专利名称：红外敏感的光敏组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种红外敏感的光敏组合物，尤其是，涉及一种用于能够由数字信号如计算机数据直接制板的正性平版印刷板前体的成像层(用于所谓的直接制板)的红外敏感的光敏组合物。
但使用(1)静电复印的方法在工艺如起电，曝光和显影中复杂，且需要复杂和大规模的设备。方法(2)在后加热工艺过程中需要高度敏感的印刷材料，且难以在日光下处理。因为方法(3)和(4)使用银盐，处理复杂且不经济。方法(5)是一种相对趋向完美的方法，但仍有去除板上的硅氧烷残余物的问题。
另一方面，激光近年来发展显著，尤其是，容易得到在近红外红外的发射区域具有高输出的小型化固体态激光器和半导体激光器。在制板体系的紧凑性，制板工作时的环境光和制板材料成本方面，该激光非常适用作由数字信号如计算机数据直接制板的曝光光源。
作为常规平版印刷板材料，日本专利公开号No.27919/1971公开了一种按照数据通过加热包含记录层的印刷材料而形成图像的方法，其中将在加热之前不溶或微溶并在加热之后变得更加可溶于溶剂的聚合物化合物或组合物混入所述层，和日本专利延迟公开No.69192/1981公开了一种具有包含线性酚醛清漆型苯酚树脂和炭黑的热敏层的热敏记录材料。但这些专利仅公开其中图像不使用激光束记录的情形的例子，而如果在由数字数据如计算机直接制板的情况下图像通过具有近红外红外发射区域的激光器作为曝光光源而记录，由于背景染色和印刷寿命的下降而必然不能得到良好的印刷物质。为了得到良好的印刷物质，要求曝光区域(非图像区域)应该容易在曝光之后通过碱显影处理而溶解并留下未曝光区域(图像区域)且剩余的图像区域具有良好的耐久性。即，根据理解，因为图像的记录性能不好，如果激光束用于以上熟知的技术，非图像区域难以溶解且图像区域容易溶解。
为了解决已有技术中的这些问题，日本专利延迟公开No.285275/1995公开，作为成像层使用一种包含粘结剂，吸收光并产生热的物质，和热可分解的且基本上降低粘结剂在不分解状态下的溶解度的物质的图像记录材料，这样得到具有良好的记录性能，能够通过原样使用常规处理装置和印刷机由数字信号如计算机数据直接制板的平版印刷板材料。
另外，日本专利延迟公开No.215693/2001公开了具有正性成像层的成像材料，其中所述正性成像层含有产酸剂和酸分解化合物。
另外，日本专利延迟公开No.282643/1998公开了对于包含光-热转化物质和包含有机酸的碱溶性树脂的正性光敏组合物，可通过未曝光区域中的残余膜速率。
另外，日本专利延迟公开No.324808/2001公开了一种包含特定重量比的光-热转化物质，酚醛清漆树脂，和包含(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸酯树脂的正性光敏组合物，而且可以得到高速度并提高未曝光区域的残余膜速率。
但在以上公开的技术，需要进一步提高在其中显影溶液活性改变的情况下的加工性能(显影宽容度)和印刷寿命。
本发明的以上目的通过以下方式而实现。
(1)一种红外敏感的光敏组合物，包含(A)树脂，(B)酚醛清漆树脂，和(C)光-热转化物质，其中树脂(A)至少具有作为共聚物组分的(1)(甲基)丙烯酸或结构式(I)表示的单体；和(2)至少一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物 其中R1表示氢原子或烷基基团；和X表示亚芳基基团或以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团；和Ar表示亚芳基基团。
(2)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是(甲基)丙烯酸，和组分(2)是至少一种选自(甲基)丙烯酰胺衍生物和苯乙烯衍生物的化合物。
(3)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是结构式(I)表示的单体 其中R1表示氢原子或烷基基团，和X表示可以具有取代基的亚芳基基团或以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团，和Ar表示可以具有取代基的亚芳基基团。
(4)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中X表示亚芳基基团。
(5)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中X表示以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团，和Ar表示亚芳基基团。
(6)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中X表示以下结构式表示的基团 其中Y表示-NR2-Z-，R2表示氢原子或烷基基团，和Z表示二价连接基团。
(7)根据上述(1)的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是一种选自下列化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)的单体 按照上述方式，不应用酸分解化合物，也可以获得显示优异显影宽容度和印刷寿命的红外敏感的光敏组合物。发明详述以下详细描述本发明的红外敏感的光敏组合物。
首先描述其中树脂(A)(以下树脂(A)有时称作树脂(A)或组分(A))是丙烯酸酯树脂的情形。
即，描述可用于本发明红外敏感的光敏组合物的丙烯酸酯树脂(A)的情形，其优选至少具有作为共聚物组分的(1)至少一种(甲基)丙烯酸，和(2)至少一种(甲基)丙烯酰胺衍生物或苯乙烯衍生物。(相应的共聚物组分有时称作共聚物组分(1)和共聚物组分(2)。)在这种情况下，树脂(A)的共聚物组分(1)包含至少一种(甲基)丙烯酸。
在该说明书中，丙烯酸和甲基丙烯酸总称(甲基)丙烯酸。术语“包括(甲基)丙烯酸作为共聚物组分”是指，包含至少丙烯酸或甲基丙烯酸作为共聚物组分。这类似适用于稍后描述的(甲基)丙烯酰胺衍生物。
丙烯酸酯树脂(A)的(甲基)丙烯酸含量优选为丙烯酸酯树脂(A)的2-50mol％，更优选5-40mol％，和进一步更优选10-30mol％。如果(甲基)丙烯酸的含量小于以上范围，碱显影能力下降，而如果含量大于该范围，膜残余率不利地下降。
随后描述可用于本发明红外敏感的光敏组合物的树脂(A)的情形，其优选具有作为共聚物组分的至少(1)至少一种表示为结构式(I)的单体，和(2)至少一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。(相应的共聚物组分有时称作共聚物组分(1)和共聚物组分(2)。)在该说明书中，丙烯酸和甲基丙烯酸总称(甲基)丙烯酸。术语“包括(甲基)丙烯酸酯作为共聚物组分”是指，包含至少丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯作为共聚物组分。这类似适用于稍后描述的(甲基)丙烯酰胺衍生物。
用于本发明红外敏感的光敏组合物的树脂(A)的共聚物组分(I)包含至少一种表示为结构式(I)的单体。
在结构式(I)中，R1表示氢原子或烷基基团，并优选氢原子或具有1-4个碳原子的烷基基团。
X表示可具有取代基的亚芳基基团或任何以下结构式 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团，和Ar表示亚芳基基团。Y和Ar可具有取代基。
作为Y表示的二价连接基团，可以例举的有可具有取代基的亚烷基基团，亚芳基基团，亚氨基基团和亚芳氧基(aryleneoxy)基团。取代基的例子包括烷基基团，羟基基团，烷氧基基团，卤素原子，苯基基团，二甲基氨基基团，环氧乙烷基团，乙烯基基团，和o-羧基苯甲酰氧基基团。
当X表示-C(＝O)-Y-时，Y可以是-NR2-Z-，其中R2表示氢原子或烷基基团，和Z表示二价连接基团。作为Z表示的二价连接基团，可以例举的有与上述Y相同的基团。
以下给出结构式(I)表示的单体的具体例子，但本发明不限于此。 a-14R＝-H，a-15R＝-CH3
在上式(I)表示的单体的例子中，优选化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)。
表示为结构式(I)的单体在树脂(A)中的含量优选为1-90mol％，更优选2-50mol％，和进一步更优选5-30mol％。如果单体的含量小于以上范围，碱显影能力下降，而如果含量大于该范围，膜残余速率不利地下降。
树脂(A)的共聚物组分(2)包含至少一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。共聚物组分(2)可包含一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物，可包含任意两种这些化合物，或可包含三种或更多化合物。即，例如，树脂(A)的共聚物组分(2)可包含总共四种的两种选自(甲基)丙烯酸酯的化合物和两种选自苯乙烯衍生物的化合物。
