专利名称：肟酯光引发剂的制作方法
肟酯光引发剂本申请是申请号为200880015675.6的发明专利申请的分案申请，原申请的申请日为2008年4月24日，发明名称为“肟酷光引发剤”。本发明涉及基于特定咔唑衍生物的新型肟酯化合物，及其作为可光聚合组合物中的光引发剂的用途。由美国专利US 3558309已知，某些肟酯衍生物是光引发剂。在US 4255513中公开了肟酯化合物。US 6596445描述了ー些具有给电子基团的肟酯化合物。US 4202697公开了丙烯酰氨基取代的肟酯。在 JP 7-140658A( = Derwent No. 95-234519/31) ；Bull. Chem.Soc. Jpn. 1969,42(10) ,2981-3 ；Bull.Chem.Soc. Jpn. 1975，48 (8)，2393-4 ;Han' guk SomyuKonghakhoechi 1990,27 (9),672-85 ( = Chem. Abstr. 115 :115174) ；Macromolecules,1991,24(15) ,4322-7和European Polymer Journal, 1970，933-943 中描述了ー些醛肟酯化合物。在US 4590145 和 JP 61_024558_A( = Derwent No. 86-073545/11)中公开了几种ニ苯甲丽月亏酷化合物。在 Glas. Hem. Drus. Beograd, 1981,46 (6)，215-30 ；J. Chem.Eng. Data 9 (3)，403-4 (1964) ；J. Chin. Chem. Soc. (Taipei) 41 (5) 573-8，(1994) ；JP62-273259-A( = Chemical Abstract 109 83463w) ；JP 62-286961-A( = DerwentNo. 88-025703/04) ； JP62-201859-A( = Derwent No. 87-288481/41) ;JP 62-184056_A(=Derwent No. 87-266739/38) ；US 5019482 和 J. of Photochemistry and Photobiology A107,261-269(1997)中描述了ー些对烷氧基-苯基肟酷化合物。此外，在WO 02/100903、WO 04/050653、WO 06/018405、国际专利申请 No. EP2006/068202 和国际专利申请No. EP2006/068254中公开了肟酯化合物。在光聚合技术中，仍然需要高度反应性、易于制备并易于处理的光引发剂。例如，在滤色片抗蚀剂应用领域中，高的色彩品质性能需要高度着色的抗蚀剂。随着颜料含量的提高，有色抗蚀剂的固化变得越发困难。因此，需要敏感性高于现有引发体系的光引发剂。此外，此类新型光引发剂还必须在如高溶解性、热稳定性和储存稳定性之类的性能方面符合高的エ业要求。令人惊讶地发现，式I、II和III的化合物符合上述要求，
权利要求
1.式II或III的化合物
2.可光聚合组合物，其包含 (a)至少一种烯属不饱和可光聚合化合物，和 (b)作为光引发剂的至少一种如权利要求I所限定的式II或III的化合物。
3.根据权利要求2的可光聚合组合物，其除光引发剂(b)之外，还包含至少一种另外的光引发剂(C)和/或其它添加剂(d)。
4.根据权利要求2-3中任一项的可光聚合组合物，包含光敏剂，特别是选自由二苯甲酮及其衍生物、噻吨酮及其衍生物、蒽醌及其衍生物或香豆素及其衍生物组成的组中的化合物，作为另外的添加剂(d)。
5.根据权利要求2-4中任一项的可光聚合组合物，其中所述组分(a)是通过使环氧树脂和不饱和一元羧酸的反应产物与饱和或不饱和多元酸酸酐反应获得的树脂。
6.根据权利要求2-5中任一项的可光聚合组合物，还包含粘结剂聚合物(e)，特别是甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸的共聚物。
7.根据权利要求2-6中任一项的可光聚合组合物，包含颜料或颜料的混合物作为另外的添加剂⑷。
8.根据权利要求7的可光聚合组合物，包含分散剂或分散剂的混合物作为另外的添加剂⑷。
9.根据权利要求2-8中任一项的可光聚合组合物，包含占组合物的O.005至25重量％的光引发剂(b)，或光引发剂(b)和(C)。
10.含有烯属不饱和双键的化合物的光聚合方法，该方法包括用150至600纳米的电磁辐射，或用电子束或用X-射线照射根据权利要求2-9中任一项的组合物。
11.制备如权利要求I所限定的式II或III的化合物的方法，包括使式IIa或IIIa的肟化合物
12.根据权利要求2-9中任一项的组合物的用途，用于制造着色和非着色的油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘合剂、压敏粘合剂、牙科组合物、凝胶涂料、电子学用光致抗蚀剂、电镀抗蚀剂、抗蚀刻剂、液体膜和干膜、阻焊剂、制造用于各种显示应用的滤色片用的抗蚀剂、在等离子体显示板、电致发光显示器和LCD的制造过程中产生结构用的抗蚀齐U、LCD间隔物、用于全息数据存储(HDS)、作为包封电气和电子元件的组合物、用于制造磁记录材料、微机械部件、波导、光学开关、电镀掩模、蚀刻掩模、色彩打样体系、玻璃纤维电缆涂料、丝网印刷模版、用于通过立体平版印刷技术产生三维物体、用作图像记录材料、用于全息记录、微电子电路、脱色材料、图像记录材料用的脱色材料、用于使用微胶囊的图像记录材料、作为UV和可见激光直接成像系统用的光致抗蚀剂材料、作为形成印刷电路板的顺序累积层中的介电层所用的光致抗蚀剂材料。
13.在至少一个表面上用根据权利要求2的组合物涂布的涂布基底。
14.照相制造浮雕图像的方法，其中使根据权利要求13的涂布基底依图像曝光，然后用显影剂除去未曝光的部分。
15.滤色片，通过在透明基底上提供均包含光敏树脂和颜料的红色、绿色和蓝色像元和黑矩阵并在基底表面上或在滤色层表面上提供透明电极而制成，其中所述光敏树脂包含多官能丙烯酸酯单体、有机聚合物粘结剂和如权利要求2中所限定的式II或III的光聚合引发剂。
16.式IIa和IIIa的化合物
全文摘要
本发明涉及一种肟酯光引发剂。本发明涉及式(I)、(II)和(III)的化合物，其中R1、R2、R′2和R″′2为例如C1-C20烷基，条件是R1、R2、R′2和R″′2中至少一个带有规定的取代基；R3、R4和R5例如彼此独立地为氢或限定的取代基，条件是R3、R4或R5中至少一个不是氢或C1-C20烷基；R6，R7，R8，R′7，RV，R′8，R″6，R″7，R″′6和R″′7例如彼此独立地具有对于R3、R4和R5给出的含义之一；R9为例如C1-C20烷基，其在光聚合反应中显示出非常好的性能。
文档编号C07D417/14GK102702073SQ20121012901
公开日2012年10月3日 申请日期2008年4月24日 优先权日2007年5月11日
发明者仓久敏, 大和昌纪, 松本亮, 田边纯一 申请人:巴斯夫欧洲公司