专利名称：光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光记录介质，尤其涉及一种使用有机色素作为记录材料的可写型光记录介质。
随着信息时代的到来，越来越需要一种用于记录大量信息，如图像、声音和数据的大容量存贮器。
为了满足这种要求，圆盘状光记录介质的记录容量较大，因为记录和再现是在非接触态下进行的，所以可靠性高。此外，这种圆盘状光盘具有各种其它的优点，即它能够以合理的生产成本实现批量生产，因此现在已广泛传播。
作为光记录介质的记录材料，已经提出各种材料稀土元素-过渡金属非晶态合金薄膜，如Tb-Fe-Co；相变材料，如Ge-Se-Te；有机色素，如花青色素。在这些材料中，有机色素可用于用户能在其上写入一次的可写型光记录介质。这种材料没有腐蚀问题且毒性低，这是一种优点，即仅造成很小的环境负担。
作为使用这种有机色素的光记录介质的具体结构例子，可以列举如下。
首先，可以列举由两种透光基片组成的气夹层(air sandwich)结构，其中每种基片都具有含有机色素的记录层，且通过粘结使记录层相对并在基片之间形成空气层。这种气夹层型光记录介质可从市场上购买用于记录数据。
在此之后，Proceeding of SPIE，1078卷，1078页公开了一种结构，它具有在透光基片上依次形成的含有机色素的记录层、光反射层、和保护层，即具有含有机色素的记录层的常规压缩光盘结构。由于这种光记录介质在用于压缩光盘的780纳米波长上具有70％或更高的高反射率，因此在记录后有可能得到与市场上压缩光盘相容的信号特征。这种光记录介质可用于音乐记录、视频记录和个人计算机数据记录，因此目前正形成一个较大的市场。
还有，在光记录领域中，除了这种记录材料和介质结构，还对用于记录的光学体系进行了研究。
即在光记录介质中，激光束可用于记录和再现。
在记录时，激光束聚焦于记录层和激光点内，这样可在记录层产生光学变化以形成凹点。还有，在再现时，激光束聚焦于该凹点以检测出凹点和没有凹点的部分之间的反射率差异。该光记录介质的记录密度可通过激光束点直径来确定。随着该点直径的降低，记录密度有可能较高。
另一方面，激光束点直径与光记录/再现光学体系的L/NA成比例(其中NA是物镜的数值孔径，L为激光束的波长)。因此，光记录介质的记录密度是由该光学体系所用物镜的数值孔径NA和激光源的波长L确定的。随着NA的升高和L的下降，可以提高记录密度。
为此，最近已研究如何降低作为激光源的半导体激光的波长。例如“O加E”，199卷，71页(1996)所报道的，可试验应用具有光记录用波长谱带630-650纳米的半导体激光。
但在降低用于记录和再现的激光束的波长时，需要选择与波长谱带相匹配的记录材料。选择有机色素是由于在记录和再现所用激光束的波长谱带上具有足够的光吸收和反射率。
为此，例如用于630-650纳米的有机色素公开于日本专利公开6-40161、日本专利公开6-40162、日本专利公开6-199045和日本专利公开7-186530中。
但这些有机色素在630-650纳米的范围内没有足够的光吸收或反射率，因此在记录灵敏度和信号调制度上存在问题。
因此，本发明的一个目的是提供一种在630-650纳米短波范围内具有高反射率和合适光吸收，从而能够得到一种优选的记录和再现特性的光记录介质。
为了达到前述目的，我们通过深入研究发现，在次甲基主链上具有1-4个碳原子且在两端具有包括预定芳环的原子团的多次甲基色素能够在630-650纳米波长谱带中得到高反射率和合适的光吸收。
按照本发明的光记录介质是根据前述发现提出的，它包括在透光基片上形成的记录层和反射层，所述记录层可形成为(1)包含色素化合物a、色素化合物b和色素化合物c中至少一种的色素层；(2)包含色素化合物a、色素化合物b和色素化合物c中至少两种的有机色素层；(3)包含色素化合物a、色素化合物b和色素化合物c中至少一种以及色素化合物d、色素化合物e和色素化合物f中至少一种的有机色素层；(4)包含色素化合物a、色素化合物b和色素化合物c中至少一种以及色素化合物g、色素化合物h、色素化合物i和色素化合物j中至少一种的有机色素层；(5)包含色素化合物a、色素化合物b和色素化合物c中至少一种以及色素化合物d、色素化合物e和色素化合物f中至少一种以及色素化合物d、色素化合物e和色素化合物f中至少一种的有机色素层；(6)包含色素化合物d、色素化合物e和色素化合物f中至少两种的有机色素层；或(7)包含色素化合物d、色素化合物e、色素化合物f中至少一种，和色素化合物j以及色素化合物d、色素化合物e和色素化合物f中至少一种的有机色素层。
这些有机色素层能够在630-650纳米波长谱带上得到高吸光度和反射率，并且在该范围内波长依赖性小。因此，具有由这些有机色素制成的记录层的光记录介质能够在630-650纳米波长谱带上得到高记录密度和信号调制度。
色素化合物aA1-CH＝CH-CH＝B1X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。还有，A1为由化学式136-138表示的原子团，且B1为由化学式139表示的原子团)[化学式136]
(在化学式136-139中，R1表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R1时，R1相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R2和R3表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R2或多个R3时，R2或R3相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物bA2-CH＝C(Y1)-CH＝B2X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。A2为由化学式140-143表示的原子团，且B2为由化学式144表示的原子团。另外，Y1为氢原子、烷基或卤素原子。)[化学式140]
(在化学式140-144中，R4表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R4时，R4相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R5和R6为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R5或多个R6时，R5或R6相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物cA3-CH＝C(Y2)-CH＝B3X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。A3为由化学式145-148表示的原子团，且B3为由化学式149和150表示的原子团。另外，Y2为氢原子、烷基或卤素原子。)[化学式145]
(在化学式145-150中，R7表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R7时，R7相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R8和R9为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R8或多个R9时，R8或R9相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物dA4-CH＝B4X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。A4为由化学式151表示的原子团，且B4为由化学式152和153表示的原子团。)[化学式151]
(在化学式151-153中，R10表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R10时，R10相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R11和R12为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R11或多个R12时，R11或R12相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物eA5-CH＝CH-B5X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。另外，A5为由化学式154-159表示的原子团，且B5为由化学式160表示的原子团。)[化学式154]