本发明中的共聚物组分(2)的(甲基)丙烯酸酯是取代的或未取代的烷基酯或芳基酯。作为烷基基团，例如列举甲基，乙基，n-丙基，异丙基，n-丁基，异丁基，t-丁基，n-己基，n-庚基，n-辛基和2-乙基己基。作为芳基基团，例如列举苯基，1-萘基，2-萘基和苄基。烷基基团和芳基基团可被取代，例如列举，羟基基团，烷氧基基团，卤素原子，苯基基团，二甲基氨基基团，环氧乙烷基团，乙烯基基团，和o-羧基苯甲酰氧基基团作为取代基。
作为本发明中的丙烯酸酯，优选使用丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸异丙酯和甲基丙烯酸正丁基酯。
(甲基)丙烯酸酯可在本发明中单独或两种或多种结合使用。
(甲基)丙烯酸酯在树脂(A)中的含量优选为0-95mol％，更优选5-90mol％，和进一步更优选10-80mol％。
构成本发明共聚物组分(2)的(甲基)丙烯酰胺衍生物并不特别限定，只要它们是(甲基)丙烯酰胺的衍生物，但优选使用表示为结构式(c)的(甲基)丙烯酰胺衍生物
其中R1表示氢原子或烷基基团，R2和R3分别表示氢原子，具有1-10个碳原子的烷基基团，或具有6-10个碳原子的芳基基团，条件是R2和R3不同时表示氢原子。
R1表示氢原子或烷基基团，和优选氢原子或具有1-4个碳原子的烷基基团。
作为表示为R2和R3的具有1-10个碳原子的烷基基团，例如列举甲基，乙基，n-丙基，n-丁基，异丁基，t-丁基，n-己基，n-庚基，n-辛基和2-乙基己基。作为具有6-10个碳原子的芳基基团，例如列举，苯基，1-萘基和2-萘基。烷基基团和芳基基团可被取代，且例如列举羟基基团，烷氧基基团，卤素原子，苯基基团，二甲基氨基基团，环氧乙烷基团，乙烯基基团，和o-羧基苯甲酰氧基基团作为取代基。但R2和R3不同时表示氢原子。
以下给出(甲基)丙烯酰胺衍生物的具体例子，但本发明不限于此此。
(c-1)N-叔-丁基丙烯酰胺(c-2)N-(n-丁氧基甲基)丙烯酰胺(c-3)N-叔-丁基甲基丙烯酰胺(c-4)N-(1，1-二甲基-3-氧丁基)丙烯酰胺(c-5)N，N-二甲基甲基丙烯酰胺(c-6)N，N-二甲基丙烯酰胺(c-7)N-异丙基丙烯酰胺(c-8)N-甲基甲基丙烯酰胺(c-9)N-苯基甲基丙烯酰胺(c-1 0)N-[3-(二甲基氨基)丙基]丙烯酰胺在共聚物组分(2)中，(甲基)丙烯酰胺衍生物可单独或两种或多种结合使用。
(甲基)丙烯酰胺衍生物在树脂(A)中的含量优选为0-95mol％，更优选5-90mol％，和进一步更优选20-80mol％。
构成本发明共聚物组分(2)的苯乙烯衍生物并不特别限定，只要它们是苯乙烯的衍生物，但优选使用表示为结构式(b)的苯乙烯衍生物 其中R4，R5和R6-R10分别表示氢原子或取代基。
表示为R4，R5和R6-R10的取代基并不特别限定，且例如列举烷基基团，芳基基团，羟基基团，羧基基团和卤素原子作为取代基。R4，R5和R6-R10可连接形成环。
以下给出苯乙烯衍生物的具体例子，但本发明不限于此此。
(b-1)4-溴苯乙烯(b-2)β-溴苯乙烯(b-3)4-氯-α-甲基苯乙烯(b-4)3-氯苯乙烯(b-5)4-氯苯乙烯(b-6)2，6-二氯苯乙烯(b-7)2-氟苯乙烯(b-8)3-氟苯乙烯(b-9)4-氟苯乙烯(b-10)甲基苯乙烯(b-11)乙烯基甲苯(b-12)反式-β-甲基苯乙烯
除了以上苯乙烯，可例举的有乙烯基苯甲酸，乙烯基苯甲酸甲酯，羟基苯乙烯，p-苯乙烯磺酸钠，p-苯乙烯亚磺酸钾，p-氨基甲基苯乙烯和1，4-二乙烯基苯。上述苯乙烯衍生物可单独或两种或多种结合使用。
苯乙烯衍生物在树脂(A)中的含量优选为0-95mol％，更优选5-90mol％，和进一步更优选20-80mol％。
包含共聚物组分(1)和(2)的树脂(A)本身具有优选的特性，如，优选的显影宽容度，但可通过与第三共聚物组分的共聚反应而得到对其它各种特性的进一步提高或改进。例如，其它各种特性包括化学耐性，印刷寿命，敏感度，显影能力，等。作为第三共聚物组分，可例举的有丙烯酸酯，丙烯腈，马来酰亚胺，乙酸乙烯酯，N-乙烯基吡咯烷酮，等。
本发明树脂(A)的重均分子量优选为5,000-200,000，更优选10,000-120,000，进一步更优选10,000-100,000，尤其优选20,000-80,000，和最优选30,000-60,000。如果分子量太小，不能得到足够的涂布，而如果太大，显影能力往往下降。
共聚反应可以使用常规已知的接枝共聚反应方法，嵌段共聚反应方法和无规共聚反应方法。
当本发明红外敏感的光敏组合物用于平版印刷板的光敏层，树脂(A)的含量优选为基于总固体含量的1-50wt％，更优选1-40wt％，进一步更优选2-30wt％，和最优选5-20wt％。如果树脂(A)的含量超过50wt％，印刷寿命在燃烧时不利地下降。
以下详细描述按照本发明的酚醛清漆树脂(B)。
作为酚醛清漆树脂，本发明优选使用的酚醛清漆树脂例如有苯酚-甲醛树脂，m-甲酚-甲醛树脂，p-甲酚-甲醛树脂，混合m-/p-甲酚-甲醛树脂，和混合苯酚-甲酚(可以使用任何m-，p-，或m-/p-混合物)-甲醛树脂，和焦没食子酚-丙酮树脂。
正如U.S.专利4,123,279所公开，例如列举具有3-8个碳原子的烷基基团作为取代基的苯酚和甲醛的缩聚反应产物，如，t-丁基苯酚-甲醛树脂和辛基苯酚-甲醛树脂。这些缩聚反应产物的重均分子量优选为500或更多，更优选1,000-700,000，和数均分子量优选为500或更多，和更优选750-650,000。缩聚反应产物的分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1-10。
如果根据本发明红外敏感的光敏组合物用于平版印刷板的光敏层，优选的是，用于本发明的酚醛清漆树脂的使用比例应该是光敏层的总固体含量的10-95wt％，和更优选20-90wt％。如果酚醛清漆树脂的含量低于10wt％，通过燃烧处理提高印刷寿命的效果低，因此该光敏组合物在某些情况下不适用。
除了酚醛清漆树脂，优选进一步将不溶于水和可溶于碱水溶液的树脂(以下仅称作碱溶性树脂)加入本发明的红外敏感的光敏组合物。
碱溶性树脂的例子包括，如，聚羟基苯乙烯，羟基苯乙烯聚卤化物，N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共聚物，氢醌单甲基丙烯酸酯共聚物，公开于日本专利延迟公开No.28244/1995的磺酰基酰亚胺聚合物，和公开于日本专利延迟公开No.36184/1995的含羧基基团的聚合物。另外，也可使用各种碱溶性高分子量化合物这些例如公开于日本专利延迟公开No.34711/1976的具有苯酚羟基基团的丙烯酸酯树脂，公开于日本专利延迟公开No.866/1990的具有磺酰氨基基团的丙烯酸酯树脂，和氨基甲酸乙酯树脂。
这些碱溶性高分子量化合物优选具有重均分子量500-20,000和数均分子量200-60,000。这些碱溶性高分子量化合物可单独或两种或多种结合使用，且它们的用量是基于整个组合物的80wt％或更低。
另外，为了提高图像的敏化性能，如U.S.专利4,123,279所公开，优选使用具有3-8个碳原子的烷基基团作为取代基的苯酚和甲醛的缩合产物，如，t-丁基苯酚-甲醛树脂和辛基苯酚-甲醛树脂。
这些碱溶性树脂的用量一般是基于组合物总重的90wt％或更低。在分子中具有任何官能团苯酚羟基基团，亚磺酰氨基基团和活性亚氨基基团的高分子量化合物作为其它碱溶性树脂特别优选用于本发明。
将光-热转化剂(C)(以下还称作“组分(C)”)加入本发明的红外敏感的光敏组合物。
用于本发明的光-热转化剂(C)并不特别限定，只要它们是吸收红外线并产生热的物质。除了红外吸收染料，可以使用列举之外的称作红外吸收颜料和红外吸收染料的各种颜料。
作为这些颜料，可以使用市售颜料和描述于Color Index(C.I.)Handbook，Saishin Ganryo Binran(最新颜料手册)，由Nippon Canryo Gijutsu Kyokai编辑(1977)，Saishin Ganryo Oyo Gijutsu(最新颜料应用技术)，CMC PublishingCo.(1986)，和Insatsu Ink Gijutsu(印刷油墨技术)，CMC Publishing Co.(1984)的颜料。
作为可用于本发明的颜料的种类，可以例举黑色颜料，黄色颜料，橙色颜料，褐色颜料，红色颜料，紫色颜料，蓝色颜料，绿色颜料，荧光颜料，金属粉末颜料，和聚合物共轭染料。具体地，可以使用不溶性偶氮颜料，偶氮色淀颜料，缩合偶氮颜料，螯合物偶氮颜料，酞菁-系列颜料，蒽醌-系列颜料，苝-系列颜料，萘环酮(perinone)-系列颜料，硫靛-系列颜料，喹吖啶酮-系列颜料，二噁嗪-系列颜料，异吲哚啉酮-系列颜料，喹酞酮-系列颜料，染色色淀颜料，吖嗪颜料，亚硝基颜料，硝基颜料，天然颜料，荧光颜料，无机颜料和炭黑。
