具有并置的反射镜/偏振器区域的多层光学膜的制作方法

专利名称：具有并置的反射镜/偏振器区域的多层光学膜的制作方法
技术领域：
本发明整体涉及光学膜，尤其适用于这样的膜，所述膜的反射特性很大程度上取决于从设置在该膜内(即，该膜内部)的层与层之间的界面反射的光的相长干涉和相消干涉。本发明还涉及相关系统和方法。
背景技术：
多层光学膜即包含多个不同的层的膜已为人所知，这些层具有不同的折射率和合适的厚度，从而由于这些层之间的界面处反射的光的相长干涉和相消干涉而选择性地反射和透射光。在一些情况下，通过在玻璃基底或其他刚性基底上真空沉积高折射率无机材料 (例如二氧化钛)和低折射率无机材料(例如二氧化硅)的交替层来形成这样的膜。在其他情况下，此类膜如下形成通过模头以交替的层布置方式共挤出不同的有机高分子材料，使挤出物冷却以形成浇铸料片，然后将浇铸料片拉伸以使料片薄至合适的最终厚度。在一些情况下，所述拉伸还可以这样的方式进行以使得交替的聚合物材料中的一者或两者变成双折射的，即其中给定材料对沿着一个方向偏振的光的折射率不同于对沿不同方向偏振的光的折射率。这种双折射可导致成品膜沿着第一面内方向(有时称为X轴或阻光轴)在相邻层之间具有较大的折射率失配，而沿着第二面内方向(有时称为y轴或透光轴)在相邻层之间基本上折射率匹配，于是沿着第一方向偏振的法向入射光高度被反射，而沿着第二方向偏振的法向入射光高度被透射。参见例如美国专利3，610，729 (Rogers)、4，446，305 (Rogers 等人)和5，486，949 (Schrenk等人)。这样的膜通常称为反射式偏振器。双折射还可导致相邻层之间沿着面外方向(即，沿着垂直于膜的轴线)的折射率差值实质上不同于相邻层之间沿着一个或两个面内方向的折射率差值。后一种情况的一个实例为这样的膜，该膜沿着两个正交的面内方向(χ和y)在相邻层之间具有基本上相同的较大折射率失配，使得任何偏振的法向入射光被高度反射，但是其中相邻层沿着面外方向 (ζ)的折射率基本上匹配，使得界面对所谓的“P偏振”光(在入射面内偏振的光)的反射率基本上恒定。参见，例如，美国专利5，882，774(Jonza等人)。这样的膜由于其对任何偏振的法向入射光的高反射率而通常可称为反射镜膜或类反射镜膜。除了别的以外，Jonza等人教导了如何调控相邻微层之间的ζ轴折射率失配(简称为ζ折射率失配或Δηζ)以便于构造布鲁斯特角(P偏振光在界面处的反射率变为零的角度)非常大或不存在的多层叠堆。 这又便于构造这样的多层反射镜和偏振器其对P偏振光的界面反射率随着入射角增加而缓慢减小，或者与入射角无关，或者随着入射角偏离法向而增大。因此，可以得到在宽的带宽上对s偏振光(垂直于入射面偏振的光)和ρ偏振光(对于反射镜以任何入射方向，对于偏振器以选定的方向)均具有高反射率的多层膜。还知道可将图案传递给多层光学膜来形成标记。参见，例如，美国专利 6，045，894 (Jonza 等人)“Clear to Colored Security Film”(透明至彩色安全膜)、 6，531，230 (Weber 等人)"Color Shifting Film” (色移膜)、以及 6，788，463 (Merrill 等人)"Post-Formable Multilayer Optical Films and Methods of Forming，，(可后成形的多层光学膜及形成方法)。通过例如压印模选择性地将压力施加到膜，以使选定范围或区域中的膜变薄而产生所需图案。这种选择性变薄可减少大于5%或大于约10%的厚度，其对选定区域中的整个膜厚均有效，使得在选定区域中，膜内部的光学薄层(“微层”)叠堆相对于膜的相邻区域也变薄，这些微层造成所观察到的反射和透射特性。由于穿过微层的光程长度差变短，微层的这种变薄使与微层相关的任何反射谱带移向较短波长。对于观察者而言，反射谱带的偏移表现为压印和未压印区域之间的反射或透射颜色差异，从而使得图案易于被看到。例如，Merrill等人的‘463专利描述了一种压印色移安全膜，其中包含418个内部微层(两个层组(packet)，每个层组各209个微层)的多层聚合物膜在选定区域中被压印。在压印之前，以及在压印之后的未压印区域中，微层的折射率和厚度所生成的反射谱带的短波长谱带边缘随入射角(视角)而偏移，从法向入射下720nm到45度视角下640nm， 到60度视角下甚至更短的波长，对应于法向下的透明外观、45度下的青色、60下的亮青色。 在这些未压印区域中，膜的厚度为3. 4密耳，即0. 0034英寸。然后，在149°C的辊与预热的压印板之间对膜进行压印，以使膜在选定区域中变薄至约3. 0密耳。压印区域在法向入射下呈现出亮金色，表明谱带边缘从720nm偏移至更短的波长。在压印区域中在倾斜视角下观察到的颜色变化为青色或深蓝色。

