导电玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种导电玻璃。一种导电玻璃，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板具有相对的第一表面和第二表面，所述导电玻璃还包括高折射率光学介质层。低折射率光学介质层及导电层，所述第一表面为具有防眩光功能的表面，所述高折射率光学介质层及所述低折射率光学介质层依次层叠于所述第二表面，所述导电层形成于所述低折射率光学介质层的表面。上述导电玻璃具有防眩功能且透光率较高。
【专利说明】
导电玻璃
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种导电玻璃。
【背景技术】
[0002]触摸屏以其透明度高，多点触摸，寿命长等居多优点，近年来，越来越受到市场的青睐。导电玻璃是触控屏中的重要组件。目前，通常采用真空蒸镀或者磁控溅射方式将透明导电材料氧化铟锡(ITO)镀制在玻璃基板上形成导电玻璃以应用于触摸屏。
[0003]随着触控屏的使用的普及，导电玻璃的光滑的表面带来的眩光问题也得到重视。目前触控屏的眩光处理，是通过对制作的触控屏表面贴合具有防眩光功能的柔性塑料薄膜来实现。然而，贴合具有防眩光功能的柔性塑料薄膜容易产生气泡且透光率不高，且会增加广品厚度。
【实用新型内容】
[0004]基于此，有必要提供一种具有防眩功能且透光率较高的导电玻璃。
[0005]—种导电玻璃，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板具有相对的第一表面和第二表面，其特征在于，所述导电玻璃还包括高折射率光学介质层。低折射率光学介质层及导电层，所述第一表面为具有防眩光功能的表面，所述高折射率光学介质层及所述低折射率光学介质层依次层叠于所述第二表面，所述导电层形成于所述低折射率光学介质层的表面。
[0006]在其中一个实施例中，所述第一表面为凹凸不平的表面。
[0007]在其中一个实施例中，所述第一表面形成有防眩光层。
[0008]在其中一个实施例中，所述低折射率光学介质层为二氧化硅层。
[0009]在其中一个实施例中，所述高折射率光学介质层为五氧化二铌层、二氧化钛层、氮化硅层或氮氧化硅层。
[0010]在其中一个实施例中，所述导电层为氧化铟锡层、氧化锌铝层或掺氟氧化锡层。
[0011]在其中一个实施例中，所述高折射率光学介质层的厚度为4nm?20nmo
[0012]在其中一个实施例中，所述低折射率光学介质层的厚度为30nm?70nmo
[0013]在其中一个实施例中，所述导电层的厚度为1nm?135nm。
[0014]在其中一个实施例中，所述导电层与所述玻璃基板之间还设置有消影层。
[0015]上述导电玻璃，玻璃基板的第一表面为具有防眩功能的表面，从而可以实现防眩功能，降低第二表面依次层叠有高折射率光学介质层和低折射率光学介质层，通过高折射率光学介质层和低折射率光学介质层的配合，可以实现减反射的效果，提高透光率。
【附图说明】
[0016]图1为一实施方式的导电玻璃的结构不意图。
【具体实施方式】
[0017]下面主要结合具体实施例及附图对导电玻璃作进一步详细的说明。
[0018]请参阅图1，一实施方式的导电玻璃100包括玻璃基板10、防眩光层20、高折射率光学介质层30、低折射率光学介质层40及导电层50。
[0019]玻璃基板10可以为铝硅酸盐玻璃或钠钙玻璃，玻璃基板10的材料不做限定。玻璃基板10的厚度可以根据需要设置。
[0020]玻璃基板10具有相对的第一表面12及第二表面14。
[0021]防眩光层20形成于第一表面12。具体在本实施例中，防眩光层20为喷涂涂层，通过在第一表面12的表面喷涂具有防眩光作用的喷涂液得到。当然，在其他实施例中，防眩光层20可以省略，此时第一表面12为凹凸不平的表面，从而第一表面12具有防眩光的功能，可以通过腐蚀液对第一表面12腐蚀获得凹凸不平的表面，或者通过对第一表面12进行研磨在第一表面形成凹槽和凸起达到防眩的功能。
[0022]高折射率光学介质层30形成于第二表面14的表面。高折射率光学介质层30为五氧化二铌(Nb2O5)层、二氧化钛(T12)层、氮化硅(Si3N4)层或氮氧化硅(S1N)层。高折射率光学介质层30的厚度为4nm?20nmo
[0023]低折射率光学介质层40形成于高折射率光学介质层30的表面。低折射率光学介质层40为二氧化硅(S12)层。低折射率光学介质层40的厚度为30nm?70nm。
[0024]导电层50形成于低折射率光学介质层40的表面。导电层50为氧化铟锡(ITO)层、氧化锌招(AZO)层或掺氟氧化锡(FTO)层。导电层的厚度为1nm?135nm。
[0025]在优选的实施例中，导电玻璃100还包括消影层(图未视)。消影层可以消除导电层蚀刻形成的电极的影子，使导电玻璃具有更好的显示效果。具体的，消影层位于导电层50及第二表面14之间，在其中一个实施例中，消影层位于第二表面14和高折射率光学介质层30之间，当然，在其他的实施例中，消影层也可以位于低折射率光学介质层40和导电层之间，或者消影层位于高折射率光学介质层30和低折射率光学介质层40之间。
[0026]上述导电玻璃，玻璃基板的第一表面为具有防眩功能的表面，从而可以实现防眩功能，无需贴膜，导电玻璃的厚度增加较少;第二表面依次层叠有高折射率光学介质层和低折射率光学介质层，通过高折射率光学介质层和低折射率光学介质层的配合，可以实现减反射的效果，提高透光率。
[0027]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0028]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种导电玻璃，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板具有相对的第一表面和第二表面，其特征在于，所述导电玻璃还包括高折射率光学介质层、低折射率光学介质层及导电层，所述第一表面为具有防眩光功能的表面，所述高折射率光学介质层及所述低折射率光学介质层依次层叠于所述第二表面，所述导电层形成于所述低折射率光学介质层的表面。2.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述第一表面为凹凸不平的表面。3.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述第一表面形成有防眩光层。4.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述低折射率光学介质层为二氧化硅层。5.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述高折射率光学介质层为五氧化二铌层、二氧化钛层、氮化硅层或氮氧化硅层。6.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述导电层为氧化铟锡层、氧化锌铝层或掺氟氧化锡层。7.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述高折射率光学介质层的厚度为4nm?20nmo8.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述低折射率光学介质层的厚度为30nm?70nmo9.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述导电层的厚度为1nm?135nm。10.根据权利要求1所述的导电玻璃，其特征在于，所述导电层与所述玻璃基板之间还设置有消影层。
【文档编号】C03C17/34GK205443062SQ201620148284
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2016年2月26日
【发明人】马志锋, 杜晓峰, 刘玉华
【申请人】宜昌南玻显示器件有限公司