一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，沿反应方向依次管道连通有主反应釜、保温釜、蒸馏釜、精馏塔，所述保温釜温度设定在35℃～39℃之间，其特征在于，所述蒸馏釜和精馏塔间设置有粗馏塔。通过在蒸馏釜和精馏塔间设置有粗馏塔，利用粗馏塔对亚甲基二磷酸四乙酯预先进行处理，从而再次利用精馏塔操作时，最终获得精品质量达到最佳。
【专利说明】—种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，尤其是一种去杂效果好且亚甲基二磷酸四乙酯成品质量优异的亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置。
【背景技术】
[0002]亚甲基二磷酸四乙酯粗品中由于含有二氯甲烷等沸点较低杂质，为此往往通过一系列的装置对亚甲基二磷酸四乙酯粗品中的杂质进行去杂处理。传统的去杂工艺包括，利用保温釜对主反应釜反应后获得亚甲基二磷酸四乙酯粗品进行一个保温处理，接着送予蒸馏釜蒸馏，接着对蒸馏过的亚甲基二磷酸四乙酯粗品进行精馏去杂，最终获得不含有二氯甲烷等低沸点杂质的亚甲基二磷酸四乙酯。但实际使用效果表明，由于最终出来的亚甲基二磷酸四乙酯的品质仍不理想。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，使得最终获得的亚甲基二磷酸四乙酯去杂效果好且二亚甲基二磷酸四乙酯精品质量优异。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为:一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，沿反应方向依次管道连通有主反应釜、保温釜、蒸馏釜、精馏塔，所述保温釜温度设定在35°C~39°C之间，其特征在于，所述蒸馏釜和精馏塔间设置有粗馏塔。
[0005]进一步的，所述蒸馏釜的温度设定在30°C~35°C之间。
[0006]进一步的，所述蒸馏釜的最佳温度控制在32°C。
[0007]进一步的，所述保·温釜和蒸馏釜间增设有一保温釜a。
[0008]进一步的，所述保温釜a的温度设定在35 °C~39 °C之间。
[0009]本实用新型的优点在于:通过在蒸馏釜和精馏塔间设置有粗馏塔，利用粗馏塔对亚甲基二磷酸四乙酯预先进行处理，从而再次利用精馏塔操作时，最终获得的产品质量达到最佳。
[0010]实验及使用数据表明，通过将蒸馏釜的温度控制30°C~35°C之间，从而高效的解决了最终亚甲基二磷酸四乙酯成品的质量。经过大量的实验数据表明，将蒸馏釜的温度控制在32°C，最终获得的亚甲基二憐酸四乙酷精品的品质达到最佳。
[0011]为进一步提高最终获得的亚甲基二磷酸四乙酯精品的质量，保温釜和蒸馏釜间增设有一保温釜a，并控制保温釜a的温度设定在35°C~39°C之间。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0013]图示是本实用新型一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置的结构示意图。
[0014]图中:1-主反应釜、2-保温釜、3-蒸馏釜、4-精馏塔、5-粗馏塔、6_保温釜a。【具体实施方式】
[0015]本实用新型的亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，沿反应方向依次管道连通有主反应釜1、保温釜2、蒸馏釜3、精馏塔4，保温釜2温度设定在35°C?39°C之间，为提高最终获得的亚甲基二磷酸四乙酯精品的质量，蒸馏釜3和精馏塔4间设置有粗馏塔5。
[0016]通过在蒸馏釜3和精馏塔4间设置有粗馏塔5，利用粗馏塔5对亚甲基二磷酸四乙酯预先进行处理，从而再次利用精馏4塔操作时，最终获得精品质量达到最佳。
[0017]实验及使用数据表明，通过将蒸馏釜3的温度控制30°C?35°C之间，从而高效的解决了最终亚甲基二磷酸四乙酯精品的质量。经过大量的实验数据表明，将蒸馏釜3的温度控制在32°C，最终获得的亚甲基二磷酸四乙酯精品的品质达到最佳。
[0018]为进一步提高最终获得的亚甲基二磷酸四乙酯精品的质量，保温釜2和蒸馏釜3间增设有一保温釜a6，并控制保温釜a6的温度设定在35°C?39°C之间。
[0019]以上对本发明创造的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明创造的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明创造的实施范围。凡依本发明创造申请范围所作的均等变化与改进等，均应归属于本发明创造的专利涵盖范围之内。
【权利要求】
1.一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，沿反应方向依次管道连通有主反应釜、保温釜、蒸馏釜、精馏塔，所述保温釜温度设定在35°c?39°C之间，其特征在于，所述蒸馏釜和精馏塔间设置有粗馏塔。
2.如权利要求1所述的一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，其特征在于，所述蒸馏釜的温度设定在30°C?35°C之间。
3.如权利要求2所述的一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，其特征在于，所述所述蒸馏釜的最佳温度控制在32°C。
4.如权利要求1所述的一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，其特征在于，所述反应釜和蒸馏釜间增设有一保温釜a。
5.如权利要求4所述的一种亚甲基二磷酸四乙酯的去杂装置，其特征在于，所述保温釜a的温度设定在35°C?39°C之间。
【文档编号】C07F9/11GK203411494SQ201320463809
【公开日】2014年1月29日 申请日期:2013年7月31日 优先权日:2013年7月31日
【发明者】吴世林 申请人:安徽智新生化有限公司