(在化学式154-160中，R13表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R13时，R13相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R14和R15为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R14或多个R15时，R14或R15相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物fA6-CH＝C(Y3)-CH＝B6X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。A6为由化学式161-163表示的原子团，且B6为由化学式164和165表示的原子团。另外，Y3为氢原子、烷基或卤素原子。)[化学式161]
(在化学式154-160中，R16和R18表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R16或多个R18时，R16或18相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。另外，R17和R19是氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基、和卤素原子。当分子包含多个R17或多个R19时，R17或R19相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。m为1、2、3、或4。)色素化合物gA7-CH＝B7X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。还有，A7为由化学式166表示的原子团，且B7为由化学式167表示的原子团。)[化学式166]
(在化学式166和167中，R20表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R20时，R20相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。还有，R21和R22为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R21或多个R22时，R21或R22相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物hA8-CH＝CH-B8X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。还有，A8为由化学式168-171表示的原子团，且B8为由化学式172表示的原子团。)[化学式168]
(在化学式168-172中，R23表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R23时，R23相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。还有，R24和R25为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R24或多个R25时，R24或R25相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物iA9-CH＝CH-CH＝B9X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。还有，A9为由化学式173-179表示的原子团，且B9为由化学式180和181表示的原子团。)[化学式173]
(在化学式168-172中，R27表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R27时，R27相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。还有，R28和R29为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R28或多个R29时，R28或R29相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)色素化合物jA10-CH＝CH-CH＝CH-B10X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-。A10为由化学式182-188表示的原子团，且B10为由化学式189和190表示的原子团。)[化学式182]
(在化学式182-190中，R30表示烷基、烷氧基和芳基。当分子包含多个R30时，R30相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。还有，R31和R32是氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子。当分子包含多个R31或多个R32时，R31或R32相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；且m为1、2、3或4。)
图1是表示按照本发明的光记录介质的基本部分的横截面图。
图2是表示色素化合物a的吸收光谱图。
图3是表示使用色素a4的光记录介质的反射光谱特性。
图4是表示使用色素a5的光记录介质的反射光谱特性。
图5是表示使用色素a6的光记录介质的反射光谱特性。
图6是表示使用色素a4的光记录介质的信号再现波形。
图7是表示使用色素a1与a2的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图8是表示使用色素a3与a5的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图9是表示色素化合物b的吸收光谱特性的图。
图10是表示使用色素b1的光记录介质的反射光谱特性。
图11是表示使用色素b2的光记录介质的反射光谱特性。
图12是表示色素c2的吸收光谱图。
图13是表示使用色素c2的光记录介质的反射光谱特性。
图14是表示色素化合物f的吸收光谱图。
图15是表示使用色素a5与f7的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图16是表示使用色素b2与f9的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图17是表示色素化合物i的光吸收谱特性的图。
图18是表示使用色素a3与i4的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图19是表示使用色素f9与i7的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图20是表示色素化合物j的吸收光谱特性的图。
图21是表示使用色素a1与j6的混合物的光记录介质的反射光谱特性。
图22是表示使用色素a3与j1的混合物的光记录介质的光反射光谱特性。
以下参照附图，针对本发明的实施方案进行描述。
以下将描述本发明的实施方案。
图1表示按照本发明的光记录介质，包括透光基片1，其上依次形成有记录层2、反射层3和保护层4。
记录层2包含有机色素作为记录材料。当激光束照射到该记录层2上时，有机色素就吸收光并产生热从而溶解该色素。由于色素的这种溶解作用，反射率出现局部改变，这样就记录了信息信号。
按照本发明，该记录层2包含的有机色素是一种在两端具有预定芳环的三次甲基色素化合物a、b或c。这些三次甲基色素能够在630-650纳米的波长谱带中得到高反射率和合适的光吸收，且在该波长谱带内的波长依赖性小，因此可得到稳定的光学特性。因此，使用这些三次甲基色素作为记录材料的光记录介质能够在630-650纳米的波长谱带中得到高记录灵敏度和信号调制度。
这些三次甲基色素都可单独使用或结合使用。通过多种类型的组合使用，可以调节在630-650纳米范围内的光吸收和反射率。
此外，这些三次甲基色素都可与色素化合物d(在两端具有预定芳环的单次甲基色素)、色素化合物e(在两端具有预定芳环的二次甲基色素)和色素化合物f(在两端具有预定芳环的三次甲基色素)混合。在630-650纳米波长谱带内没有吸收的色素化合物d、e和f不能单独用作记录介质，但在与其它色素化合物，如色素化合物a、b和c结合使用时可用作记录材料。因此，通过将多种色素化合物结合使用来构建记录层2，可以在630-650纳米范围内得到优选的光吸收和反射率。
此外，用于记录层2的有机色素可选自色素化合物g(在两端具有预定芳环的单次甲基色素)、色素化合物h(在两端具有预定芳环的二次甲基色素)、色素化合物i(在两端具有预定芳环的三次甲基色素)和色素化合物j(在两端具有预定芳环的四次甲基色素)。这些色素化合物g、h、i和j都可与其它色素化合物结合使用，这样可降低反射率在630-650纳米范围内的波长依赖性。因此，在本文中，色素化合物g、h、i和j不是单独使用的，而是与其它化合物作为混合物结合使用的。对于这种混合物，可以从色素化合物g、h、i和j中选择两种或多种；或将色素化合物g-j与色素化合物a-c结合使用；或将色素化合物g-j与色素化合物d-f结合使用；或将色素化合物g-j与色素化合物a-c和色素化合物d-f结合使用。在此，用于光记录介质的记录和再现的半导体激光具有振荡波长，该波长由于产品质量和环境温度的波动而波动。为此，通过混合色素化合物g-j来降低记录层2的波长依赖性对于得到稳定的再现特性是一个极大的优点。
