一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法

文档序号:3499504阅读:953来源:国知局
一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法
【专利摘要】一种重结晶降低螺旋霉杂质的方法,步骤为:(1)将磷酸二氢钾溶于水中,然后用草酸调节pH值为2~3;(2)将固态螺旋霉素投入步骤(1)所得的混合溶液中,保持温度为25~40℃搅拌溶解;(3)向步骤(2)所得螺旋霉素溶液中加入质量浓度为12~15%氢氧化钠溶液,升温60~90min,然后保持温度为50~65℃下搅拌结晶;(4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤(1)、(2)、(3)操作,再次得到湿粉干燥即可得到低杂质螺旋霉素。本方法是通过改变磷酸二氢钾和草酸的加量,然后把螺旋霉素成品重新溶解到磷酸二氢钾和草酸溶液中,重新结晶,把螺旋霉素中的有关物质进一步的去除,进而提高产品质量。
【专利说明】一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法

【技术领域】
[0001]本发明属于医药化工领域,具体涉及一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法。

【背景技术】
[0002]螺旋霉素碱是由二链霉菌(S.ambofacienss)所产生的多组份大环内酯类抗生素,其分子结构是含有十六个骨架的大环内酯部分,为白色或淡黄色无定形物质,味苦,为碱性抗生素。可溶于氯仿、醇类、已醇、酮、乙酸丁酯等有机溶剂,微溶于水。其硫酸盐溶于水和低级醇类。其熔点为:SPMI:134 ?137°C:SPM I1:130 ?133°C:SPM II1:128 ?131。。。在231?232nm处有紫外线吸收峰。本身有发色基因,遇浓硫酸或盐酸呈紫色反应、麦牙酚反应、茚三酮反应、坂口反应、双缩脲反应、斐林反应呈阳性。
[0003]螺旋霉素是由菌种经过一级、二级、发酵三级培养,发酵液经过板框过滤、丁酯萃取、丁酯液反萃取、酸水结晶、湿品干燥而得。由于发酵过程中会存在异常代谢,导致发酵液中出现多种杂质,而这些杂质经过溶媒萃取精制后仍不能完全去除。


【发明内容】

[0004]本发明针对上述技术中存在一般方法所制得螺旋霉素内含有不易去除的杂质,发明一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法,旨在得到一种纯度较高的螺旋霉素,其包括下述步骤:
[0005](I)配制磷酸二氢钾和草酸的混合溶液:按质量溶解量为1.0?1.5%将磷酸二氢钾溶于水中,然后用草酸调节PH值为2?3 ;
[0006](2)固体螺旋霉素溶解反应:按固态螺旋霉素质量溶解量为7X 14?1.2X 15 μ /ml将固态螺旋霉素投入步骤(I)所得的混合溶液中,保持温度为25?40°C搅拌溶解;
[0007](3)氢氧化钠溶液反应:向步骤(2)所得螺旋霉素溶液中加入质量浓度为12?15%氢氧化钠溶液,按升温速率为35?55 °C /h升温60?90min,然后保持温度为50?65°C下搅拌30?50min进行结晶;
[0008](4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤⑴、(2)、(3)操作I?3次,再次得到湿粉干燥即可得到低杂质螺旋霉素。
[0009]其中,步骤(3)中加入氢氧化钠溶液调节pH值为9.0?9.4,氢氧化钠溶液加入时间为30?50min。
[0010]其中,步骤⑷中所述的干燥为保持温度为30?75°C干燥12h。
[0011]本发明的有益效果:
[0012]利用本发明中的通过改变磷酸二氢钾和草酸的用量,然后把螺旋霉素成品重新溶解到磷酸二氢钾和草酸溶液中,重新结晶,把螺旋霉素中的杂质进一步的去除,使得所得螺旋霉素内杂质大大降低,进而提高产品质量,最终所得螺旋霉素收率高达90?95% ;进一步的本发明直接利用螺旋霉素溶解形成螺旋霉溶液进行重结晶,大大增加了螺旋霉素的纯度,而且,本发明工艺流程较为简捷,易操作,成本低。

