一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种分配系统，具体涉及一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，其用于高纯四氯化硅生产，四氯化硅检测及灌装过程中的集中气、液分配。
【背景技术】
[0002]四氯化硅属于危险化学品第八类腐蚀品，有其特殊的物理化学性质:常温下为液态，沸点57.6°C，极易挥发，遇水剧烈反应，易与空气中的水份反应，生成二氧化硅和氯化氢(盐酸雾)。因此其有一定危险性，在实际产品倒罐、输送过程中，多采取高纯氮气(99.999%以上)进行压料、吹扫等，避免与空气的接触。
[0003]目前，通常的四氯化硅提纯生产，多采用精馏工艺，在生产过程中，必须保证设备、管道等密封无泄漏，装卸后，管道、阀门等处残余的四氯化硅，必须处理干净，否则拆卸后残留液体与空气反应生成二氧化硅颗粒和盐酸雾，对工作人员造成伤害，并污染环境，腐蚀普通金属设施设备;残留在罐体阀门的二氧化硅粉末等，也会在后继产品使用中造成颗粒物杂质污染等。
[0004]检测高纯四氯化硅时如果采用传统取样方法，一方面产品接触空气后就反应变质，另一方面取样容器等也会带入二次污染，造成检测精度的不准。
[0005]因此，为解决上述技术问题，确有必要提供一种创新的光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，以克服现有技术中的所述缺陷。
【实用新型内容】
[0006]为解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系，其隔绝在提纯生产、分析检验、灌装等环节中四氯化硅产品与空气的接触，形成一个集中控制的气体、液体分配控制系统，方便地将四氯化硅产品在全密封的管道中实现管道吹净、分析检验、吹扫余料等操作。
[0007]为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为:一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，其包括第一主管道、第二主管道以及三通阀V10;其中，所述第一主管道的顶端安装有一三通阀VI，底端通过一二通阀V6和第二主管道对接;所述三通阀Vl上连接有一高纯氮气管道NI和一普通氮气管道N2;所述第一主管道上还连接有三通阀V2、三通阀V3、三通阀V4和三通阀V5;所述三通阀V2上连接有生产线检测管道TI和生产线检测管道T2;所述三通阀V3上连接有生产线检测管道T3和生产线检测管道T4;所述三通阀V4连接有储罐管道Pl和储罐管道P2;所述三通阀V5连接有储罐管道P3和储罐管道P4;所述第二主管道上连接有三通阀V7、三通阀V8和三通阀V9;所述三通阀V7上连接有原料检测管Rl和原料检测管R2;所述三通阀V8上连接有原料检测管R3和原料检测管R4;所述三通阀V9上连接有红外在线分析检测入口管道Fl和红外在线分析检测入口管道F3;所述三通阀VlO上分别连接有红外在线分析检测出口管道F2、红外在线分析检测出口管道F4以及废液收集管W。
[0008]与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果:本实用新型的光纤用高纯四氯化硅的集中分配系采用多个三通、二通阀门及配套管道，构成一个互通的阀门控制系统，通过阀门的多种不同开闭组合方式，可以实现使用氮气吹扫检测管道、检测池、阀门等，也可以切换使四氯化硅流向检测仪器检测池、废液收集罐等，还能切换使用氮气吹扫检测后管道、阀门等中的余料，让整个过程中四氯化硅都处于全密封的管道中流动输送，不接触空气，避免了与空气的接触反应变质和输送后管道、阀门的清洁，即保证了产品分析检测的准确性，也保证了高纯四氯化硅产品的质量。另外，阀门组可设置在离红外检测仪器较近的位置，便于进行检测时的切换操作，减少分析检测人员的劳动强度，彻底解决了传统取样瓶取样方式造成的二次污染、偏差和废料污染等问题。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统的结构示意图。
[0010]图2是本实用新型利用高纯氮气吹扫管路时，氮气的流动示意图。
[0011 ]图3是本实用新型对生产线产品在线检测时，四氯化硅的流动示意图。
[0012]图4是本实用新型对原料检测时，四氯化硅粗品原料的流动示意图。
【具体实施方式】
[0013]请参阅说明书附图1至附图4所示，本实用新型为一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，其由第一主管道1、第二主管道II以及三通阀VlO等几部分组成。
[0014]其中，所述第一主管道I的顶端安装有一三通阀VI，底端通过一二通阀V6和第二主管道II对接。所述三通阀Vl上连接有一高纯氮气管道NI和一普通氮气管道N2。所述第一主管道上还连接有三通阀V2、三通阀V3、三通阀V4和三通阀V5;所述三通阀V2上连接有生产线检测管道TI和生产线检测管道T2;所述三通阀V3上连接有生产线检测管道T3和生产线检测管道T4;所述三通阀V4连接有储罐管道Pl和储罐管道P2;所述三通阀V5连接有储罐管道P3和储罐管道P4。