这些颜料可无需表面处理而使用或可进行表面处理。作为表面处理的方法，可以例举使用树脂和蜡的表面涂布方法，利用表面活性剂的方法，和在颜料表面上结合反应性物质(如，硅烷偶联剂，环氧化合物和聚异氰酸酯)的方法。这些表面处理方法描述于Kinzoku Sekkenno Seishitsuto Oyo(金属皂的性质和应用)，Saiwai Shobo Co.，Insatsu Ink Gijutsu(印刷油墨技术)，CMC Publishing Co.(1984)，和Saishin Ganryo Oyo Gijutsu(最新颜料的应用技术)，CMC Publishing Co.(1986)颜料具有优选0.01-10μm，更优选0.05-1μm，和尤其优选0.1-1μm的颗粒尺寸。如果这些颜料的颗粒尺寸低于0.01μm，难以得到记录层的涂布溶液中的分散稳定性，而如果颗粒尺寸超过10μm，不能得到均匀记录层。
可以使用用于制造油墨和调色剂的熟知分散方法作为颜料分散方法。分散装置的例子包括超声分散器，砂磨机，超微磨碎机，珠磨机，超磨机，球磨机，叶轮，分散器，KD磨机，胶体磨机，负特性管(dynatron)，三辊磨机，和压力捏合机，且分散装置的细节详细描述于Saishin Ganryo OyoGijutsu(最新颜料的应用技术)，CMC Publishing Co.(1986)作为用于此的染料，可以使用市售染料和例如描述于Yuki GoseiKagaku Kyokai(1970)编辑的Senryo Binran(染料手册)的熟知的染料。这些染料的具体例子包括偶氮染料，金属配合物偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料，蒽醌染料，酞菁染料，碳鎓染料，醌亚胺染料，次甲基染料和菁染料。
在上述颜料和染料中，吸收红外线或近红外线的那些特别优选使用，因为它们适用于发射红外线或近红外线的激光器。
作为吸收红外线或近红外线的这些颜料，优选使用炭黑。另外，作为吸收红外线或近红外线的染料，例如可以列举公开于日本专利延迟公开Nos.125246/1983，84356/1984，202829/1984和78787/1985的菁染料，公开于日本专利延迟公开Nos.173696/1983，181690/1983和194595/1983的次甲基染料，公开于日本专利延迟公开Nos.112793/1983，224793/1983，48187/1984，73996/1984，52940/1985和63744/1985的萘醌染料，公开于日本专利延迟公开No.112792/1983的squarylium染料，和公开于英国专利434,875的菁染料。
另外，还优选使用公开于U.S.专利5,156,938的近红外吸收敏化染料。另外，特别优选使用公开于U.S.专利3,881,924的取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐，公开于日本专利延迟公开No.142645/1982(对应于U.S.专利4,327,169)的三次甲基噻喃鎓盐，公开于日本专利延迟公开Nos.181051/1983，220143/1983，41363/1984，84248/1984，84249/1984，146063/1984和146061/1984的吡喃鎓系列化合物，公开于日本专利延迟公开No.216146/1984的菁染料，公开于U.S.专利4,283,475的五次甲基硫代吡喃鎓盐，公开于日本专利出版物Nos.13514/1993和19702/1993的吡喃鎓化合物，且作为市售产品，特别优选使用Epolight III-178，Epolight III-130，和Epolight III-125(Epoline制造)。
作为尤其优选的染料的其它例子，可以例举作为结构式(I)和(II)公开于U.S.专利4,756,993的近红外吸收染料。
这些颜料或染料的用量是基于材料总固体含量的0.01-50wt％，优选0.1-10wt％，而在染料的情况下，尤其优选0.5-10wt％，和在颜料的情况下，尤其优选3.1-10wt％的量可加入组合物。
如果颜料或染料的加入量低于0.01wt％，敏感度下降，而如果它超过50wt％，成像层的均匀性损失且成像层的耐久性下降。这些染料或颜料可与其它组分一起加入相同的层，另外，可提供其它层且它们可加入其中。
以下描述可用于制造用于本发明成像层组合物的光敏组合物的其它组分。
用于增加敏感度的环状酸酐，苯酚和有机酸可根据需要进一步加入光敏组合物。另外，用于在曝光之后立即得到可见图像的印相剂，作为图像的着色剂的染料，和其它填料可加入光敏组合物。
环状酸酐的例子包括，如U.S.专利4,115,128所公开，邻苯二甲酸酐，四氢邻苯二甲酸酐，六氢邻苯二甲酸酐，3，6-桥氧基-Δ4-四氢邻苯二甲酸酐，四氯邻苯二甲酸酐，马来酸酐，氯代马来酸酐，α-苯基马来酸酐，琥珀酸酐和均苯四酸酐。苯酚的例子包括双酚A，p-硝基苯酚，p-乙氧基苯酚，2，3，4-三羟基二苯酮，4-羟基二苯酮，2，4，4’-三羟基二苯酮，4，4’，4”-三羟基-三苯基甲烷，和4，4’，3”，4”-四羟基-3，5，3’，5’-四甲基三苯基甲烷。
有机酸的例子包括，如日本专利延迟公开Nos.88942/1985和96755/1990所公开，可以例举磺酸，亚磺酸，烷基硫酸，膦酸，次膦酸，磷酸酯和羧酸，具体地，p-甲苯磺酸，十二烷基苯磺酸，p-甲苯亚磺酸酸，乙基硫酸，苯基膦酸，苯基次膦酸，磷酸苯基酯，磷酸二苯基酯，苯甲酸，间苯二酸，己二酸，p-甲苯甲酸，3，4-二甲氧基苯甲酸，邻苯二甲酸，对苯二甲酸，1，4-环己烯-2，2-二羧酸，芥酸，月桂酸，n-十一酸和抗坏血酸。
环状酸酐，苯酚和有机酸在光敏组合物中的含量优选为0.05-15wt％，和更优选0.1-5wt％。
作为用于在曝光之后立即得到可见图像的印相剂(printing out agent)，在曝光时释放酸的光敏化合物和与酸形成盐以改变颜色色调的有机染料可结合使用。
在曝光时释放酸的光敏化合物的例子包括，如，公开于日本专利延迟公开No.36209/1975的o-萘醌二叠氮化物-4-磺酸卤化物；公开于日本专利延迟公开No.36223/1978的三卤代甲基-2-吡喃酮和三卤代甲基-s-三嗪；公开于日本专利延迟公开No.62444/1980的各种o-醌二叠氮化物化合物；公开于日本专利延迟公开No.77742/1980的2-三卤代甲基-5-芳基-1，3，4-噁二唑化合物；和重氮鎓盐。
这些化合物可单独和混合使用，且加入量优选为基于组合物总重的0.3-15wt％。
在本发明的光敏组合物中，使用至少一种通过与一种化合物的光解产物相互作用而改变颜色色调的有机染料，所述化合物通过光解产生酸性物质。
作为这些有机染料，可以使用二苯基甲烷系列，三芳基甲烷系列，噻嗪系列，噁嗪系列，吩嗪系列，呫吨系列，蒽醌系列，亚氨基萘醌系列和偶氮次甲基系列染料。
这些染料的具体例子包括亮绿，曙红，乙基紫，赤藓红B，甲基绿，晶体紫，碱性荸荠素，苯酚酞，1，3-二苯基三嗪，茜素红S，百里酞，甲基紫2B，喹哪啶红，玫瑰Sengale，百里酚磺基酞，二甲苯酚蓝，甲基橙，橙IV，二苯基硫代卡巴腙，2，7-二氯荧光素，对甲基红，刚果红，苯并红紫素4B，α-萘基红，尼罗蓝-2B，尼罗蓝-A，Phenacetalin，甲基紫，孔雀石绿，副品红，油蓝色#603(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油粉红#312(OrientKagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油红5B(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油猩红#308(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油红OG(OrientKagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油红RR(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，油绿#502(Orient Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，Spiron红BEHSpecial(Hodogaya Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，维多利亚纯蓝BOH(Modogaya Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，专利纯蓝色(SumitomoMikuni Kagaku Kogyo Co.，Ltd.的产品)，苏丹蓝色II(产物BASE Co.，Ltd.的产品)，m-甲酚紫，甲酚红，若丹明B，罗丹明6G，第一酸紫R，磺基硷性蕊香红B，金色胺，4-p-二乙基氨基苯基亚氨基萘醌，2-羧基苯胺基-4-p-二乙基氨基苯基亚氨基萘醌，2-碳硬脂基氨基-4-p-二羟基乙基氨基苯基-亚氨基萘醌，p-甲氧基苯甲酰基-p’-二乙基氨基-o’-甲基苯基亚氨基N-乙酰苯胺，氰基-p-二乙基氨基苯基亚氨基N-乙酰苯胺，1-苯基-3-甲基-4-p-二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮，和1-β-萘基-4-p-二乙基氨基苯基亚氨基-5-吡唑啉酮。