应该注意，前述色素化合物a-j由化学式191-259给出。注意，化学式191-198(色素a1-a8)是色素化合物a的例子；化学式199-206(色素b1-b8)是色素化合物b的例子；化学式207-213(色素c1-c7)是色素化合物c的例子；化学式214和215(色素d1和d2)是色素化合物d的例子；化学式216-220(色素e1-e5)是色素化合物e的例子；化学式221-229(色素f1-f9)是色素化合物f的例子；化学式230(色素g1)是色素化合物g的例子；化学式231-234(色素h1-h4)是色素化合物h的例子；化学式235-247(色素i1-i13)是色素化合物i的例子；以及化学式248-259(色素j1-j12)是色素化合物j的例子。应该注意，在这些色素中，色素a8具有特殊的优点，它能够在溶剂中溶解成20重量/体积百分比或更高的高浓度，这使得容易调节色素溶液的浓度。
记录层2是使用前述有机色素作为记录材料制成的。此外，作为添加剂，可以加入使单线态氧失活的化学物质(失活剂)。作为这种化学物质，可以列举的例子有镍金属配合物、铜配合物、位阻胺化合物、芳族胺化合物、芳族氯化亚铵(immonium)化合物等。通过使用这些失活剂，可以防止记录层2的光学变质。
如上所述，记录层2是通过使用有机色素并加入失活剂(如果需要的话)而制成的，溶解在有机溶剂中，以制备出例如通过旋涂法施用到透明基片1上并干燥的色素涂料。
作为用于制备这种油漆的溶剂，优选这样一种溶剂，其中有机色素和失活剂能够以高溶解度溶解且不会引起基片1的溶胀或溶解。
例如，以下就是合适的溶剂二丙酮醇、3-羟基-3-甲基-2-丁酮、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、环己酮、氯仿、2，3，3，3-四氟-1-丙醇等。
记录层2的厚度优选为50-1000纳米。如果记录层2的厚度小于该范围，那么将导致激光束在记录层2中所产生的热容易到达反射层3，从而不能有效地利用激光束进行信息记录。此外，如果记录层2的厚度高于1000纳米，那么会增加激光束所通过的记录层的体积，因此单位激光功率的温度增加值会下降。因此，难以产生足以进行信息记录的光学变化。
在按照本发明的光记录介质中，记录层2是通过使用前述材料制成的。但光记录介质可以具有不同于通常用于这类型光记录介质的结构。
首先，将透明基片1制成圆盘状，且在与记录层2接触的表面上形成凹凸结构的道槽(tracking groove)或凹点(pit)。
作为基片材料，使用高分子材料，如聚甲基丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂等。这些高分子材料通过，例如注塑或挤塑法制成基片形状。此外，作为透明基片1，还可使用其上通过2P法(光-聚合物法)形成凹槽或凹点的玻璃基片。应该注意，可在透明基片1的表面上形成中间层，并在其上形成记录层2，这样是为了保护透明基片1不受色素涂料溶剂的影响。
前述反射层3是由金属，如金、银、铜、铝和类似物制成的。这些金属都可单独使用或结合使用。反射层3，例如是通过薄膜形成技术，如真空沉积、溅射、离子电镀等类似方法制成的。
在光反射层3之上形成有保护层4，它用于保护记录层2和反射层3不受外部环境的腐蚀和震动影响。
保护层4无需光学透明，因此可由例如通过旋涂法施用并通过紫外线照射硬化的紫外线-硬化树脂而制成，这样可得到一种紫外线硬化的树脂膜。另外，还可使用氟树脂、有机硅树脂、丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂和类似物作为保护层4的材质。而且，保护层4可包含各种添加剂或填料以改善粘性、收缩性能、防湿性能等。
此外，前述光记录介质是一种具有单个透明基片的单板型结构，其上形成有记录层2、光吸收层等。但按照本发明的光记录介质可以是双板型，其中基片粘结到单板结构上。
所粘结的基片可以是单板型圆盘，其透明基片上形成有记录层、保护层等。记录层可以是使用有机色素作为记录材料的记录层，其上事先通过凹凸图案记录有信息信号的金属反射层(再现-专用的记录层)。记录层可以不同于此。注意，在使用有机色素作为记录材料时，应该具有上述的光吸收层。
为了粘结这样的单板型圆盘，圆盘的保护层可以通过使用粘合剂或双面粘合剂胶带粘结到其它圆盘的保护层上。应该注意，用于这种粘结的粘合剂还可用作保护层，从而省略了单板圆盘的保护层。
还有，欲粘结的基片可以是不用于光学信息记录的基片，即没有形成记录层的基片。在这种情况下。基片无需是光学透明的，且可以印刷有商标或具有可通过写入工具在其上写入字母等的表面。
此外，按照本发明的光记录介质可具有气夹层结构，其中分别具有有机色素记录层的两个单板圆盘通过粘结，以使记录层互相相对，中间形成空气层。
以下，为了证实本发明的效果，进行了以下研究。
制备实验1-1(色素化合物a的测试)作为色素化合物a，制备出色素a1-a6。为了检测这些色素的吸收光谱，将这些色素分别溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分比的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机(slow mill)以完全溶解色素。
将所得的这些色素溶液都通过旋涂法涂敷到3厘米×3厘米的玻璃板上，之后干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素a1-a6分别具有图2所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱针对所观察的最大吸收进行了归一化。
图2显示吸收端按照色素a1、色素a2、色素a3、色素a4和色素a5的顺序移向长波一侧移动，而且640纳米上的吸收增加。吸收端向长波一侧的移动是由于二氢吲哚部分的π电子的扩展引起的。
实施例1-1按照如下方式，单独使用色素a4、色素a5和色素a6作为记录材料制备出光盘。
首先，将色素a4、a5和a6中的每一种溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。注意，通过调节色素溶液的浓度，以使所形成的反射层在640纳米波长上的反射率为50％。
另一方面，制备出厚0.6毫米且外径120毫米的聚碳酸酯圆盘基片。注意，在该圆盘的一侧形成间距0.8μm的导槽用于在记录时跟踪激光束。
在该基片上，通过旋涂法涂敷色素溶液来形成记录层。应该注意，使用计算机来控制色素溶液的涂敷量并控制涂敷顺序。
首先，放置该圆盘使其导槽一侧向上且其相对侧卡在吸气型卡盘台上。
在圆盘基片以300rpm旋转时，色素溶液在稍微离开导槽最外层圆周的位置上朝向导槽最内层圆周开始涂敷。然后，将圆盘基片的旋转速度增加到1500rpm以去除过量的色素溶液。之后，将旋转速度暂时下降到500rpm，然后在15秒内增加到2000rpm。
结果，色素溶液扩展到整个圆盘基片表面上，然后干燥形成记录层。注意，记录层的厚度通过测量光学浓度来确定中心膜厚度为100纳米，且厚度偏差在10％以内。
然后，使用耐热型真空沉积装置，在记录层上形成厚度为100纳米的反射层。
在形成反射层时，遮盖具有导向区(guide area)的区域的内外部分，使得反射层仅在具有导槽的区域上形成。此外，为了形成均匀的厚度，在进行沉积时旋转基片。沉积时的真空度为10-6乇且沉积速度和厚度可通过使用石英振动膜厚度计来控制。
然后，通过旋涂法将紫外线硬化树脂(商品名Kayarad OVD-005，由Nihon Kayaku株式会社制造)涂敷到反射层上，形成保护层。旋涂法是如下进行的。
首先，放置该圆盘基片，使其具有导槽的表面向上且对应于导槽内侧的后表面部分卡在吸气型卡盘台上。
在圆盘基片以300rpm旋转时，紫外线硬化树脂在稍微离开导槽最外层圆周的位置上朝向导槽最内层圆周开始涂敷。然后，将圆盘基片的旋转速度增加到1500rpm以去除过量的紫外线硬化树脂。
结果，紫外线硬化树脂就涂敷在整个圆盘基片表面上。应该注意，为了进行紫外线照射，使用80W/厘米直管式汞灯。这样，紫外线硬化树脂就在照射5秒后硬化。
在如此形成的保护层上，粘附双面粘合剂膜以粘结0.6毫米厚的聚碳酸酯基片，得到一种光盘。
所制备出的光盘的反射光谱示于图3、图4和图5。应该注意，图3给出的是使用色素a4制备的光盘的反射光谱；图4给出的是使用色素a5制备的光盘的反射光谱；且图5给出的是使用色素a5制备的光盘的反射光谱。因此，对于所有这些光盘，可在640纳米波长上获得约50％的反射率。
然后，对于这些光盘，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。这种记录试验是在以下条件下进行的。
记录/再现层640纳米的红色半导体激光物镜数值孔径0.6线速度1.8米/秒记录信号EFM+信号最短的位长0.3μm在这些条件下，在逐步增加激光功率的同时进行记录操作。在使用色素a4的光盘的情况下，记录实际上是在约6.5毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加。在激光功率为12毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。参见图6，它表示用12毫瓦激光功率再现信号时所得到的眼图(eye pattern)。