发明内容
除了别的以外，本文描述了多层光学膜，其可包括在膜构造中成并列布置方式的偏振器和反射镜，所述膜构造至少在从偏振器到反射镜的面内方向上是连续的或一体的。 因此，形成膜的一个区域中的偏振器的全部或相当大一部分的相同微层可形成膜的另一个 (如)相邻或邻近区域中的反射镜的全部或相当大一部分。偏振器和反射镜均可为宽谱带的，如，在包括可见光谱的扩展波长谱带上反射，或者它们均可为相对窄谱带，如，仅在可见光谱的一部分上反射，以便在反射和/或透射光中提供彩色外观。对于偏振器，当然，在任一种情况下此类反射主要或专门对第一偏振态(称作阻挡偏振态或简称为阻挡态)的光发生，而不会对垂直于第一偏振态的第二偏振态(称作透过偏振态或简称为透过态)的光发生。偏振器和反射镜可设置在具有限定所需图案(如标记)的面内形状的区域中。这些区域可在膜的至少一些部分上是互补的，使得偏振器可(例如)形成标记的背景，而反射镜可形成标记的前景。可以利用下述方法来制造一体的偏振器/反射镜膜，所述方法包括共挤出多个聚合物层、浇铸分层的挤出物、以及将浇铸膜拉伸或以其它方式取向，以在形成光学薄层的相干叠堆或层组的至少一些层中引起双折射。经拉伸的膜此时在其整个面积上可为窄谱带或宽谱带的反射型偏振器，其对阻挡偏振态的选定波长的法向入射光具有高反射率，并且对透过偏振态的选定波长的法向入射光具有低反射率。透过和阻挡偏振态的反射率差异是膜内的光学薄层的双折射造成的。在后续步骤中，膜的选定部分或区域可进行选择性加热，以减小或消除选定区域中的这种双折射，而不会减小膜的其余部分中的双折射，同时保持选定(或“处理过的”)区域中的膜内的层结构的物理完整性。利用适当的材料选择以及利用适当的膜设计(如，层组中足够数量的光学薄层)，减小的双折射可导致选定或处理过的区域中的被改变的层组基本上反射任何偏振的光，即，用作窄谱带或宽谱带反射镜。在一些情况下，如在下文中充分所述，在处理过的区域中提供减小的双折射的选择性加热可至少部分地通过利用高强度辐射(其随后被膜或其选定层吸收以提供吸收式加热)照射这些区域中的膜来实现。这种吸收式加热技术可在未对处理过的区域选择性地施加任何外部压力或力、并且在一些情况下可在处理过的区域中的膜不存在任何显著变薄的情况下实施。可希望用于选择性加热处理过的区域以便减小其组成层的双折射同时保持这些层的结构完整性(而非厚度)的替代技术涉及在具有适当压印工具温度、施加的压力、 和保压时间的精心控制的条件下利用受热压印模具来压印膜。这种可能的替代技术当然确实涉及对处理过的区域选择性地施加压力和力以及确实产生处理过的区域中的膜的变薄 (具有向较短波长的相应谱带偏移)。另外可使用选择性加热处理过的区域的其他技术，包括存在或不存在施加压力情况下的对流加热、传导加热、和辐射加热的任何合适组合。利用吸收式加热技术，可通过下述方式实现选择性双折射减小，所述方式为将适当量的能量审慎地递送至膜的第二区域(没有对未处理过的第一区域递送这种能量)，以便将其中的内部层的至少一些加热至下述温度，所述温度为足够高，以在材料中产生减小或消除原有光学双折射的松弛，而且为足够低，以保持膜内层结构的物理完整性。双折射的减小可以为部分减小，或其可以为完全减小，在此情况下，使第一区域中为双折射的内部层变成第二区域中的光学各向同性的层。在示例性实施例中，至少部分地通过将光或其它辐射能量选择性地递送至膜的第二区域来实现选择性加热。光可以包括紫外光、可见光、或红外波长的光、或它们的组合。被递送的光中的至少一些被膜吸收，从而得到所需的加热，其中所吸收光的量取决于强度、持续时间、和被递送的光的波长分布、以及膜的吸收特性。