尤其优选的有机染料是三芳基甲烷系列染料。在三芳基甲烷系列染料中，公开于日本专利延迟公开No.2934471/1987和日本专利No.2969021的具有磺酸化合物作为抗衡阴离子的那些是尤其有用的。
这些染料可单独或混合使用。这些染料的加入量优选为基于光敏组合物总重的0.3-15wt％。这些染料可根据需要与其它染料和颜料结合使用，且此时的量是基于染料和颜料的总重的70wt％或更低，优选50wt％或更低。
另外，各种添加剂可根据用途加入本发明的组合物，如，用于提高图像的油墨接受性能的具有疏水基团的各种树脂，如，辛基苯酚-甲醛树脂，t-丁基苯酚-甲醛树脂，t-丁基苯酚-苯甲醛树脂，松香改性的酚醛清漆树脂，和这些改性的酚醛清漆树脂的o-萘醌二叠氮基磺酸酯；和用于提高涂膜的柔韧性的增塑剂，如，邻苯二甲酸二丁酯，邻苯二甲酸二辛酯，羟乙酸丁基酯，磷酸三甲酚基酯和二辛基己二酸酯。
这些添加剂的加入量优选为基于组合物总重的0.01-30wt％。
另外，熟知的树脂可加入组合物以进一步提高膜的耐磨性。例如，聚乙烯基缩醛树脂，聚氨酯树脂，环氧树脂，氯乙烯树脂，尼龙，聚酯树脂和丙烯酸酯树脂可用于这种场合。树脂可单独或结合使用。
加入量优选为基于组合物总重的2-40wt％。
表面活性剂可加入本发明的光敏组合物以拓宽显影宽容度，如，可以加入例如公开于日本专利延迟公开Nos.251740/1987和68355/1992的非离子表面活性剂，和例如公开于日本专利延迟公开Nos.121044/1984和13149/1992的两性表面活性剂。非离子表面活性剂的具体例子包括脱水山梨醇三硬脂酸酯，脱水山梨醇单棕榈酸酯，脱水山梨醇三油酸酯，硬脂酸单甘油酯，聚氧乙烯脱水山梨醇单油酸酯和聚氧乙烯壬基苯基醚，且两性表面活性剂的具体例子包括烷基二(氨基乙基)甘氨酸，烷基聚氨基乙基甘氨酸盐酸盐，Amorgen K(商品名，Daiichi Kogyo Seiyaku Co.，Ltd.的产品，N-十四烷基-N，N-甜菜碱型)，2-烷基-N-羧基乙基-N-羟基乙基咪唑啉鎓甜菜碱，和Rebon15(商品名，Sanyo Kasei Co.，Ltd.的产品，烷基咪唑啉系列)。
以上非离子和两性表面活性剂在光敏组合物中的比例优选为0.05-15wt％，和更优选0.1-5wt％。
涂层表面质量的提高表面活性剂，如，例如公开于日本专利延迟公开No.170950/1987的氟表面活性剂可加入本发明的光敏组合物以提高涂层表面质量。
它们的用量优选是基于光敏组合物的总重的0.001-1.0wt％，和更优选0.005-0.5wt％。
黄色染料可加入本发明的光敏组合物，如，可优选使用在417nm处的光吸收是在436nm处的70％或更多的黄色染料。
当用于平版印刷板的光敏材料由本发明光敏树脂组合物制成，该光敏树脂组合物首先在合适的载体上作为成像层提供。将本发明的光敏树脂组合物溶解或分散在以下描述的单个或混合有机溶剂中，涂覆在载体上并干燥。
任何熟知的有机溶剂可用作溶剂，但考虑到干燥时的有利性，优选使用具有沸点40℃-200℃，尤其优选60℃-160℃的溶剂。
有机溶剂的例子包括醇，如，甲醇，乙醇，n-丙基醇，异丙基醇，n-丁基醇，异丁基醇，和二丙酮醇；酮，如丙酮，甲基乙基酮，甲基丙基酮，甲基丁基酮，甲基戊基酮，甲基己基酮，二乙基酮，二异丁基酮，环己酮，甲基环己酮和乙酰基丙酮；烃，如苯，甲苯，二甲苯，环己烷和甲氧基苯；乙酸酯，如乙酸乙酯，乙酸n-丙基酯，乙酸异丙基酯，乙酸n-丁基酯，乙酸异丁基酯，乙酸乙基丁基酯和乙酸己基酯；卤化物，如二氯甲烷，二氯乙烷和单氯苯；醚，如异丙基醚，n-丁基醚，二噁烷，二甲基二噁烷和四氢呋喃；多元醇和其衍生物，如乙二醇，甲基溶纤剂，甲基溶纤剂乙酸酯，乙基溶纤剂，二乙基溶纤剂，溶纤剂乙酸酯，丁基溶纤剂，丁基溶纤剂乙酸酯，甲氧基甲氧基乙醇，二甘醇单甲基醚，二甘醇二甲基醚，二甘醇甲基乙基醚，二甘醇二乙基醚，丙二醇，丙二醇单甲基醚，丙二醇单甲基醚乙酸酯，丙二醇单乙基醚，丙二醇单乙基醚乙酸酯，丙二醇单丁基醚和3-甲基-3-甲氧基丁醇；和特别的溶剂，如，二甲基亚砜和N，N-二甲基甲酰胺。这些有机溶剂优选单独或作为混合物使用。
固体含量在用于涂布的组合物中的浓度优选为2-50wt％。
本发明使用各种涂布方法，如，辊涂布，浸涂，气刀涂布，凹版涂布，凹版胶印涂布，料斗涂布，叶片涂布，线刀涂布，和喷涂。干燥之后的涂布重量优选为0.3-4.0g/m2。
随着涂布量下降，可节约用于得到图像的曝光量但膜强度下降。随着涂布量增加，曝光量增加但光敏膜变得坚固，结果，如果该板用作印刷板，可得到具有高的可印刷片材数的印刷板(具有高印刷寿命)。
涂覆在载体上的光敏组合物一般通过热空气干燥。加热温度是30℃-200℃，和尤其优选40℃-140℃。干燥温度可在干燥过程中保持恒定或可逐步增加。去除干燥空气的水分有时带来良好的结果。优选在速率0.1-30m/秒，尤其优选0.5-20m/秒下将热干燥空气供给涂覆表面。
消光层优选在如此得到光敏层表面的上提供消光层以缩短在使用真空印刷架的接触曝光时的抽空时间并防止晕光。具体地，使用的例如公开于日本专利延迟公开No.125805/1975，日本专利出版物Nos.6582/1982和28986/1986的消光层的涂布方法，和例如公开于日本专利出版物No.62337/1987的使用热融合固体颗粒的方法。
用于光敏平版印刷板的载体是具有尺寸稳定性的板且可优选使用迄今用作平版印刷板载体的载体。这些载体的例子包括纸；层压有塑料(如，聚乙烯，聚丙烯和聚苯乙烯)的纸；金属板，如，铝(包括铝合金)，锌，铁和铜；塑料膜，如二乙酸纤维素，三乙酸纤维素，丙酸纤维素，丁酸纤维素，乙酸丁酸纤维素，硝酸纤维素，聚对苯二甲酸乙二酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯，和聚乙烯基缩醛；和如上层压或沉积有金属的纸或塑料膜；且优选使用铝板。铝板包括纯铝板和铝合金板。可以使用各种铝合金，如，铝与金属如硅，铜，锰，镁，铬，锌，铅，铋或镍的合金。除了某些量的铁和钛，这些组合物包括可忽略量的杂质。
载体根据需要进行表面处理。例如，在光敏平版印刷板的情况下，载体的表面进行亲水化处理。在金属载体，尤其是，具有铝表面的载体的情况下，优选进行表面处理如制纹处理，在硅酸钠，氟锆酸钾或磷酸钾水溶液中的浸渍处理，或阳极氧化处理。另外，还优选使用例如公开于U.S.专利2,714,066，在制纹处理之后在硅酸钠水溶液中进行浸渍处理的铝板，或例如公开于U.S.专利3,181,461的在阳极氧化处理之后通过浸渍在碱金属硅酸盐水溶液中而表面处理的铝板。
阳极氧化处理通过在电解质溶液中使用铝板作为阳极通电而进行，所述溶液包含无机酸如磷酸，铬酸，硫酸，硼酸等，或有机酸如草酸，氨基磺酸等，或这些酸的盐的水溶液或非水溶液中的一种或两种或多种的组合。
例如公开于U.S.专利3,658,662的硅酸盐电沉积也是有用的。除了使载体表面亲水，这些亲水化处理的进行是用于防止载体与位于载体上的光敏组合物的有害反应，或用于提高载体与光敏层的粘附性。在通过制纹对铝板进行表面糙化之前，如果需要，铝板的表面可以进行预处理以去除板表面上的轧制油或暴露清洁的铝板表面。
一般来说，将溶剂如三氯乙烯和表面活性剂用于脱脂处理以去除轧制油，且碱刻蚀剂，如氢氧化钠和氢氧化钾广泛用于暴露清洁的表面。
作为表面制纹方法，可以使用任何机械，化学和电化学方法。机械方法包括球研磨法，轰击法，和其中研磨料如浮石和类似物的水分散淤浆板的表面上用尼龙刷摩擦的刷涂方法，作为化学方法，例如公开于日本专利延迟公开No.31187/1979的将板浸渍在无机酸的铝盐的饱和水溶液中的方法是优选的，而作为电化学方法，优选使用一种在氢氯酸，硝酸或这些酸的组合的酸电解质溶液中进行交流电电解的方法。在这些表面糙化方法中，例如公开于日本专利延迟公开No.137993/1980的一种将机械表面糙化与电化学表面糙化结合的方法是优选的，这样会获得感光图像与载体的强粘附性。上述的表面制纹优选进行使得铝板表面的中心线表面粗糙度(Ra)达到0.3-1.0μm。将如此表面处理的铝板根据需要进行洗涤和化学刻蚀。
刻蚀溶液一般选自用于溶解铝的碱或酸的水溶液。在这种情况下，刻蚀溶液选择使得不在刻蚀表面上形成衍生自刻蚀溶液成分的不同于铝的膜。优选的刻蚀剂的例子包括，作为碱性物质，氢氧化钠，氢氧化钾，磷酸三钠，磷酸二钠，磷酸三钾和磷酸二钾；和作为酸物质，硫酸，过硫酸，磷酸，氢氯酸和其盐。与铝相比具有较低离子化倾向的金属，如，锌，铬，钴，镍和铜的盐不是优选的由于在刻蚀表面上形成不必要的膜。最优选设定这些刻蚀剂的浓度和温度，使得所要使用的铝或合金的溶解速率是0.3-40g/m2/1分钟浸渍时间，但也可使用低于或高于此的溶解速率。
刻蚀通过将铝板浸渍在刻蚀溶液中或将刻蚀溶液涂覆到铝板上而进行，且优选进行刻蚀使得刻蚀量变成0.5-10g/m2。优选使用碱性水溶液，因为刻蚀速度快。在这种情况下，因为产生污迹，一般进行去污处理。作为用于去污处理的酸，使用硝酸，硫酸，磷酸，铬酸，氢氟酸和硼氟酸。将刻蚀处理的铝板根据需要用水洗涤并阳极氧化。阳极氧化可通过本领域的常用方法而实现。