几乎类似地，在使用色素a5的光盘的情况下，记录实际上是在约6.0毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，在激光功率为11毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
在使用色素a6的光盘的情况下，记录实际上是在约6.5毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，在激光功率为10毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，对于使用色素a4的光盘、使用色素a5的光盘和使用色素a6的光盘中的每一种，再现是在650纳米的波长上进行的。类似地，在640纳米的情况下，可得到更好的再现信号。
从前述内容可以理解，在使用色素a4、色素a5和色素a6作为记录材料的光盘中，可在640纳米上进行记录和再现，而且在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够进行稳定的再现。
应该注意，对于使用色素a1、a2、a3、色素a7和色素a8作为记录材料的光盘，使用640纳米波长进行相同的试验。在这些光盘中，记录实际上都是在6.0-6.5毫瓦的激光功率下进行的，且都在约11毫瓦的激光功率下达到60％或更高的信号调制度。此外，用650纳米波长进行再现可得到类似的再现特性。
实施例1-2在色素化合物a当中，分别使用色素a1与a2的混合物、以及色素a3与a5的混合物作为记录材料如下制备光盘。
将色素a1与色素a2以1∶3的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到一种色素溶液。将色素a3与色素a5以5∶1的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到一种色素溶液。调节色素溶液的浓度，以使所形成的反射层在640纳米波长上的反射率为50％。
按照实施例1的相同方式，使用这些色素溶液制备出光盘。
所得光盘的反射光谱示于图7和图8。应该注意，图7给出的是使用色素a1与a2的混合物制备的光盘的反射光谱；图8给出的是使用色素a3和a5的混合物制备的光盘的反射光谱。在这些光盘中，在640纳米波长上可获得约50％的反射率。
然后，对于这些光盘，在与实施例1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光进行记录试验。
结果，在使用色素a1与a2的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约6.5毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加。在激光功率为12毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
几乎类似地，在使用色素a3与a5的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约6.0毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，在激光功率为10毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，对于每一这些光盘，用650纳米波长进行再现可得到更好的再现信号，与用640纳米进行记录/再现时相同。
从前述内容可以理解，在使用色素a的混合物的光盘的情况下，可在640纳米上进行记录/再现，而且在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够进行稳定地再现。
制备实验2-1(色素化合物b的测试)
作为色素化合物b，制备出色素b1和b2。为了检测这些色素的吸收光谱，将这些色素分别溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分数的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机以完全溶解色素。
将所得的这些色素溶液都通过旋涂法涂敷到3厘米×3厘米的玻璃板上，然后干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素b1和b2分别具有图9所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱相对于所观察的最大吸收进行了归一化。
色素b1和b2是在分子内具有噻唑啉骨架的化合物。与分子内具有二氢吲哚骨架的色素a1和a2的吸收光谱相比(如图2所示)，在长波一侧的吸收端适度下降。这意味着，色素b1和b2可用作在640纳米红色半导体激光下进行记录的记录材料。应该注意，除了这些色素，观察色素b3-b8的吸收光谱，也得到其吸收端延伸至640纳米或更高的吸收光谱。
实施例2-1单独使用色素b1和色素26作为记录材料如下制备光盘。
分别将色素b1和b2溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。注意，通过调节色素溶液的浓度，以使所形成的反射层在640纳米波长上的反射率为50％。
按照实施例1的相同方式，使用这些色素溶液制备出光盘。
所得光盘的光反射光谱示于图10和图11。应该注意，图10给出的是使用色素b1制备的光盘的反射光谱；图11给出的是使用色素b2制备的光盘的光反射光谱。在这些光盘中，均可在640纳米波长上获得约50％的反射率。
然后，对于这些光盘，在与实施例1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。
结果，在使用色素b1的光盘的情况下，记录实际上是在约7毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为12毫瓦时，可达到60％或更高的信号调制度。
类似地，在使用色素b2的光盘的情况下，记录实际上是在约7毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为12毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，对于这些光盘，用650纳米波长进行再现。与用640纳米进行记录时相同，可得到更好的再现信号。
从前述内容可以理解，在使用色素b的光盘的情况下，可在640纳米上进行记录和再现，而且在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够进行稳定再现。
制备实验3-1(色素化合物c的测试)作为色素化合物c，制备出色素c2。为了检测该色素的吸收光谱，将该色素溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分比的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机以完全溶解色素。
将所得的色素溶液都通过旋涂法涂敷到3厘米×3厘米的玻璃板上，并干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素c2具有如图12所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱均相对于所观察的最大吸收进行了归一化。
实施例3-1单独使用色素c2作为记录材料如下制备光盘。
将色素c2溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。注意，通过调节色素溶液的浓度，以使所形成的反射层在640纳米波长上的反射率为50％。
按照实施例1的相同方式，使用该色素溶液制备出光盘。
所得光盘的光反射光谱示于图13。这样，该光盘能够在640纳米波长上获得约50％的反射率。
然后，对于该光盘，在与实施例1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。
结果，在使用色素c2的光盘的情况下，记录实际上是在约6.5毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为10毫瓦时，可达到60％或更高的信号调制度。
此外，对于该光盘，用650纳米波长进行再现。与用640纳米进行记录时相同，可得到更好的再现信号。
从前述内容可以理解，在使用色素c的光盘的情况下，可在640纳米上进行记录和再现，而且在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够进行稳定再现。
制备实验4-1(色素化合物的混合物1的测试)色素化合物f在640纳米几乎没有任何吸收。