【具体实施方式】
[0013]下面对本发明的【具体实施方式】进行详细描述,但应当理解本发明的保护范围并不受【具体实施方式】的限制。
[0014]实施例1
[0015](I)按质量溶解量为1.0%将磷酸二氢钾溶解于去离子水中,然后用草酸将磷酸二氢钾溶液PH值调节为2.0? (2)按固态螺旋霉素质量溶解量为7 X 14 μ /ml向所得混合溶液中加入固体螺旋霉素,25°C搅拌溶解,所得为螺旋霉素溶液。(3)向螺旋霉素溶液中加入质量浓度为12%的氢氧化钠溶液,控制氢氧化钠溶液加入过程时间为30?50min,直至将PH值调节为9.0,然后按升温速率为35°C /h升温90min,保持温度为50°C搅拌50min进行结晶。(4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤(I)、(2)、(3)操作I次,再次得到湿粉保持温度为30°C干燥12h即可得到低杂质螺旋霉素,其收率是90%。
[0016]实施例2
[0017](I)按质量溶解量为1.3%将磷酸二氢钾溶解于纯化水中,然后用草酸将磷酸二氢钾溶液PH值调节为2.5。(2)按固态螺旋霉素质量溶解量为9.5 X 14 μ /ml向所得混合溶液中加入固体螺旋霉素,33 0C搅拌溶解,所得为螺旋霉素溶液。(3)向螺旋霉素溶液中加入质量浓度为13%的氢氧化钠溶液,控制氢氧化钠溶液加入过程时间为30?50min,直至将PH值调节为9.2,然后按升温速率为45°C /h升温75min,保持温度为65°C搅拌40min进行结晶。(4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤(I)、(2)、(3)操作2次,再次得到湿粉保持温度为53°C干燥12h即可得到低杂质螺旋霉素,其收率是93%。
[0018]实施例3
[0019](I)按质量溶解量为1.5%将磷酸二氢钾溶解于去离子水中,然后用草酸将磷酸二氢钾溶液PH值调节为2.0? (2)按固态螺旋霉素质量溶解量为1.2 X 15 μ /ml向所得混合溶液中加入固体螺旋霉素,40°C搅拌溶解,所得为螺旋霉素溶液.(3)向螺旋霉素溶液中加入质量浓度为15%的氢氧化钠溶液,控制氢氧化钠溶液加入过程时间为30?50min,直至将PH值调节为9.4,然后按升温速率为55°C /h升温60min,保持温度为55°C搅拌30min进行结晶。(4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤(I)、(2)、(3)操作3次,再次得到湿粉保持温度为75°C干燥12h即可得到低杂质螺旋霉素,其收率是95%。
[0020]对比实施例1
[0021](I)发酵液预处理:产二素链霉菌发酵液加热至30?40°C,用氢氧化钠溶液调pH至7.0±0.3,加入氯化铝溶液,然后继续用氢氧化钠溶液将发酵液调pH8.1±0.5,然后进行板框过滤,取滤液。
[0022](2)萃取:滤液升温至温度30?40°C、ρΗ9.3±0.5,加入丁酯(按丁酯液效价100000 μ /ml控制),萃取后重液效价彡1000 μ/ml。丁酯液过高机,然后用质量分数40%磷酸二氢钾和草酸PH3.7 ± 0.3缓冲液洗涤、质量分数30%饱和盐水洗涤、质量分数30%纯化水洗涤。
[0023](3)反萃取:洗涤后的丁酯液用0.lmol/L的磷酸二氢钾和草酸pH2.6±0.2缓冲液、温度31±2°C反萃取,当pH在6.1±0.5搅拌20min,静置40min得酸水、效价50000?70000 μ/ml ο
[0024](4)结晶:往酸水里面加碱时间控制在30min以上,缓慢调结晶液pH到9.2±0.2。用热水罐内热水进行夹层升温,结晶罐初温不能高于30°C以上。升温时间60?90min,缓慢升温至57±5°C停止加热,保温30min。用30% pH9.2±0.2的稀碱液、57±5°C混洗结晶液,搅拌20min。最后离心分离得湿粉,母液效价< 2000 μ /ml。
[0025](5)干燥:湿粉放入真空干燥机,真空度彡0.080Mpa,夹层起始温度彡30°C,冷抽时间90?120min,真空干燥机内温度30?75°C干燥12h。总收率:80?85%。
[0026]对比实施例中,螺旋霉素经过萃取、反萃取,所得到的螺旋霉素中仍旧含有大量杂质,所得螺旋霉素收率也不高,利用本发明中的通过改变磷酸二氢钾和草酸的用量,然后把螺旋霉素成品重新溶解到磷酸二氢钾和草酸溶液中,重新结晶,把螺旋霉素中的杂质进一步的去除,使得所得螺旋霉素内杂质大大降低,进而提高产品质量,最终所得螺旋霉素收率高达90?95% ;进一步的本发明直接利用螺旋霉素溶解形成螺旋霉溶液进行重结晶,大大增加了螺旋霉素的纯度,而且,本发明工艺流程较为简捷,易操作,成本低。
[0027]以上公开的仅为本发明的具体实施例,但是,本发明并非局限于此,任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种重结晶降低螺旋霉素杂质的方法,其特征在于,其包括下述步骤: (1)配制磷酸二氢钾和草酸的混合溶液:按质量溶解量为1.0?1.5%将磷酸二氢钾溶于水中,然后用草酸调节PH值为2?3 ; (2)固体螺旋霉素溶解反应:按固态螺旋霉素质量溶解量为7X14?1.2X10 5 μ/ml将固态螺旋霉素投入步骤(I)所得的混合溶液中,保持温度为25?40°C搅拌溶解; (3)氢氧化钠溶液反应:向步骤(2)所得螺旋霉素溶液中加入质量浓度为12?15%氢氧化钠溶液,按升温速率为35?55 °C /h升温60?90min,然后保持温度为50?65 °C下搅拌30?50min进行结晶; (4)离心分离得到湿粉,湿粉重复步骤(I)、(2)、(3)操作I?3次,再次得到湿粉干燥即可得到低杂质螺旋霉素。
2.根据权利要求1所述重结晶降低螺旋霉素杂质的方法,其特征在于:步骤(3)中加入氢氧化钠溶液调节pH值为9.0?9.4,氢氧化钠溶液加入时间为30?50min。
3.根据权利要求1所述重结晶降低螺旋霉素杂质的方法,其特征在于:步骤(4)中所述的干燥为保持温度为30?75°C干燥12h。
【文档编号】C07H1/06GK104478973SQ201410704355
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年11月27日 优先权日:2014年11月27日
【发明者】朱德育, 杜占彬, 宋玉忠, 祝立新, 苏瑜, 袁岗, 徐俊奇, 赵严博 申请人:天方药业有限公司
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