5为外翻沿。
【具体实施方式】
[0016]实施例:
[0017]参照图1，坩祸喷涂防护装置，石英坩祸2放在坩祸喷涂旋转台3上加热，将喷涂装置I套入石英坩祸2内，根据要求对坩祸底部进行形核粉4喷涂，进而避免喷涂形核粉时坩祸四周已喷涂好的脱模剂受到污染，达到提高产品品质的效果。
[0018]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种坩祸喷涂防护装置，包括防护板，其特征在于:所述防护板形成环接的方形管筒，两端均为开放结构，在其一端，设置有外翻沿，使用时，外翻沿挂于石英坩祸壁上端。2.根据权利要求1所述的坩祸喷涂防护装置，其特征在于:所述防护板为一体式结构。3.根据权利要求2所述的坩祸喷涂防护装置，其特征在于:所述防护板四周与侧壁喷涂过氮化硅脱模剂的距离为I 一 2cm。4.根据权利要求2所述的坩祸喷涂防护装置，其特征在于:所述防护板底端具体坩祸底部的距尚为3 — 5cm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种坩埚喷涂防护装置，涉及多晶铸锭高效坩埚喷涂技术领域，包括防护板，其特征在于：所述防护板形成环接的方形管筒，两端均为开放结构，在其一端，设置有外翻沿，使用时，外翻沿挂于石英坩埚壁上端。本实用新型的有益效果是：本实用新型为一体式喷涂防护装置，将装置套入坩埚内部并扣在坩埚上沿，四周防喷板可以有效的避免形核粉喷涂至侧壁，进而避免了硅锭侧壁受到污染，有效的提高了硅锭品质。
【IPC分类】C30B28/06, B05B15/04
【公开号】CN205223411
【申请号】CN201521057265
【发明人】郑阳勋, 刘郭军, 张永坦, 刘福强, 方圆, 刘瑞柱, 赵会前, 陈广峰, 张腾, 刘长辉
【申请人】河南盛达光伏科技有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年12月17日