首先，作为色素化合物f，制备出了色素f7-f9。为了检测这些色素的吸收光谱，将这些色素分别溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分比的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机以完全溶解色素。
将所得的色素溶液都通过旋涂法施用到3厘米×3厘米的玻璃板上，并干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素f7-f9分别具有图14所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱均相对于所观察光谱的最大吸收进行了归一化。
图14显示吸收端按照色素f7、色素f8和色素f9的顺序移向长波一侧移动，但在640纳米处几乎没有看到任何吸收。注意，这种吸收端向长波一侧的移动是由于分子中π电子的离域所导致的。
实施例4-1分别使用色素a5和色素f7的混合物、以及色素化合物b2和色素化合物f7的混合物作为记录材料，如下制备光盘。
将色素a5与色素f7以10∶4.5的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液；将色素b2与色素f9以10∶2.5的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。
按照实施例1-1的相同方式，使用这些色素溶液制备出光盘。
所得光盘的光反射光谱分别示于图15和图16。注意，图15给出的是使用色素a5与色素f7的混合物制备的光盘的反射光谱；图16给出的是使用色素b2与色素f9的混合物制备的光盘的反射光谱。这些色素混合物中的每一种都能够在640纳米波长上获得约50％的反射率。
然后，对于这些光盘，在与实施例1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。
结果，在使用色素a5与f7的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约7毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为12毫瓦时，可获得60％或更高的信号调制度。
几乎类似地，在使用色素b2与f9的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约6毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加。在激光功率为12毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，使用变化至650纳米的波长进行再现，与用640纳米进行记录时相同，可得到更好的再现信号。
从前述内容可以理解，尽管色素化合物f在640纳米处没有任何吸收，但如果与色素化合物a或色素化合物b进行混合，它就能够在640纳米上用于记录/再现。此外，在使用这些混合物作为记录材料的光盘中，在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够进行稳定再现。
应该注意，作为在640纳米上没有吸收的多次甲基色素化合物，可以列举色素d1(最大吸收波长525纳米)、色素d2(最大吸收波长559纳米)、色素e3(最大吸收波长550纳米)和色素f3(最大吸收波长527纳米)。这些色素都可与色素a5进行混合，得到作为光盘记录材料的混合物以进行记录试验。每种光盘记录所需的激光功率都在10-12毫瓦的范围内，因此在实际记录时不会造成任何问题。但可以看出，随着最大吸收波长移向长波一侧，可降低记录所需的激光功率。
制备实验5-1(色素化合物的混合物的测试)
色素化合物i是一种在640纳米处有吸收的有机色素，并且在与其它色素化合物混合时，能够降低640纳米附近的波长依赖性。
首先，作为色素化合物i，制备出色素i4-i7。为了检测这些色素的吸收光谱，将这些色素分别溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分比的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机以完全溶解色素。
将所得的这些色素溶液都通过旋涂法施用到3厘米×3厘米的玻璃板上，并干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素i4和i7分别具有图17所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱均相对于所观察的最大吸收进行了归一化。
图17显示这些色素i4和i7的吸收光谱的特征在于，长波一侧的吸收端向波长更长的一侧延伸超过700纳米。
实施例5-1分别使用色素a3与色素i4的混合物，以及色素化合物f9与色素化合物i7的混合物作为记录材料，如下制备光盘。
将色素a3与色素i4以10∶9.5的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液；将色素f9与色素i7以10∶8的重量比进行混合，然后溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。
按照实施例1-1的相同方式，使用这些色素溶液制备出光盘。
如此制得光盘的反射光谱示于图18。注意，图18给出的是使用色素a3与色素i4的混合物制备的光盘的反射光谱；图19给出的是使用色素f9与色素i7的混合物制备的光盘的反射光谱。
首先，在使用色素a3与色素i4的混合物得到的反射光谱的情况下(如图18所示)，可以理解，反射率朝向长波一侧增加，但这种增加在640纳米附近减慢。
此外，在使用色素f9与色素i7的混合物得到的反射光谱中(如图19所示)，反射率朝向长波一侧增加，但这种增加在640纳米附近受到抑制。
因此，可以理解在将色素化合物与色素i4或色素i7混合时，反射率的波长依赖性在640纳米附近降低。尤其是，色素a3与i4的组合可明显降低反射率的波长依赖性。
然后，对于这些光盘，在与实施例1-1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。
结果，在使用色素a3与i4的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约6毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为10毫瓦时，可获得60％或更高的信号调制度。
几乎类似地，在使用色素f8与i7的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约7毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加。在激光功率为11毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，使用变化至650纳米的波长进行再现与用640纳米进行记录时相同，可得到更好的再现信号。
从前述内容可以理解，在使用色素i4和i7与其它色素化合物的混合物的光盘的情况下，在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够稳定再现。
应该注意，除了此处所用的那些化合物外，包含色素化合物g、色素化合物h或色素化合物i的混合物也有降低640纳米附近的波长依赖性的效果。
制备实验6-1(色素化合物的混合物3的测试)色素化合物j是一种在640纳米具有吸收的有机色素，而且在与其它色素化合物混合时，具有降低640纳米附近的波长依赖性的作用。
首先，作为色素化合物j，制备出了色素j1-j6。为了检测这些色素的吸收光谱，将这些色素分别溶解在四氟丙醇中，得到3.0重量/体积百分比的溶液。应该注意，在色素的溶解速度太慢时，可使用超声波洗涤器和慢速磨机以完全溶解该色素。
将所得的这些色素溶液分别通过旋涂法施用到3厘米×3厘米的玻璃板上，并干燥形成色素层，然后观察其吸收光谱。色素j1和j6分别具有如图20所示的吸收光谱。应该注意，这些吸收光谱均相对于所观察的最大吸收进行了归一化。
图20显示这些色素j1和j6的吸收光谱的特征在于，长波一侧的吸收端朝波长更长的一侧延伸超过700纳米。
实施例6-1分别使用色素a1与色素j6的混合物，以及色素化合物a3与色素化合物j1的混合物作为记录材料，如下制备光盘。
将色素a1与色素j6以15∶14的重量比进行混合，并溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液；将色素a3与色素j1以10∶5的重量比进行混合，并溶解在四氟丙醇中，得到色素溶液。
按照实施例1-1的相同方式，使用这些色素溶液制备出光盘。
如此所得光盘的光反射光谱示于图21和图22。注意，图21给出的是使用色素a1与色素j6的混合物制备的光盘的反射光谱；图22给出的是使用色素a3与色素j1的混合物制备的光盘的反射光谱。
首先，在使用色素a1与色素j6的混合物得到的反射光谱的情况下(如图21所示)，可以看出，反射率朝向长波一侧增加，但这种增加在640纳米附近减慢。