这种用于内部图案化多层光学膜的吸收式加热技术与已知高强度光源和电子可寻址光束转向系统兼容，从而允许仅通过适当地控制光束(无需专用硬件，例如图像专用压印板或光掩模)在膜中产生实际所需的任何图案或图像。另外描述了下述多层光学膜，其包括布置为通过相长干涉或相消干涉来选择性地反射光的多个内部层，所述层从膜的第一区域延伸至第二区域。在第一区域中，多个层提供代表反射型偏振器的第一反射特性，即一种偏振态的法向入射光基本上被反射并且正交偏振态的法向入射光基本上被透射。在第二区域中，多个层提供代表反射镜的第二反射特性， 即任何偏振态的法向入射光均基本上被反射。如果吸收式加热技术用于将第一反射特性转变为第二反射特性，则这些反射特性之间的差异基本上不归因于膜在第一区域中的第一厚度与膜在第二区域中的第二厚度之间的任何差值，该厚度差值可为零。在一个实例中，膜在第一区域上可以表现出厚度变化 Δ d(例如可以期望得自垂直处理波动)，并且第二厚度可以不同于第一厚度且差值不超过 Δ d，其中第一厚度和第二厚度分别取自第一区域和第二区域上的膜厚度的空间平均值。在一些情况下，膜在其一个或多个组成层中可以包括一种或多种吸收剂，以促进图案化工序期间的加热。第一反射特性的显著反射可限于第一光谱带，并且第二反射特性的显著反射可限于第二光谱带。如果吸收式加热技术用于使膜图案化并且第一和第二区域的膜厚不存在显著差值，则第一和第二光谱带也可为基本上相同的。如果相反，采用压印技术使得第一和第二区域的膜厚存在显著差值，则第一和第二光谱带将为基本上不同的。在一些情况下，第一反射特性可使得一种偏振态和第一波长的法向入射光被反射至少70%、或80%、或90%。第一反射特性也可使得正交偏振态和第一波长的法向入射光被反射不超过(例如)30%、或20%、或10%。第二反射特性可使得任何偏振态和第一波长的法向入射光被反射至少50 %、或70 %、或80 %。另外描述了制备图案化多层光学膜的方法，其包括提供多层光学膜，所述多层光学膜包括布置用于提供第一反射特性的多个内部层，所述第一反射特性与光的相长干涉或相消干涉相关联并且特征在于对一种偏振的法向入射光具有高反射率且对于正交偏振的法向入射光具有低反射率，所述内部层从膜的第一区域延伸至第二区域，并且第一和第二区域各自表现出第一反射特性。该方法还包括在第二区域中选择性加热膜，加热量足以使得第二区域表现出第二反射特性，所述第二反射特性也与光的相长干涉或相消干涉相关联，但特征在于对任何偏振态的法向入射光均具有高反射率。进行选择性加热而膜厚在第二区域中无任何显著降低而且未对膜选择性施加任何压力。或者，进行选择性加热并且对膜选择性地施加压力。第一反射特性可对一种偏振和第一波长的法向入射光具有第一反射率，并且可对正交偏振和第一波长的法向入射光具有第二反射率。第二反射特性可对一种偏振和第一波长的法向入射光具有第三反射率，并且可对正交偏振和第一波长的法向入射光具有第四反射率。在示例性的实施例中，第三反射率低于第一反射率，并且第四反射率高于第三反射率。本文还讨论了相关方法、系统和制品。本专利申请的这些方面和其他方面通过下文的具体描述将显而易见。然而，在任何情况下都不应将上述发明内容理解为是对要求保护的主题的限制，该主题仅受所附权利要求书的限定，并且在审查期间可以进行修改。


图1为具有反射型偏振器特性的一卷多层光学膜的透视图，其已在膜的不同部分或区域中被内部图案化而具备反射镜特性，从而形成标记；图2为多层光学膜的一部分的示意性侧视图；图3为图1的多层光学膜的一部分的示意性剖面图；图4为另一内部图案化的多层光学膜的一部分的示意性剖面图5A-G为对于各种内部图案化的一体的偏振器/反射镜膜的不同制造状态，示出双层光学重复单元的每一层的各个折射率(nX、ny、nZ)的理想图；图6为用于选择性加热多层光学膜以实现内部图案化的构造的示意性侧视图；图7A-C为图案化的多层膜的不同的第二区域的示意性俯视图，其上叠加有相对于可形成所描绘区域的膜的光束可能路径；图8A为示出光束相对强度取决于光束进入膜中深度的理想图，其中为三种不同的多层光学膜给出了三条曲线；图8B为示出局部吸收系数取决于膜内的深度或轴向位置的理想图，其中三条曲线对应于图8A中的三条曲线；图9为所制造的不同浇铸多层料片的透射百分比与波长的关系图；图10为利用图9的浇铸料片之一制备的多层光学膜的透射百分比与波长的关系图；图11为复合多层光学膜(包括利用图9的浇铸料片之一制备的内部图案化的偏振器/反射镜多层光学膜)中的处理过和未处理过的区域的透射百分比与波长的关系图， 其中透射百分比是针对第一或阻挡偏振态的光测定的；并且图12为与图11中相同的复合多层光学膜中的相同处理过和未处理过的区域的透射百分比与波长的关系图，其中透射百分比是针对第二或透过偏振态的光测定的。在这些附图中，类似的附图标号指示类似的元件。