具体地，通过在包含一种或两种或多种组合的硫酸，磷酸，铬酸，草酸，氨基磺酸或苯磺酸的水溶液或非水溶液中将直流或交流电施用到铝板，可在铝载体的表面上进行阳极氧化物膜。
阳极氧化的处理条件不能无条件地确定，因为条件随着所用的电解质溶液而各异地波动，但一般优选的是，电解质溶液的浓度是1-80wt％，温度是5-70℃，电流密度是0.5-60安培/dm2，电压是1-100V，和电解质时间是30秒-50分钟。在这些阳极氧化处理中，例如公开于英国专利1,412,768的在硫酸中在高电流密度下进行进行阳极氧化的方法，和公开于U.S.专利3,511,661的用磷酸作为电解质浴进行阳极氧化的方法是尤其优选的。如此糙化并进一步阳极氧化的铝板可根据需要进行亲水处理。作为其优选的例子，其中有例如公开于U.S.专利2,714,066和3,181,461的用碱金属硅酸盐，如钠硅酸盐水溶液进行处理，例如公开于日本专利出版物No.22063/1961的用氟锆酸钾进行处理，和例如公开于U.S.专利4,153,461的用聚乙烯基磺酸进行处理的方法。
有机底涂层优选的是，根据本发明的光敏平版印刷板在涂布光敏层之前具有有机底涂层，这样减少留在非图像区域上的光敏层。用于这种底涂层的有机化合物选自羧基甲基纤维素，糊精，阿拉伯胶，有机膦酸，如，具有氨基基团的膦酸，如2-氨基乙基-膦酸，可具有取代基的苯基膦酸，萘基膦酸，烷基膦酸，甘油膦酸，亚甲基二膦酸，和亚乙基二膦酸，有机磷酸，如可具有取代基的苯基磷酸，萘基-磷酸，烷基磷酸，和甘油磷酸，有机次膦酸，如可具有取代基的苯基次膦酸，萘基次膦酸，烷基次膦酸，和甘油次膦酸，氨基酸，如甘氨酸和β-丙氨酸，和具有羟基基团的胺的盐酸盐如三乙醇胺的盐酸盐。这些化合物可作为两种或多种的混合物使用。
另外优选的是，有机底涂层包含一种具有鎓基团的化合物。具有鎓基团的化合物公开于日本专利延迟公开Nos.10292/2000和108538/2000。
另外，至少一种选自在分子中具有聚(p-乙烯基苯甲酸)所示结构单元的高分子量化合物的化合物可用于本发明。更具体地，例举p-乙烯基苯甲酸和乙烯基苄基三乙基铵盐的共聚物，和p-乙烯基苯甲酸和乙烯基苄基三甲基氯化铵的共聚物。
有机底涂层可通过以下方法而提供，即，将一种通过将上述有机化合物溶解在水或单个或混合有机溶剂，如，甲醇，乙醇或甲基乙基酮中而得到的溶液涂覆到铝板上并干燥得到有机底涂层。另外，将铝板浸渍在一种通过将上述有机化合物在水或单个或混合有机溶剂如甲醇，乙醇或甲基乙基酮中而得到的溶液中，这样有机化合物被吸附到铝板上，板随后用水或类似物洗涤，并干燥得到有机底涂层。根据前者方法，包含浓度0.005-10wt％的上述有机化合物的溶液可通过各种方式涂覆。例如，可以使用巴涂布(bar coating)，旋转涂布，喷涂和幕涂中的任何方法。在后一方法中，溶液的浓度是0.01-20wt％，优选0.05-5wt％，浸渍温度是20-90℃，优选25-50℃，和浸渍时间是0.1秒-20分钟，和优选2秒-1分钟。
形成有机底涂层的溶液的pH用碱性物质，如氨，三乙基胺或氢氧化钾，或酸性物质，如盐酸或磷酸调节至1-12。可将黄色染料加入溶液以提高光敏平版印刷板的色调再现性。另外，表示为结构式(a)的化合物可加入该溶液(HO)x-R5-(COOH)y(a)其中R5表示可具有取代基的具有14或更低碳原子的亚芳基基团；和x和y分别表示整数1-3。表示为结构式(a)的化合物的具体例子包括3-羟基苯甲酸，4-羟基苯甲酸，水杨酸，1-羟基-2-萘甲酸，2-羟基-1-萘甲酸，2-羟基-1-萘甲酸，2，4-二羟基苯甲酸，和10-羟基-9-蒽羧酸。有机底涂层的干涂布重量一般为1-100mg/m2，和优选2-70mg/m2。如果涂布重量低于2mg/m2，不能得到足够的印刷寿命，而如果超过100mg/m2，也不能得到足够的印刷寿命。
背涂层根据需要将背涂层提供在载体的背表面上。优选使用包含通过水解和缩聚公开于日本专利延迟公开No.45885/1993的有机高分子量化合物和公开于日本专利延迟公开No.35174/1994的有机或无机金属化合物而得到的金属氧化物的涂层作为这种背涂层。在这些涂层中，硅的烷氧基化合物如Si(OCH3)4，Si(OC2H5)4，Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)9是便宜的和易得的，且得自这些化合物的金属氧化物的涂层具有优异的对显影溶液的耐性，因此特别优选。
如此得到的平版印刷板一般进行图像曝光和显影工艺。作为用于图像曝光的光化线的光源，在近红外红外区域具有光发射波长的光源是优选的，和固体态激光和半导体激光是尤其优选使用。
包含(a)至少一种选自非还原糖的糖，和(b)至少一种碱，并具有pH9.0-13.5的显影溶液优选用作使用本发明光敏组合物的平版印刷板的显影溶液。以下详细描述该显影溶液。在该说明书中，除非另有所指，显影溶液是指显影引发剂(狭义上的显影溶液)和显影补充剂。
该显影溶液优选包含至少一种选自非还原糖的化合物和至少一种碱作为主要组分，且溶液的pH优选为9.0-13.5。这些非还原糖是不具有游离醛基团和酮基团且不具有还原性能的糖。非还原糖划分为其中还原基团相互键接的海藻糖型低聚糖，其中糖和非糖的还原基团相互键接的苷，和通过氢化作用还原糖而得到的糖醇，且可优选使用所有的这些非还原糖。海藻糖型低聚糖包括蔗糖和海藻糖，苷包括烷基苷，苯酚苷，和芥末油苷，和糖醇包括D-和L-阿糖醇，核糖醇，木糖醇，D-和L-山梨醇，D-和L-甘露糖醇，D-和L-艾杜糖醇，D-和L-塔罗糖醇，半乳糖醇，和异半乳糖醇。另外，优选使用通过氢化二糖而得到的麦芽糖醇和通过氢化低聚糖而得到的还原剂(还原淀粉糖浆)。其中的尤其优选的非还原糖是糖醇和蔗糖。总之，D-山梨醇，蔗糖和还原淀粉糖浆是优选的，因为它们在合适的pH范围内具有缓冲作用而且便宜。
这些非还原糖可单独或两种或多种结合使用，且非还原糖在显影溶液中的比例优选为0.1-30wt％，和更优选1-20wt％。
如果非还原糖的浓度低于该范围，不能得到足够的缓冲剂作用，而如果浓度高于该范围，难以得到高浓度的显影溶液并产生生产成本增加的问题。如果还原糖与碱结合使用，显影溶液随着时间的流逝变色成棕色且pH逐渐下降，导致显影性能的下降。
迄今已知的碱性剂可用作与非还原糖结合使用的碱。这些碱剂的例子包括无机碱剂，如，氢氧化钠，氢氧化钾，氢氧化锂，磷酸三钠，磷酸三钾，磷酸三铵，磷酸二钠，磷酸二钾，磷酸二铵，碳酸钠，碳酸钾，碳酸铵，碳酸氢钠，碳酸氢钾，碳酸氢铵，硼酸钠，硼酸钾，和硼酸铵。除了这些无机碱剂，还使用有机碱剂，如单甲基胺，二甲基胺，三甲基胺，单乙基胺，二乙基胺，三乙基胺，单异丙基胺，二异丙基胺，三异丙基胺，n-丁基胺，单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，单异丙醇胺，二异丙醇胺，亚乙基亚胺，亚乙基二胺和吡啶。
这些碱剂单独或两种或多种结合使用。在这些碱剂中，氢氧化钠和氢氧化钾是优选的，因为可通过调节这些碱剂基于非还原糖的量而在宽pH范围内进行pH调节。另外，磷酸三钠，磷酸三钾，碳酸钠和碳酸钾也由于它们自身的缓冲作用而优选。
这些碱剂加入使得显影溶液的pH达到9.0-13.5，且加入量根据所需pH，所用的非还原糖的种类和加入量而确定。更优选的pH范围是10.0-13.2。包含弱酸和非糖的强碱的碱性缓冲剂溶液可进一步组合用于显影溶液。用作这种缓冲剂溶液的弱酸优选具有离解常数(pKa)10.0-13.2。
这些弱酸选自例如描述于有机酸在水溶液中的电离常数(PergamonPress Co.)中的弱酸。弱酸的例子包括醇，如，2，2，3，3-四氟丙醇-1(pKa12.74)，三氟乙醇(pKa12.37)，和三氯乙醇(pKa12.24)；醛，如，吡啶-2-醛(pKa12.68)，和吡啶-4-醛(pKa12.05)；具有苯酚羟基基团的化合物，如，水杨酸(pKa13.0)，3-羟基-2-萘甲酸(pKa12.84)，儿茶酚(pKa12.6)，五倍子酸(pKa12.4)，磺基水杨酸(pKa11.7)，3，4-二羟基磺酸(pKa12.2)，3，4-二羟基苯甲酸(pKa11.94)，1，2，4-三羟基苯(pKa11.82)，对苯二酚(pKa11.56)，连苯三酚(pKa11.34)，o-甲酚(pKa10.33)，间苯二酚(pKa11.27)，p-甲酚(pKa10.27)，和m-甲酚(pKa10.09)；肟，如，2-丁酮肟(pKa12.45)，乙酰肟(pKa12.42)，1，2-环庚烷二酮二肟(pKa12.3)，2-羟基苯甲醛肟(pKa12.10)，二甲基乙二肟(pKa11.9)，乙烷二酰氨基二肟(pKa；11.37)，和苯乙酮肟(pKa11.35)；核酸相关物质，如，腺苷(pKa12.56)，肌苷(pka12.5)，鸟嘌呤(pKa12.3)，胞嘧啶(pKa12.2)，次黄嘌呤(pKa12.1)，和黄嘌呤(pKa11.9)；除了以上，二乙基氨基甲基磺酸(pKa12.32)，1-氨基-3，3，3-三氟苯甲酸(pKa12.29)，异亚丙基二磺酸(pKa12.10)，1，1-亚乙基二膦酸(pKa11.54)，1-羟基-1，1-亚乙基二膦酸(pKa11.52)，苯并咪唑(pKa12.86)，硫代苯并酰胺(pKa12.8)，甲基吡啶硫代酰胺(pKa12.55)，和巴比土酸(pKa12.5)。