此外，在使用色素a3与色素j1的混合物得到的反射光谱中(如图22所示)，反射率朝向长波一侧增加，但这种增加在640纳米附近受到抑制。
因此，可以看出，在将色素化合物与色素j1或色素j6混合时，反射率的波长依赖性在640纳米附近得到降低。
然后，对于这些光盘，在与实施例1-1相同的条件下，使用640纳米的红色半导体激光作为光源进行记录试验。
结果，在使用色素a1与j6的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约6.5毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加，而且在激光功率为10毫瓦时，可获得60％或更高的信号调制度。
几乎类似地，在使用色素f8与i7的混合物的光盘的情况下，记录实际上是在约7毫瓦的激光功率下开始的。信号调制随着激光功率的增加而增加。在激光功率为10.5毫瓦时，可得到60％或更高的信号调制度。
此外，使用变化至650纳米的波长进行再现与用640纳米进行记录时相同，可得到更好的再现信号。
在使用色素j与其它色素化合物的混合物的光盘的情况下，在640纳米附近的波长依赖性小，因此能够稳定再现。
权利要求
1.一种包括在透光基片上形成的记录层和光反射层的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式I表示的多次甲基色素、由结构式II表示的多次甲基色素和由结构式III表示的多次甲基色素中的至少一种结构式IA1-CH＝CH-CH＝B1X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A1为由化学式1-3表示的原子团，且B1为由化学式4表示的原子团)[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
(在化学式1-4中，R1表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R1时，R1相互之间可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R2和R3表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R2或R3时，R2或R3可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；且m为1、2、3或4)结构式IIA2-CH＝C(Y1)-CH＝B2X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；A2为由化学式5-8表示的原子团，且B2为由化学式9表示的原子团)[化学式5]
[化学式6]
[化学式7]
[化学式8]
[化学式9]
(在化学式5-9中，R4表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R4时，R4无需是相同的取代基；还有，R5和R6表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R5或R6时，R5或R6可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；且m为1、2、3或4)结构式IIIA3-CH＝C(Y2)-CH＝B3X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A3为由化学式10-13表示的原子团，且B3为由化学式14和15表示的原子团；此外，Y2表示氢原子、烷基或卤素原子)[化学式10]
[化学式11]
[化学式12]
[化学式13]
[化学式14]
[化学式15]
(在化学式10-15中，R7表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R7时，R7可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R8和R9表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R8或R9时，R8或R9可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；且m为1、2、3或4)。
2.根据权利要求1的光记录介质，其中所述记录层包含由结构式I表示的多次甲基色素、由结构式II表示的多次甲基色素和由结构式III表示的多次甲基色素中的至少两种。
3.根据权利要求1的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式IV表示的多次甲基色素、由结构式V表示的多次甲基色素和由结构式VI表示的多次甲基色素中的至少一种结构式IVA4-CH＝B4X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A4为由化学式16表示的原子团，且B4为由化学式17和18表示的原子团)[化学式16]
[化学式17]
[化学式18]
(在化学式16-18中，R10表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R10时，R10可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R11和R12表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R11或R12时，R11或R12可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式VA5-CH＝CH-B5X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A5为由化学式19-24表示的原子团，且B5为由化学式25表示的原子团)[化学式19]
[化学式20]
[化学式21]
[化学式22]
[化学式23]
[化学式24]
[化学式25]
(在化学式19-25中，R13表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R13时，R13可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R14和R15为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R14或R15时，R14或R15可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式VIA6-CH＝C(Y3)-CH＝B6X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A6为由化学式26-28表示的原子团，且B6为由化学式29和30表示的原子团；Y3为氢原子、烷基或卤素原子)[化学式26]
[化学式27]
[化学式28]
[化学式29]
[化学式30]
(在化学式26-30中，R16和R18表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R16或R18时，R16或R18可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R17和R19表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R17或R19时，R17或R19可以是相同的取代基或不同的取代基；m为1、2、3或4)。
4.根据权利要求1的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式VII表示的多次甲基色素、由结构式VIII表示的多次甲基色素、由结构式IX表示的多次甲基色素和由结构式X表示的多次甲基色素中的至少一种结构式VIIA7-CH＝B7X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A7为由化学式31表示的原子团，且B7为由化学式32表示的原子团)[化学式31]
[化学式32]
(在化学式31和32中，R20表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R20时，R20可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R21和R22表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基、卤素原子，当分子包含多个R21或R22时，R21或R22可以是相同的取代基或不同的取代基。n为1或2；m为1、2、3或4)；结构式VIIIA8-CH＝CH-B8X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A8为由化学式33-36表示的原子团，且B8为由化学式37表示的原子团)[化学式33]
[化学式34]