具体实施例方式在至少一些实施例中，本发明所公开的一体的偏振器/反射镜多层光学膜可利用不依赖于膜的选择性变薄以实现图案化的图案化技术来制成。例如，可利用上文所述的吸收式加热技术在初始空间一致的反射偏振膜中形成一个或多个反射镜区域，其中通过将膜暴露于合适的定向辐射来在至少一个区域中选择性加热多层光学膜(不作任何选择性施加压)，这样，在选定区域中至少一些内部层的双折射减小或消除，而在相邻区域中并未减小或消除，同时在选定(处理过的)区域中基本上保持层结构的物理完整性，从而相对于相邻区域改变选定区域中膜的反射特性。膜的各种处理过和未处理区域可具有基本上相同的整体膜厚，或者至少不同区域之间的反射特性差异基本上不归因于区域之间膜厚的任何差值。参考提交于2008年12月22日的美国专利申请61/139，736 "Internally Patterned Multilayer Optical Films Using Spatially Selective Birefringence Reduction”(利用空间选择性双折射减小的内部图案化的多层光学膜)(代理人案卷号64847US002)、以及同日提交的国际专利申请No. PCT/US2009/XXXXXX (代理人案卷号 64847W0003) "Internally Patterned Multilayer Optical Films Using Spatially Selective Birefringence Reduction'^利用空间选择性双折射减小的内部图案化的多层光学膜)，这些申请中的每一个以引用方式并入本文。然而，读者应该记住，本文无意将所描述的一体的偏振器/反射镜多层光学膜局限于用吸收式加热制造技术制成的那些，而是涵盖通过其他合适的技术(例如适当实施的压印技术)制成的实施例。图1示出多层光学膜110，其已利用至少一些内部层(图1中未示出)的空间选择性双折射减小进行了内部图案化或者空间调控。内部图案化限定了不同的区域112、114、116，这些区域的形状形成如图所示的标记“3M”。膜110被示出为绕成卷的长条柔性材料， 因为本文所描述的方法与高产的卷对卷工艺有利地兼容。然而，所述方法不限于柔性卷产品，而是也可在小零件或样品以及非柔性膜和制品上实施。“3M”标记之所以可见，是因为不同的区域112、114、116具有不同的反射特性。在图示实施例中，区域112具有代表反射型偏振器的第一反射特性，区域114、116具有不同于第一反射特性的第二反射特性，该第二反射特性代表反射镜。就这一点而言，出于本专利申请的目的，反射型偏振器可被当作一个光学体，如果波长在层组的反射谱带内，则该光学体强烈地反射沿着一个面内轴线(称作“阻光轴”)偏振的法向入射光，并强烈地透射沿着正交的面内轴线(称作“透光轴”)偏振的此类光。“强烈地反射”和“强烈地透射”可根据预期应用或使用领域而具有不同的含义，但在许多情况下，反射型偏振器将对阻光轴具有至少70%、80%、或90%的反射率，对透光轴具有至少70%、80%、或90%的透射率(小于 30%、20%、或10%的反射率)。相似地，出于本专利申请的目的，如果波长位于层组的反射谱带内，反射镜或类反射镜膜则可以视为强烈反射任何偏振的法向入射光的光学体。再则，根据预期应用或使用领域，“强烈反射”可具有不同的含义，但在多种情况下，反射镜对于在所关注波长下的任何偏振的法向入射光将具有至少50 %、60 %、70 %、80 %、或90 %的反射。反射镜不必对垂直入射的所有偏振均具有相同的反射率，也就是说，其可在下述意义上为不对称的，即，一种偏振态可被反射稍高于或低于正交偏振态，但反射镜相比于偏振器而言，正交偏振态的反射率差值通常较小。