在这些弱酸中，磺基水杨酸和水杨酸是优选的。氢氧化钠，氢氧化铵，氢氧化钾，和氢氧化锂优选用作碱以与弱酸结合使用。这些碱性剂单独或两种或多种结合使用。这些碱剂通过在所需范围内以浓度和组合来调节pH而使用。
各种表面活性剂和有机溶剂可根据需要加入显影溶液以加速显影，分散显影剂浮渣，和增加与印刷板图像区域的油墨的亲和性。作为优选的表面活性剂，可以例举阴离子，阳离子，非离子，和两性表面活性剂。
表面活性剂的优选例子包括非离子表面活性剂，如聚氧乙烯烷基醚，聚氧乙烯烷基苯基醚，聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚，聚氧乙烯聚氧基亚丙基烷基醚，甘油脂肪酸偏酯，脱水山梨醇脂肪酸偏酯，季戊四醇脂肪酸偏酯，丙二醇单脂肪酸酯，蔗糖脂肪酸偏酯，聚氧乙烯脱水山梨醇脂肪酸偏酯，聚氧乙烯山梨醇脂肪酸偏酯，聚乙二醇脂肪酸酯，聚甘油脂肪酸偏酯，聚氧乙烯化蓖麻油，聚氧乙烯甘油脂肪酸偏酯，脂肪酸二乙醇酰胺，N，N-二-2-羟基烷基胺，聚氧乙烯烷基胺，三乙醇胺脂肪酸酯，和三烷基氧化胺；阴离子表面活性剂，如脂肪酸盐，松香酸盐，羟基烷烃磺酸盐，烷烃磺酸盐，二烷基磺基琥珀酸盐，直链烷基苯磺酸盐，支化链烷基苯磺酸盐，烷基萘磺酸盐，烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐，聚氧乙烯烷基磺基苯基醚，N-甲基-N-油基牛磺酸钠盐，N-烷基磺基琥珀酸单酰氨基二钠盐，石油磺酸盐，硫酸盐化牛油，脂肪酸烷基酯硫酸盐，烷基硫酸盐，聚氧乙烯烷基醚硫酸盐，脂肪酸单甘油酯硫酸盐，聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸盐，聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸盐，烷基磷酸盐，聚氧乙烯烷基醚磷酸盐，聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸盐，苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化产物，烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化产物，和萘磺酸盐-甲醛的缩合产物；阳离子表面活性剂，如烷基胺盐，叔铵盐，如四丁基溴化铵，聚氧乙烯烷基胺和聚乙烯多元胺衍生物；两性表面活性剂，如，羧基甜菜碱，氨基羧酸，磺基甜菜碱，氨基硫酸盐，和咪唑啉。在以上表面活性剂中，“聚氧乙烯”可包括聚氧化烯如聚甲醛，聚氧化丙烯和聚氧化丁烯，而且也包括其表面活性剂。
更优选的表面活性剂是在分子中包含全氟烷基基团的氟表面活性剂。这些氟表面活性剂的例子包括阴离子型，如全氟烷基羧酸盐，全氟烷基磺酸盐和全氟烷基磷酸盐；两性型，如全氟烷基甜菜碱；阳离子型，如全氟烷基三甲基铵盐；和非离子型，如，全氟烷基氧化胺，全氟烷基环氧乙烷加成物，包含全氟烷基基团和亲水基团的低聚物，包含全氟烷基基团和亲油基团的低聚物，包含全氟烷基基团，亲水基团，和亲油基团的低聚物，和包含全氟烷基基团和亲油基团的氨基甲酸乙酯。
这些表面活性剂可单独或两种或多种结合使用，且它们加入显影溶液的量可以是优选0.001-10wt％，和更优选0.01-5wt％。
各种显影稳定剂可用于显影溶液。公开于日本专利延迟公开No.282079/1994的糖醇的聚乙二醇加成物，四烷基铵盐如四丁基铵氢氧化物，磷鎓盐如四丁基溴化磷鎓，和碘鎓盐如二苯基氯化碘鎓例举为这些显影稳定剂的优选例子。另外，也可例举公开于日本专利延迟公开No.51324/1975的阴离子表面活性剂和两性表面活性剂，公开于日本专利延迟公开No.95946/1980的水溶性阳离子聚合物，和公开于日本专利延迟公开No.142528/1981的“水溶性”两性高分子量电解质。
除了以上化合物，以下化合物可例举为显影稳定剂，如，公开于日本专利延迟公开No.84241/1984的有机硼化合物与亚烷基二醇的加成物，公开于日本专利延迟公开No.111246/1985的聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物型水溶性表面活性剂，公开于日本专利延迟公开No.129750/1985的聚氧乙烯-聚氧丙烯-取代的亚烷基二胺化合物，公开于日本专利延迟公开No.215554/1986的具有重均分子量300或更多的聚乙二醇，公开于日本专利延迟公开No.175858/1988的具有阳离子基团的含氟表面活性剂，公开于日本专利延迟公开No.39157/1990的通过将4摩尔或更多的环氧乙烷加成到酸或醇上而得到的水溶性环氧乙烷加成物，和水溶性聚亚烷基化合物。
有机溶剂根据需要加入显影溶液。这种有机溶剂在水中的溶解度是10wt％或更低，优选5wt％或更低，如可以例举1-苯基乙醇，2-苯基乙醇，3-苯基-1-丙醇，4-苯基-1-丁醇，4-苯基-2-丁醇，2-苯基-1-丁醇，2-苯氧基乙醇，2-苄氧基乙醇，o-甲氧基苄基醇，m-甲氧基苄基醇，p-甲氧基苄基醇，苄基醇，环己醇，2-甲基环己醇，3-甲基-环己醇，4-甲基环己醇，N-苯基乙醇胺，和N-苯基二乙醇胺。
有机溶剂的含量是基于工作溶液总重的0.1-5wt％。有机溶剂的用量与表面活性剂的用量密切相关，且优选随着有机溶剂量的增加而增加表面活性剂的量。这是因为，如果表面活性剂的量是极少的和有机溶剂的量是主要的，有机溶剂不完全溶解，且不能预期良好的显影性能。
另外，还原剂可加入显影溶液。还原剂的加入是为了防止印刷板受污染。作为优选的有机还原剂，苯酚化合物，例如例举硫代水杨酸，对苯二酚，密妥耳，甲氧基醌，间苯二酚，和2-甲基间苯二酚，和胺化合物，如亚苯基二胺和苯肼。更优选的无机还原剂的例子包括无机酸如亚硫酸，亚硫酸氢酸，亚磷酸，亚磷酸氢酸，亚磷酸二氢酸，硫代硫酸，和连二硫酸的钠盐，钾盐和铵盐。
在这些还原剂中，亚硫酸盐具有尤其优异的污染防止作用。这些还原剂的量是基于所用的显影溶液的0.05-5wt％。
另外，显影剂可包含有机羧酸。优选的有机羧酸是具有6-20个碳原子的脂族和芳族羧酸。脂族羧酸的具体例子包括己酸，庚酸，辛酸，月桂酸，肉豆蔻酸，棕榈酸，和硬脂酸，且具有8-12个碳原子的链烷酸是尤其优选的。另外，可以使用在碳链中具有双键的不饱和脂肪酸，或碳链可支化。芳族羧酸的例子包括其中苯环，萘环，或蒽环被羧酸基团取代的化合物，具体地o-氯苯甲酸，p-氯苯甲酸，o-羟基苯甲酸，p-羟基苯甲酸，o-氨基苯甲酸，p-氨基苯甲酸，2，4-二羟基苯甲酸，2，5-二羟基苯甲酸，2，6-二羟基苯甲酸，2，3-二羟基苯甲酸，3，5-二羟基苯甲酸，五倍子酸，1-羟基-2-萘甲酸，3-羟基-2-萘甲酸，2-羟基-1-萘甲酸，1-萘甲酸，和2-萘甲酸，且特别有效地使用羟基萘甲酸。
优选使用这些脂族和芳族羧酸作为钠盐，钾盐或铵盐以增高水溶解度。用于显影溶液的有机羧酸的含量并不特别限定，但如果其含量低于0.1wt％，不能得到足够的效果，而如果超过10wt％，不仅不能得到进一步的效果，而且结合使用的其它添加剂的溶解性受到阻碍。因此，有机羧酸的优选的含量是基于所用显影溶液的0.1-10wt％，更优选0.5-4wt％。
另外，如果需要，显影溶液可包含防腐剂，着色剂，增稠剂，消泡剂和水软化剂。水软化剂的例子包括，如，聚磷酸，和其钠盐，钾盐和铵盐，氨基聚羧酸，如，亚乙基二胺四乙酸，二亚乙基-三胺五乙酸，三亚乙基四胺六乙酸，羟基乙基亚乙基二胺三乙酸，次氨基三乙酸，1，2-二氨基环己烷四乙酸，和1，3-二氨基-2-丙醇四乙酸，和其钠盐，钾盐和铵盐，氨基三(亚甲基膦酸)，亚乙基二胺四(亚甲基膦酸)，二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)，三亚乙基四胺六(亚甲基膦酸)，羟基乙基亚乙基二胺三(亚甲基膦酸)，和1-羟基乙烷-1，1-二膦酸，和其钠盐，钾盐和铵盐。
水软化剂的最佳值随着螯合作用，所要使用的硬水的硬度和量而变化，但一般为基于所用显影溶液的0.01-5wt％，更优选0.01-0.5wt％。如果加入量低于该范围，不能充分得到预期效果，而如果量高于该范围，出现对图像区域的不利作用，如颜色消失。显影溶液的其余组分是水。考虑到运输，最好制备具有较少水含量的浓度以在使用时用水稀释的显影溶液。此时的浓度优选使得每种组分不分离或沉淀。
公开于日本专利延迟公开No.282079/1994的显影溶液也可用作使用本发明光敏组合物的平版印刷板的显影溶液。这是一种包含具有SiO2/M2O摩尔比(M表示碱金属)0.5-2.0的硅酸碱金属盐，和通过将5摩尔或更多的环氧乙烷加成到具有4或更多羟基基团的糖醇上而得到的水溶性环氧乙烷加成物的显影溶液。糖醇是一种对应于醇的多元醇，其中糖的醛基团和酮基团被还原以得到伯醇和仲醇。糖醇的具体例子包括D-和L-苏糖醇，赤藓醇，D-和L-阿糖醇，核糖醇，木糖醇，D-和L-山梨醇，D-和L-甘露糖醇，D-和L-艾杜糖醇，D-和L-塔罗糖醇，半乳糖醇，和异半乳糖醇。另外，也可例举作为糖醇的缩合产物的二-，三-，四-，五-和六-甘油。以上水溶性环氧乙烷加成物可通过将5摩尔或更多的环氧乙烷加成到1摩尔糖醇上而得到。另外，如果需要，环氧乙烷加成物可与氧化丙烯嵌段共聚，只要不阻碍溶解度。环氧乙烷加成物可单独或两种或多种结合使用。