[0015]所述第二主管道II上连接有三通阀V7、三通阀V8和三通阀V9。所述三通阀V7上连接有原料检测管Rl和原料检测管R2;所述三通阀V8上连接有原料检测管R3和原料检测管R4;所述三通阀V9上连接有红外在线分析检测入口管道Fl和红外在线分析检测入口管道F3 ；所述三通阀VlO上分别连接有红外在线分析检测出口管道F2、红外在线分析检测出口管道F4以及废液收集管W。
[0016]上述阀门Vl?VlO在红外检测仪器的3-5米范围内，可方便检测人员进行切换和操作，降低劳动强度，提高检测效率。
[0017]本实用新型的光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统可以让各种需要进行检测的四氯化硅，在密闭的管道环境中流动到检测池。因四氯化硅不与氮气反应，因此在进行管道内空气排空(吹扫)和将检测后管道内的残余四氯化硅吹净，均选用液氮汽化后的高纯氮气，或制氮机组制取的普通纯度氮气(已脱水)。
[0018]在图2中，使用高纯氮气吹扫时，调整各个阀门的开闭组合状态，使氮气通过三通阀V1、二通阀V 6、三通阀V 9，经红外在线分析检测入口管道FI流向红外在线检测池(未图示)，再经过红外在线分析检测出口管道F2，流经三通阀VlO，最终通过废液收集管W到达废液收集罐(此时氮气与其他各管道均不通，因氮气为常温不凝气体，最终将通过废液收集罐的尾气管道，进入尾气淋洗吸收塔后排空)。
[0019]本实用新型在新装时，或进行相对低纯度的原料检测时，可以使用普通氮气进行吹扫，可节约一定的高纯液氮成本。
[0020]在图3中，以对生产线检测管道T2的四氯化硅产品进行在线检测为例，在进行了图2的氮气吹扫管路后，将管路中的空气及水份等全部吹净置换为氮气。然后调整阀门开闭组合状态，使生产线的四氯化硅产品，通过生产线检测管道T2，流经三通阀V2、二通阀V6、三通阀V9，经红外在线分析检测入口管道Fl流向红外在线检测池，再经过红外在线分析检测出口管道F2，流经三通阀VlO，最终通过废液收集管W到达废液收集罐。
[0021]检测时需要流动一定长时间，使管路中的气体、管壁残留微量杂质，都经过充分冲刷和置换。检测完毕后，切换阀门方向，重复图2中的吹扫操作，将管路中的四氯化硅吹净，以备其他检验。
[0022]在图4中，以原料检测管R3的粗品四氯化硅进行红外在线分析检测为例，进行图1吹扫后，调整阀门使原料按图中方向流动到检测池进行检测，检测完毕后重复图1进行吹扫。
[0023]为减少相对低纯的原料，对高纯产品检测管路的污染可能，本实用新型设计了二通阀V6，开启原料检测阀门前，将二通阀V6关闭即可杜绝原料流到上部三通阀V2-V5等处。原料使用第二个专用红外检测池，也可以避免混用造成的可能性污染。
[0024]各种产品罐中的产品，压出来进行红外在线分析检测的过程和方法，与上面几个图示方法类似。
[0025]以上的【具体实施方式】仅为本创作的较佳实施例，并不用以限制本创作，凡在本创作的精神及原则之内所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本创作的保护范围之内。
【主权项】
1.一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，其特征在于:包括第一主管道、第二主管道以及三通阀VlO;其中，所述第一主管道的顶端安装有一三通阀VI，底端通过一二通阀V6和第二主管道对接;所述三通阀Vl上连接有一高纯氮气管道NI和一普通氮气管道N2;所述第一主管道上还连接有三通阀V2、三通阀V3、三通阀V4和三通阀V5;所述三通阀V2上连接有生产线检测管道TI和生产线检测管道T2;所述三通阀V3上连接有生产线检测管道T3和生产线检测管道T4;所述三通阀V4连接有储罐管道Pl和储罐管道P2;所述三通阀V5连接有储罐管道P3和储罐管道P4 ；所述第二主管道上连接有三通阀V7、三通阀V8和三通阀V9 ；所述三通阀V7上连接有原料检测管Rl和原料检测管R2;所述三通阀V8上连接有原料检测管R3和原料检测管R4 ；所述三通阀V9上连接有红外在线分析检测入口管道Fl和红外在线分析检测入口管道F3;所述三通阀VlO上分别连接有红外在线分析检测出口管道F2、红外在线分析检测出口管道F4以及废液收集管W。
【专利摘要】本实用新型涉及一种光纤用高纯四氯化硅的集中分配系统，包括第一主管道、第二主管道以及三通阀V1～V10；所述第一主管道的顶端安装有一三通阀V1，底端通过一二通阀V6和第二主管道对接；所述第一主管道上还连接有三通阀V2、三通阀V3、三通阀V4和三通阀V5；所述第二主管道上连接有三通阀V7、三通阀V8和三通阀V9；所述三通阀V1～V10上分别连接有两根管道。本实用新型方便地实现了吹扫、检测、吹净等操作的阀门切换综合控制，让四氯化硅产品在全密封的管道中流动输送，避免了与空气的接触反应变质和输送后管道、阀门的清洁，彻底解决了传统取样瓶取样方式造成的二次污染、偏差和废料污染等问题。
【IPC分类】C03B37/01, F17D1/08, F17D3/01
【公开号】CN205368131
【申请号】CN201521107621
【发明人】罗全安, 何寿林
【申请人】武汉新硅科技潜江有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月26日