通常，但不是必需的，膜110将具有至少部分的透光性，在这种情况下，区域112、 114、116也将具有对应于其各自的反射特性的不同透射特性。通常，当然，透射(T)加反射 (R)加吸收(A) = 100%，或者T+R+A= 100%。在一些实施例中，膜全部由在波长谱的至少一部分上具有低吸收的材料构成。甚至对于那些包含吸收染料或颜料以促进热传递的膜也是如此，因为一些吸收材料的吸收率是波长特异性的。例如，可获得红外染料，其在近红外波长区域中选择性地吸收，而在可见光谱中具有非常小的吸收。在光谱的另一端，许多在多层光学膜文献中被认为低损耗的聚合物材料确实在可见光谱上具有低损耗，但是也在某些紫外波长处具有显著的吸收。因此，在许多情况下，多层光学膜110在波长谱的至少有限部分(例如可见光谱)上可具有很小或可忽略不计的吸收，在这种情况下，在该有限范围上的反射和透射呈现互补关系，因为T+R = 100% -A，并且由于A很小，所以T+R 100%。如将在下文进一步说明的，第一和第二反射特性各自均源于膜110内部的结构特征，而不是源于施加到膜表面的涂层或其他表面特征物。本发明所公开的膜的此方面使其有利于用于安全用途(如，其中该膜将被有意地施加到产品、包装或文件上作为真实性的指示物)，因为内部特征难以复制或伪造。第一和第二反射特性在至少一些观察条件下是明显不同的，以让观察者或机器察觉图案。在一些情况下，可取的是使第一和第二反射特性在可见波长下的差异最大化，以使得图案在大多数观察和照明条件下对人类观察者显眼。在其他情况下，可取的是仅使第一和第二反射特性之间存在细微的差异，或者提供仅在某些观察条件下明显的差异。第一和第二反射特性之间的差异在一些情况下可主要归因于在膜的不同相邻区域中多层光学膜的内部层的折射率性质差异，而不是主要归因于相邻区域之间的厚度差异。
人类观察者或其他观察系统可采用单独的偏振器(称作分析偏振器或简称为检偏器)，来帮助区分第一和第二反射特性，即，帮助区分膜110的偏振器部分与反射镜部分。 检偏器可从第一取向旋转至第二取向，在第一取向下其透光轴与膜的偏振器部分(区域 112)的透光轴对准或平行，在第二取向下其透光轴与膜的偏振器部分的阻光轴对准或平行。在膜110的第一和第二反射特性限于电磁波谱的窄谱带、使得区域112、114、116看起来带颜色的情况下，透过检偏器沿第二取向观察膜110可通过仅观察在可见区域中被部分阻挡的偏振分量，而有助于增加偏振器(区域11 的外观颜色饱和度。这些观察条件还可增大膜110的偏振器部分(区域112)和膜110的反射镜部分(区域114、116)之间的对比度。将检偏器旋转90度(即，返回第一取向)允许观察被区域112的偏振器透过(透射) 的偏振分量，其在示例性实施例中可导致未有观察到的颜色。移除检偏器并观察被膜110 透射或反射的所有偏振光时，所观察到的颜色饱和度和颜色对比度介于使用检偏器时观察到的两个极值之间。—般而言，根据多层光学膜的设计，区域到区域的折射率差异可产生第一和第二反射特性之间的各种差异。在一些情况下，第一反射特性可包括具有给定中心波长、谱带边缘和最大反射率的第一反射谱带，第二反射特性可不同于第一反射特性其具有第二反射谱带，该第二反射谱带的中心波长和/或谱带边缘与第一反射谱带类似，但是最大反射率实质上不同于第一反射谱带(无论更大还是更小)，或者第二反射特性可基本上没有第二反射谱带。根据膜的设计，这些第一和第二反射谱带可仅与一种偏振态的光相关，或者与任何偏振态的光相关。在一些情况下，第一和第二反射特性可在它们的视角依赖性上不同。例如，在法向入射下第一反射特性可包括具有给定中心波长、谱带边缘和最大反射率的第一反射谱带， 在法向入射下第二反射特性可包括与第一反射谱带的这些方面非常类似的第二反射谱带。 然而，随着入射角的增大，尽管第一和第二反射谱带可能均向较短波长偏移，但是其各自的最大反射率可能彼此极大地偏离。例如，第一反射谱带的最大反射率可保持恒定或者随着入射角的增大而增大，而第二反射谱带的最大反射率(或者至少其P偏振分量)可随着入射角的增大而减小。在上文讨论的第一和第二反射特性之间的差异涉及覆盖可见光谱的一部分的反射谱带的情况下，所述差异可被感知为膜的第一和第二区域之间的颜色差异。