[化学式35]
[化学式36]
[化学式37]
(在化学式33-37中，R23表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R23时，R23可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R24和R25表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基、卤素原子，当分子包含多个R24或R25时，R24或R25可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)；结构式IXA9-CH＝CH-CH＝B9X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A9为由化学式38-44表示的原子团，且B9为由化学式45和46表示的原子团)[化学式38]
[化学式39]
[化学式40]
[化学式41]
[化学式42]
[化学式43]
[化学式44]
[化学式45]
[化学式46]
(在化学式38-46中，R27表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R27时，R27可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R28和R29表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基、卤素原子，当分子包含多个R28或R29时，R28或R29可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)；结构式XA10-CH＝CH-CH＝CH-B10X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；A10为由化学式47-53表示的原子团，且B10为由化学式54和55表示的原子团)[化学式47]
[化学式48]
[化学式49]
[化学式50]
[化学式51]
[化学式52]
[化学式53]
[化学式54]
[化学式55]
(在化学式47-55中，R30表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R30时，R30可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R31和R32表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基、卤素原子，当分子包含多个R31或R32时，R31或R32可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)。
5.根据权利要求4的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式XI表示的多次甲基色素、由结构式XII表示的多次甲基色素和由结构式XIII表示的多次甲基色素中的至少一种结构式XIA4-CH＝B4X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A4为由化学式56表示的原子团，且B4为由化学式57和58表示的原子团)[化学式56]
[化学式57]
[化学式58]
(在化学式56-58中，R10表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R10时，R10可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R11和R12表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R11或R12时，R11或R12可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XIIA5-CH＝CH-B5X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A5为由化学式59-64表示的原子团，且B5为由化学式65表示的原子团)[化学式59]
[化学式60]
[化学式61]
[化学式62]
[化学式63]
[化学式64]
[化学式65]
(在化学式59-65中，R13表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R13时，R13可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R14和R15为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R14或R15时，R14或R15可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XIIIA6-CH＝C(Y3)-CH＝B6X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A6为由化学式66-68表示的原子团，且B6为由化学式69和70表示的原子团；Y3为氢原子、烷基或卤素原子)[化学式66]
[化学式67]
[化学式68]
[化学式69]
[化学式70]
(在化学式66-70中，R16和R18表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R16或R18时，R16或R18可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R17和R19表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R17或R19时，R17或R19可以是相同的取代基或不同的取代基；m为1、2、3或4)。
6.根据权利要求1的光记录介质，其中所述透光基片由选自聚甲基丙烯酸类树脂、聚碳酸酯树脂和聚烯烃树脂的材料制成。
7.根据权利要求1的光记录介质，其中所述记录层包含选自镍金属配合物、铜配合物、位阻胺化合物、芳族胺化合物和芳族氯化亚铵化合物的至少一种作为失活剂。
8.根据权利要求1的光记录介质，其中所述记录层的厚度为50-1000纳米。
9.根据权利要求1的光记录介质，其中在所述反射层上还有保护层。
10.一种包含在透光基片上形成的记录层和光反射层的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式XIV表示的多次甲基色素、由结构式XV表示的多次甲基色素、由结构式XVI表示的多次甲基色素和由结构式XVII表示的多次甲基色素中的至少两种结构式XIVA7-CH＝B7X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A7为由化学式71表示的原子团，且B7为由化学式72表示的原子团)[化学式71]
[化学式72]
(在化学式71和72中，R20表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R20时，R20可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R21和R22表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R21或R22时，R21或R22可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XVA8-CH＝CH-B8X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A8为由化学式73-76表示的原子团，且B8为由化学式77表示的原子团)[化学式73]
[化学式74]
[化学式75]
[化学式76]
[化学式77]
(在化学式73-77中，R23表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R23时，R23可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R24和R25表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R24或R25时，R24或R25可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XVIA9-CH＝CH-CH＝B9X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A9为由化学式78-84表示的原子团，且B9为由化学式85和86表示的原子团)[化学式78]
[化学式79]
[化学式80]
[化学式81]
[化学式82]
[化学式83]
[化学式84]
[化学式85]
[化学式86]