水溶性环氧乙烷加成物的加入量优选为基于显影溶液(工作溶液)的0.001-5wt％，更优选0.001-2wt％。
各种表面活性剂和有机溶剂可根据需要加入显影溶液，这样加速显影，分散显影剂浮渣，和增加对印刷板图像区域的油墨的亲和性。
将用具有以上组成的显影溶液显影处理的PS板用洗涤水，包含表面活性剂的漂洗水，整饰剂或包含阿拉伯胶和淀粉衍生物作为主要组分的保护胶浆后处理。在按照本发明的PS板的后处理中，这些处理以各种组合使用。
近年来，用于PS板的自动处理器普遍用于制板和印刷工业以使制板工作合理化和标准化。这些自动处理器一般由显影部分和后处理部分组成切配有PS板的传输单元，处理溶液罐，和喷雾装置。显影和后处理通过在水平传输PS板的同时利用喷嘴将抽吸至暴露PS板的分别处理溶液进行喷雾而进行。另外已知一种利用在液体中的导辊将PS板浸渍-传输经过一个填充有的处理溶液的处理溶液罐的处理方法，和一种通过供给确定少量的洗涤水并再利用废溶液作为浓显影溶液的稀释剂溶液而在显影之后洗涤板表面的方法。
在这些自动处理中，处理可通过将每种补充剂根据处理量，操作时间，等补充至分别处理溶液而进行。另外，也可采用其中处理基本上使用原溶液进行的非可回收的体系。将通过这些工艺得到的平版印刷板安装到胶印印刷机上并用于印刷许多片材。
载体的制造载体A，B，C，D和E通过使用JIS-A-1050铝板并通过结合以下给出的工艺进行处理而制成。
(a)机械表面糙化处理铝板的机械表面糙化处理通过旋转辊状尼龙刷将包含水和具有比重1.12的研磨料(硅砂)的悬浮液的研磨料淤浆供给至铝板的表面而进行。研磨料的平均颗粒尺寸是8μm，和最大颗粒尺寸是50μm。尼龙刷的材质是6·10尼龙，毛长度是50mm，和毛直径是0.3mm。将具有直径300mm的不锈钢桶穿孔并将尼龙毛浓密地种植以制版尼龙刷。使用三个旋转刷。两个支撑辊(200mm)之间在每个刷的下部的距离是300mm。将刷辊压向铝板，直至旋转刷的驱马达的负荷达到在将刷辊压向铝板之前的负荷加上7kW的值。刷的旋转方向与铝板的移动方向相同。刷的转数是200rpm。
(b)碱刻蚀处理
将以上得到的铝板使用NaOH水溶液(浓度2.6wt％，铝离子浓度6.5wt％)在70℃下进行喷雾刻蚀处理，这样溶解6g/m2铝板。该板随后通过喷雾用井水洗涤。
(c)去污处理将铝板用一种包含浓度1wt％的硝酸的水溶液(包含0.5wt％铝离子)在30℃进行喷雾去污处理，并随后将通过喷雾用井水洗涤。用于去污处理的硝酸的水溶液是在硝酸水溶液中通过交流电进行电化学表面糙化处理的工艺中的废溶液。
(d)电化学表面糙化处理电化学表面糙化处理通过交流电压60Hz连续进行。此时的电解质是包含10.5g/升硝酸的水溶液(包含5g/升铝离子)和温度是50℃。电流从0达到峰值的所需时间TP是0.8毫秒，负载比是1/1，且电化学表面糙化处理使用梯形矩形波形交流电以碳电极作为反电极而进行。铁酸盐用作支撑的阳极。使用径向单元型电解质浴。
电流密度在峰值电流时是30A/dm2，和在其中铝板是阳极的情况下以电量总和表示的电量是220C/dm2。5％的来自电源的电流转移至支撑的阳极。
铝板随后通过喷雾用井水洗涤。
(e)碱刻蚀处理铝板通过用包含浓度26wt％的氢氧化钠和浓度6.5wt％的铝离子的水溶液在32℃下喷雾而进行刻蚀处理，这样溶解0.20g/m2铝板。将主要包含氢氧化铝的污迹去污，所述氢氧化铝在早先步骤中通过交流电压进行电化学表面糙化处理时形成，另外将所形成的凹坑的边缘部分溶解以使边缘部分光滑，并随后将铝板通过喷雾用井水洗涤。
(f)去污处理将铝板使用包含浓度15wt％的硫酸的水溶液(包含4.5wt％铝离子)在30℃下进行喷雾去污处理并随后通过喷雾用井水洗涤。用于去污处理的硝酸水溶液是使用硝酸水溶液通过交流电进行的电化学表面糙化处理中的废溶液。
(g)电化学表面糙化处理
电化学表面糙化处理通过交流电压60Hz连续进行。此时的电解质是一种包含7.5g/升盐酸的水溶液(包含5g/升铝离子)和温度是35℃。AC电源的波形是长方形且电化学表面糙化处理使用碳电极作为反电极而进行。铁酸盐用作支撑的阳极。使用径向单元型电解质浴。
在峰值电流时的电流密度是25A/dm2，和电量在其中铝板是阳极的情况下以电量总和表示时是50C/dm2。
铝板随后通过喷雾用井水洗涤。
(h)碱刻蚀处理将铝板通过用包含浓度26wt％氢氧化钠和浓度6.5wt％的铝离子的水溶液在32℃下喷雾而进行刻蚀处理，这样溶解0.10g/m2铝板。将主要包含氢氧化铝的污迹去污，所述氢氧化铝在早先步骤中通过交流电压进行电化学表面糙化处理时形成，另外将所形成的凹坑的边缘部分溶解以使边缘部分光滑，并随后将铝板通过喷雾用井水洗涤。
(i)去污处理将铝板使用包含浓度25wt％的硫酸的水溶液(包含0.5wt％铝离子)在60℃下进行喷雾去污处理，并随后通过喷雾用井水洗涤。
(j)阳极氧化处理硫酸用作电解质。每种电解质包含浓度170g/升的硫酸(包含0.5wt％铝离子)且电解质的温度是43℃。铝板通过喷雾用井水洗涤。
电流密度是约30A/dm2。氧化物膜的最终量是2.7g/m2。
载体A载体A通过顺序进行每个以上工艺(a)-(j)使得工艺(e)中的刻蚀量变成3.5g/m2而制成。
载体B载体B通过顺序进行每个以上工艺而制成，只是省略工艺(g)，(h)和(i)。
载体C载体C通过顺序进行每个以上工艺而制成，只是省略工艺(a)，(g)，(h)和(i)。
载体D载体D通过顺序进行每个以上工艺而制成，只是省略工艺(a)，(d)，(e)和(f)使得工艺(g)中的电量总和变成450C/dm2。
将如此得到的载体A，B，C和D继续进行以下的水解处理和底涂处理。
(k)碱金属硅酸盐处理碱金属硅酸盐处理(硅酸盐处理)通过将阳极氧化处理得到的铝载体在30℃下浸渍在包含1wt％三硅酸二钠水溶液的处理罐中10秒而进行。铝板随后通过喷雾用井水洗涤。粘附到板上的硅酸盐的量是3.5mg/m2。
(1)底涂层的形成将具有以下给出的组成的用于形成底涂层的涂布溶液涂覆到用碱金属硅酸盐处理的铝载体上，并随后将载体在80℃下干燥15秒。干涂布重量是15mg/m2。
底涂层涂布溶液的组成 实施例I-1至I-32和对比例I-1至I-3将具有以下给出的组成的光敏溶液涂覆到以上得到的载体上，在炉中在150℃下干燥1分钟，这样得到具有层厚度2.0g/m2的正性红外敏感的光敏组合物层的正性光敏平版印刷板。
光敏溶液的组成m-，p-甲酚线性酚醛清漆(m/p比率＝6/4，重均分子量7,500，包含量示于表I-1中0.5wt％未反应的甲酚)丙烯酸酯树脂(A)(示于表I-1) 量示于表I-1中下示的光-热转化物质(菁染料A) 0.04g 菁染料A2，4，6-三(己氧基)苯重氮鎓-2-羟基-4-甲氧基二苯酮-5-磺酸盐 0.01gp-甲苯磺酸 0.002g四氢邻苯二甲酸酐 0.05g通过用1-萘磺酸盐阴离子替换维多利亚纯蓝色BOH的抗衡阴离子0.015g而得到的染料氟表面活性剂，Meqafac F-176(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，0.02gLtd.制造)甲基乙基酮 15g1-甲氧基-2-丙醇7g<光敏平版印刷板的评估>
显影宽容度的评估试验图案使用Trendsetter(由Creo Co.制造)通过束强度9W和鼓旋转速度150rpm以成像方式绘制到以上得到的光敏平版印刷板上。
然后，将印刷板用装有碱显影溶液的PS处理器900H(由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.制造)在液体温度30℃和显影时间20秒下进行显影。将进行良好显影而没有因显影失败而伴随图像区域的洗脱，归因于光敏层残余膜的染色和着色的显影溶液的最高电导和最低电导之间的差异取为显影宽容度并评估。所得结果在以下表I-1中给出。
碱显影溶液A的组成SiO2·K2O(K2O/SiO2＝1/1(摩尔比))4.0wt％柠檬酸 0.5wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水 95.0wt％碱显影溶液B的组成D-山梨醇2.5wt％氢氧化钠0.85wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水 96.15wt％印刷寿命的评估按照以上评估显影宽容度的相同方式，使用在进行良好显影而没有因显影失败而伴随图像区域的洗脱，归因于光敏层残余膜的染色和着色的显影溶液电导时得到的平版印刷板，并进行印刷。印刷机Lithron(由KomoriInsatsuki Co.，Ltd.制造)用作印刷机和DIC-GEOS(N)sumi(由DainipponChemicals and Ink Co.，Ltd.制造)用作油墨。印刷寿命通过视觉观察确认实心图像密度变浅时的印刷片材的数目而评估。所得结果在以表I-1中给出。