现在转向图2，这里我们看到多层膜210的一部分的示意性侧视图，以显示包括其内部层的膜的结构。该膜相对于局部x-y-z笛卡尔坐标系示出，其中膜平行于χ和y轴延伸，ζ轴垂直于膜及其组成层并平行于膜的厚度轴。注意，膜210不必是完全平坦的，而是可弯曲或以其他方式成形以偏离平面，并且即使在那些情况下，膜的任意小的部分或区域也可如图示与局部笛卡尔坐标系相关。膜210通常可被认为是代表图1的膜110的区域112、 114,116中的任何一个，因为膜110的各个层优选地从每一个这样的区域连续延伸到下一区域。多层光学膜包括各个层，所述各个层具有不同折射率，以使得一些光在相邻层之间的界面处被反射。这些层(有时称作“微层”)相当薄，足以使在多个界面处反射的光经受相长干涉或相消干涉，从而赋予多层光学膜以所需的反射或透射性质。对于设计成在紫外光、可见光或近红外波长光可反射光的多层光学膜而言，各微层的光学厚度(物理厚度乘以折射率)通常小于约1 μ m。然而，也可以包括较厚的层，例如多层光学膜的外表面处的表层或者设置在多层光学膜内用以分隔微层的相干分组(称为“叠堆”或“层组”)的保护性边界层(PBL)。在图2中，微层用“A”或“B”标记，“A”层由一种材料构成，“B”层由一种不同的材料构成，这些层以交替布置方式层叠，从而形成如图所示的光学重复单元或单位单元ORU U ORU 2、-ORU 6。通常，如果要求高反射率，则全部由聚合物材料构成的多层光学膜便会包括多于6个的光学重复单元。应当注意，除了最上面的“A”层之外，图2所示的所有“A”和“B”微层均为膜210的内部层，所述最上面的“A”层的上表面在此示例性实例中与膜210的外表面210a —致。图底部实质上较厚的层212可代表外表层或者将图中所示的微层叠堆与另一微层叠堆或层组(未示出)分隔的PBL。如果需要，两个或更多个单独的多层光学膜可(例如)用一个或多个厚粘合剂层来层合在一起，或者利用压力、热或其他方法来形成层合物或复合膜。在一些情况下，微层的厚度和折射率值可相当于1/4波长叠堆，即微层被布置成光学重复单元的形式，每个光学重复单元具有光学厚度(f比=50%, f比是组成层“A”的光学厚度与整个光学重复单元的光学厚度之比)相等的两个相邻微层，这类光学重复单元可通过相长干涉有效地反射光，被反射光的波长λ是光学重复单元总光学厚度的两倍，其中物体的“光学厚度”是指其物理厚度乘以其折射率。在其他情况下，光学重复单元中的微层的光学厚度可彼此不同，因此f比大于或小于50%。在图2的实施例中，为具有一般性将 “A”层示出为比“B”层薄。每一示出的光学重复单元(ORU UORU 2等)的光学厚度(01\、 OT2等)等于其组成层“A”和“B”的光学厚度之和，并且每一光学重复单元反射波长λ为其总光学厚度两倍的光。一般的多层光学膜以及本文特别讨论的内部图案化的多层膜中使用的微层叠堆或层组所具备的反射率，通常实质上是基本镜面的而不是漫射的，这是微层之间基本光滑的清晰限定的界面以及典型构造中使用的低雾度材料的结果。然而，在一些情况下，通过例如在表层和/或PBL层中使用漫射材料，和/或使用一种或多种表面漫射结构或纹理化表面，成品可被定制成具有任何所需程度的散射。在一些实施例中，层叠堆中的光学重复单元的光学厚度可彼此全部相等，从而得到高反射率的窄反射谱带，其中心波长等于各光学重复单元的光学厚度的两倍。在其他实施例中，光学重复单元的光学厚度可根据沿着ζ轴或膜厚方向的厚度梯度而不同，从而光学重复单元的光学厚度随着从叠堆的一侧(如顶部)到叠堆的另一侧(如底部)而增大、减小或遵循某些其他函数关系。这样的厚度梯度可用来形成增宽的反射谱带，从而得到光在所关注的扩展波长谱带以及在所关注的所有角度上基本光谱上平坦的透射和反射。也可使用这样的厚度梯度，其被定制成可使高反射和高透射之间的波长过渡处的谱带边缘锐化，如美国专利 6，157，490 (Wheatley 等人)“Optical Film With Sharpened Bandedge”(具有锐化的谱带边缘的光学膜)中所讨论的。对于聚合物多层光学膜，反射谱带可被设计成具有锐化的谱带边缘以及“平顶”反射谱带，其中反射性质在应用的整个波长范围内基本上恒定。