(在化学式78-86中，R27表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R27时，R27可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R28和R29表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R28或R29时，R28或R29可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XVIIA10-CH＝CH-CH＝CH-B10X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；A10为由化学式87-93表示的原子团，且B10为由化学式94和95表示的原子团)[化学式87]
[化学式88]
[化学式89]
[化学式90]
[化学式91]
[化学式92]
[化学式93]
[化学式94]
[化学式95]
(在化学式87-95中，R30表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R30时，R30可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R31和R32是氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R31或R32时，R31或R32可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)。
11.一种包括在透光基片上形成的记录层和光反射层的光记录介质，其中所述记录层包含如下由结构式XVIII表示的多次甲基色素、由结构式XIX表示的多次甲基色素和由结构式XX表示的多次甲基色素中的至少一种并结合由结构式XXI表示的多次甲基色素、由结构式XXII表示的多次甲基色素、由结构式XXIII表示的多次甲基色素和由结构式XXIV表示的多次甲基色素中的至少一种结构式XVIIIA4-CH＝B4X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A4为由化学式96表示的原子团，且B4为由化学式97和98表示的原子团)[化学式96]
[化学式97]
[化学式98]
(在化学式96-98中，R10表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R10时，R10可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R11和R12表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R11或R12时，R11或R12可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XIXA5-CH＝CH-B5X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A5为由化学式99-104表示的原子团，且B5为由化学式105表示的原子团)[化学式99]
[化学式100]
[化学式101]
[化学式102]
[化学式103]
[化学式104]
[化学式105]
(在化学式99-105中，R13表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R13时，R13可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R14和R15为氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R14或R15时，R14或R15可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XXA6-CH＝C(Y3)-CH＝B6X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A6为由化学式106-108表示的原子团，且B6为由化学式109和110表示的原子团；Y3为氢原子、烷基或卤素原子)[化学式106]
[化学式107]
[化学式108]
[化学式109]
[化学式110]
(在化学式106-110中，R16和R18表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R16或R18时，R16或R18可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R17和R19表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R17或R19时，R17或R19可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XXIA7-CH＝B7X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A7为由化学式111表示的原子团，且B7为由化学式112表示的原子团)[化学式111]
[化学式112]
(在化学式111和112中，R20表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R20时，R20可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R21和R22表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R21或R22时，R21或R22可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XXIIA8-CH＝CH-B8X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A8为由化学式113-116表示的原子团，且B8为由化学式117表示的原子团)[化学式113]
[化学式114]
[化学式115]
[化学式116]
[化学式117]
(在化学式113-117中，R23表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R23时，R23可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R24和R25表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R24或R25时，R24或R25可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XXIIIA9-CH＝CH-CH＝B9X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；还有，A9为由化学式118-124表示的原子团，且B9为由化学式125和126表示的原子团)[化学式118]
[化学式119]
[化学式120]
[化学式121]
[化学式122]
[化学式123]
[化学式124]
[化学式125]
[化学式126]
(在化学式118-126中，R27表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R27时，R27可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R28和R29表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R28或R29时，R28或R29可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)结构式XXIVA10-CH＝CH-CH＝CH-B10X-(其中X-表示Br-、I-、ClO4-、BF4-、PF6-和SbF6-；A10为由化学式127-133表示的原子团，且B10为由化学式134和135表示的原子团)[化学式127]
[化学式128]
[化学式129]
[化学式130]
[化学式131]
[化学式132]
[化学式133]
[化学式134]
[化学式135]
(在化学式127-135中，R30表示烷基、烷氧基和芳基，当分子包含多个R30时，R30可以是相同的取代基或不同的取代基；还有，R31和R32表示氢原子、烷基、烷氧基、氨基、硝基、氰基、芳基、烷氧羰基、磺酰基烷基和卤素原子，当分子包含多个R31或R32时，R31或R32可以是相同的取代基或不同的取代基；n为1或2；m为1、2、3或4)。
全文摘要
本发明提供了一种包含在基片1上形成的记录层2和光反射层3的光记录介质。记录层2包含选自在次甲基主链上具有1－4个碳原子的多次甲基色素的至少一种特定多次甲基色素,这样可在红光波长范围内获得足够的记录灵敏度。
文档编号C07D277/64GK1253528SQ9880443
公开日2000年5月17日 申请日期1998年4月23日 优先权日1997年4月23日
发明者田村真一郎, 小山田光明 申请人:索尼株式会社