燃烧处理之后的印刷寿命的评估将按照以上评估印刷寿命的相同方式显影得到的平版印刷板的印刷板用一种燃烧用板调节溶液BC-3(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)擦拭，并随后在约240℃进行燃烧处理7分钟。印刷板随后用水洗涤并随后通过水稀释至2倍体积的胶GU-7(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)进行处理。
随后，使用印刷机Lithron(由Komori Insatsuki Co.，Ltd.制造)和DIC-GEOS(N)sumi(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，Ltd.制造)进行印刷。燃烧之后的印刷寿命通过视觉观察确认实心图像密度变浅时的印刷片材的数目而评估。所得结果在以表I-1中给出。表I-1
表I-1(继续)
在表I-1中，用于丙烯酸酯树脂(A)的共聚物组分如下。
单体-a(甲基)丙烯酸a-1；丙烯酸a-2甲基丙烯酸单体-b苯乙烯衍生物例举的化合物b-1至b-18单体-c丙烯酰胺衍生物例举的化合物c-1至c-10单体-d(甲基)丙烯酸酯d-1丙烯酸甲酯d-2甲基丙烯酸甲酯d-3甲基丙烯酸乙酯从表I-1的结果显然看出，实施例I-1至I-32中的样品与对比例I-1至I-3中的样品相比具有优异的显影宽容度，尤其是，在进行燃烧处理时优异。
本发明的红外敏感的光敏组合物具有优异的显影宽容度和印刷寿命，尤其是，本发明可提供一种用于能够由数字信号如计算机数据直接制板的正性平版印刷板前体的成像层(用于所谓的直接制板)的红外敏感的光敏组合物。实施例II-1至II-37和对比例II-1至II-3将具有以下给出的组成的光敏溶液涂覆到以上得到的载体，在炉中在150℃下1分钟，这样得到具有层厚度2.0g/m2的正性红外敏感的光敏组合物的正性光敏平版印刷板。
光敏溶液的组成m-，p-甲酚线性酚醛清漆(m/p比率＝6/4，重均分子量7,500，包含量示于表II-1中0.5wt％未反应的甲酚)丙烯酸酯树脂(A)(示于表II-1)量示于表II-1中下示的光-热转化物质(菁染料A) 0.04g 菁染料A2，4，6-三(己氧基)苯重氮鎓-2-羟基-4-甲氧基二苯酮-5-磺酸盐 0.01gp-甲苯磺酸 0.002g四氢邻苯二甲酸酐 0.05g通过用1-萘磺酸盐阴离子替换维多利亚纯蓝色BOH的抗衡阴离子0.015g而得到的染料氟表面活性剂，Meqafac F-176(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，0.02gLtd.制造)甲基乙基酮 15g1-甲氧基-2-丙醇7g<光敏平版印刷板的评估>
显影宽容度的评估试验图案使用Trendsetter(由Creo Co.制造)通过束强度9W和鼓旋转速度150rpm以成像方式绘制到以上得到的光敏平版印刷板上。
然后，将印刷板用装有碱显影溶液的PS处理器900H(由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.制造)在液体温度30℃和显影时间20秒下进行显影。将进行良好显影而没有因显影失败而伴随图像区域的洗脱，归因于光敏层残余膜的染色和着色的显影溶液的最高电导和最低电导之间的差异取为显影宽容度并评估。所得结果在以下表II-1中给出。
碱显影溶液A的组成SiO2·K2O(K2O/SiO2＝1/1(摩尔比)) 4.0wt％柠檬酸0.5wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水95.0wt％碱显影溶液B的组成D-山梨醇 2.5wt％氢氧化钠 0.85wt％聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000) 0.5wt％水96.15wt％印刷寿命的评估按照以上评估显影宽容度的相同方式，使用在进行良好显影而没有因显影失败而伴随图像区域的洗脱，归因于光敏层残余膜的染色和着色的显影溶液电导时得到的平版印刷板，并进行印刷。印刷机Lithron(由KomoriInsatsuki Co.，Ltd.制造)用作印刷机和DIC-GEOS(N)sumi(由DanlpponChemicals and Ink Co.，Ltd.制造)用作油墨。印刷寿命通过视觉观察确认实心图像密度变浅时的印刷片材的数目而评估。所得结果在以表II-1中给出。
燃烧处理之后的印刷寿命的评估将按照以上评估印刷寿命的相同方式显影得到的平版印刷板的印刷板用一种燃烧用板调节溶液BC-3(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)擦拭，并随后在约240℃进行燃烧处理7分钟。印刷板随后用水洗涤并随后通过水稀释至2倍体积的gum GU-7(由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造)进行处理。
随后，使用印刷机Lithron(由Komori Insatsuki Co.，Ltd.制造)和DIC-GEOS(N)sumi(由Dainippon Chemicals and Ink Co.，Ltd.制造)进行印刷。燃烧之后的印刷寿命通过视觉观察确认实心图像密度变浅时的印刷片材的数目而评估。所得结果在以表II-1中给出。表II-1
表II-1(续)
在表II-1中，用于树脂(A)的共聚物组分如下。
单体-a表示为结构式(I)的单体例举的化合物a-1至a-36单体-b苯乙烯衍生物例举的化合物b-1至b-17单体-c丙烯酰胺衍生物例举的化合物c-1至c-10单体-d丙烯酸酯d-1丙烯酸甲酯d-2甲基丙烯酸甲酯d-3甲基丙烯酸乙酯d-4甲基丙烯酸异丙酯d-5甲基丙烯酸正丁基酯从表II-1的结果显然看出，实施例II-1至II-37中的样品与对比例II-1至II-3中的样品相比具有优异的显影宽容度，尤其是，在进行燃烧处理时优异。
通过在光敏平版印刷板的光敏层中使用本发明红外敏感的光敏组合物，可得到具有优异的显影宽容度和印刷寿命(尤其是，在其中进行燃烧处理的情况下)的光敏平版印刷板。
尽管本发明已根据其具体例子详细描述，但本领域普通技术人员显然看出，各种改变和改进可在不背离本发明主旨和范围的情况下作出。
权利要求
1.一种红外敏感的光敏组合物，包含(A)树脂，(B)酚醛清漆树脂，和(C)光-热转化物质，其中树脂(A)至少具有作为共聚物组分的(1)(甲基)丙烯酸或结构式(I)表示的单体；和(2)至少一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物 其中R1表示氢原子或烷基基团；和X表示亚芳基基团或以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团；和Ar表示亚芳基基团。
2.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是(甲基)丙烯酸，和组分(2)是至少一种选自(甲基)丙烯酰胺衍生物和苯乙烯衍生物的化合物。
3.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是结构式(I)表示的单体 其中R1表示氢原子或烷基基团，和X表示亚芳基基团或以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团，和Ar表示亚芳基基团。
4.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中X表示亚芳基基团。
5.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中X表示以下结构式之一表示的基团 -Ar-Y-其中Y表示二价连接基团，和Ar表示亚芳基基团。
6.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中X表示以下结构式表示的基团 其中Y表示-NR2-Z-，R2表示氢原子或烷基基团，和Z表示二价连接基团。
7.根据权利要求1的红外敏感的光敏组合物，其中组分(1)是一种选自下列化合物(a-29)、(a-33)、(a-34)、(a-35)、和(a-36)的单体
全文摘要
本发明公开了一种红外敏感的光敏组合物，包含(A)树脂，(B)酚醛清漆树脂，和(C)光－热转化物质，其中树脂(A)至少具有作为共聚物组分的(1)(甲基)丙烯酸或表示为本文所定义的结构式(I)的单体；和(2)至少一种选自(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺衍生物，和苯乙烯衍生物的化合物。
文档编号C08K5/00GK1445608SQ0310747
公开日2003年10月1日 申请日期2003年3月20日 优先权日2002年3月20日
发明者芹川健, 河内几生, 土屋光正, 中村一平 申请人:富士胶片株式会社