还可以想到其他层结构，诸如具有2微层光学重复单元的多层光学膜(其f比不同于50% )，或光学重复单元包括两个以上微层的膜。这些可供选择的光学重复单元设计可被配置成减少或激发某些更高阶的反射，当所需反射谱带存在于或延伸到近红外波长时，这样做可能是有用的。参见例如，美国专利5，103, 337 (Schrenk 等人)“Infrared Reflective Optical Interference Film”(红外反射光学干涉膜)、5，360，659 (Arends 等人)"Two Component Infrared Reflecting Film，，(两组分红夕卜反射膜)、6，207, 260 (Wheatley 等人)"Multicomponent Optical Body” (多组分光学体)、 以及 7，019，905(Weber) "Multi-layer Reflector With Suppression of High Order Reflections"(抑制高阶反射的多层反射器)。因此可根据需要定制厚度梯度和光学重复单元设计，从而得到本文所公开的在限定光谱带上具有显著反射性(就偏振器而言针对阻挡偏振态，并且就反射镜而言针对两种正交偏振态)的实施例中的反射镜和偏振器。例如，在只是基本上一个光谱带上的所述可观的反射率可为至少50 %，或者至少60 %、70 %、80 %或90 %或更高，所述谱带设置在光谱的可见光部分或任何其他所需部分。例如，所述谱带的带宽可小于200nm、或150nm、或 lOOnm、或50nm或更小，所述带宽可作为半峰全宽(FWHM)反射率进行测量。如上所述，所述谱带可与零阶反射相关，或者如果光学重复单元被合适地设计，可与所需的更高阶反射相关。如上所述，多层光学膜的相邻微层具有不同的折射率，使得一些光在相邻层之间的界面处被反射。将微层中的一个(如图2中的‘‘A”层)对于沿x、y、和ζ主轴偏振的光的折射率分别称为nlx、nly、和nlz。将相邻微层(如图2中的“B”层)沿相同轴的折射率分别称为n2X、n2y、n2Z。例如，χ轴、y轴和ζ轴可对应于材料的介电张量的主方向。通常， 并且出于讨论目的，不同材料的主方向是一致的，但是这无需为一般情况。将这些层之间的折射率差异称作沿着χ方向的Δηχ( = nlx-r^x)、沿着y方向的Δny ( = nly-n2y)、以及沿着ζ方向的Δηζ( = η1ζ-ι^ζ)。这些折射率差异的性质连同膜中(或膜的给定叠堆中) 的微层数量及其厚度分布，一起控制给定区域中膜(或膜的给定叠堆)的反射和透射特性。 例如，如果相邻微层沿着一个面内方向具有较大的折射率失配(Δηχ较大)，而沿着正交的面内方向具有较小的折射率失配(Any ^ 0)，则该膜或层组对法向入射光可起到反射式偏振器的作用。出于本专利申请的目的，如果材料在所关注的波长范围(例如，光谱的紫外光、可见光和/或红外光部分中的选定波长或谱带)上具有各向异性的介电张量，则该材料被认为是“双折射”的。换句话说，如果材料的主折射率(例如，nlX、nly、nlZ)不全相同，则该材料被认为是“双折射”的。又如，相邻微层可沿着两个面内轴线均具有较大的折射率失配(Δηχ较大，并且 Any较大)，在这种情况下，膜或层组可起到同轴反射镜的作用。在上述实施例的变型中，相邻微层可沿着ζ轴表现出折射率匹配或失配(Δηζ 0 或Δηζ较大)，并且失配的极性或正负可与面内折射率失配相同或相反。对Δηζ的这种调控在斜入射光的P偏振分量的反射率随着入射角增大而增大、减小、还是保持相同方面扮演着关键角色。根据沿不同轴的可能折射率差值的大量排列、层的总数量及其厚度分布、以及包括在多层光学膜中的微层层组的数量和类型，则可能的多层光学膜210及其层组的种类是巨大的。所述多层光学膜是指公开于本文的专利文献(无论是否取得专利权、并且无论由美国专利局还是由另一个国家或专利机构公布)、以及下述专利文献中的任何一者内的多层光学膜，所有专利文献均以引用方式并入本文美国专利5，486，949 (Schrenk 等人)“Birefringent Interference Polarizer”(双折射干涉偏振器)；美国专利 5，882，774(Jonza 等人)"Optical Film” (光学膜)；美国专利 6，045，894(Jonza 等人)“Clear to Colored Security Film”(透明至彩色安全膜)；美国专利 6, 179, 949 (Merrill ^A ) "Optical Film and Process for Manufacture Thereof"( 7 学膜及其制造方法)；美国专利6，531，230 (Weber等人)"Color Shifting Film”(色移膜)；美国专利 6，939，499 (Merrill 等人)"Processes and Apparatus for Making Transversely Drawn Films with Substantially Uniaxial Character，，(制备具有基本上单轴特性的横向拉延膜的方法和设备)；美国专利7，256，936 (Hebrink等人)“Optical Polarizing Films with Designed Color Shifts”(具有所设计的色移的光学偏振膜)；美国专利 7，316，558 (Merrill 等人)“Devices for Stretching Polymer Films，，(用于拉伸聚合物膜的装置)；PCT 公布 WO 2008/144136 Al (Nevitt 等人)“Lamp-Hiding Assembly for a Direct Lit Backlight”(用于直接照明式背光源的灯隐藏组件)；PCT公布WO 2008/144656 A2 (Weber 等人)"Backlight and Display System Using Same，，(背光源及使用其的显示系统)。应当注意，多层光学膜的至少一个层组中的微层中的至少一些在膜的至少一个区域(如图1中的区域112)中为双折射的。因此，光学重复单元中的第一层可为双折射的 (即，η χ Φ nly,或者nix Φ nlz，或者nly Φ nlz)，或者光学重复单元中的第二层可为双折射的(即，η2χ Φ n2y,或者η2χ Φ η2ζ，或者n2y Φ η2ζ)，或者第一和第二层二者可均为双折射的。此外，一层或多层这种层的双折射相对于相邻区域在至少一个区域中的双折射得以减小。在一些情况下，这些层的双折射可减弱至零，使得它们在一个区域中为光学上各向同性的(即，nix = nly = nlz，或n2x = n2y = nh)，而在相邻区域中为双折射的。在两个层初始均为双折射的情况下，根据材料选择和加工条件，这些层可被处理成使得仅一个层的双折射实质上减弱，或者两个层的双折射均可减弱。示例性多层光学膜由聚合物材料构成，并且可利用共挤出、浇铸和取向工艺来制造。参考美国专利5，882，774(J0nza等人)"Optical Film”(光学膜)、美国专利 6, 179, 949 (Merrill ^A ) "Optical Film and Process for Manufacture Thereof" (7 学膜及其制造方法)、以及 6，783，349 (Neavin 等人)“Apparatus for Making Multilayer Optical Films”(用于制备多层光学膜的设备)。多层光学膜可如上述任何参考文献中所述通过聚合物的共挤出来形成。优选地，选择各层的聚合物使之具有相似的流变性质(例如，熔体粘度)，以使得它们可被共挤出而不会产生显著的流体扰动。选择挤出条件以便以连续稳定的方式将各自聚合物充分地给料、熔融、混合并作为进料流或熔融流泵送。可选择用于形成并保持各熔融流的温度，成使之在一定范围内，以避免在温度范围的下端发生凝固、结晶、或不当的高压降，同时避免在温度范围的上端发生材料降解。简单概括来讲，制造方法可包括(a)提供至少第一和第二树脂流，其对应于成品膜中将使用的第一和第二聚合物；(b)利用合适的送料区块将第一和第二流分成多个层， 所述合适的送料区块例如包括下述的送料区块(i)包括第一和第二流动通道的梯度板， 其中第一通道具有沿流动通道从第一位置变化至第二位置的横截面面积；(ii)进料管板， 其具有与第一流动通道流体连通的第一多个导管以及与第二流动通道流体连通的第二多个导管，各导管向其各自相应的缝型模头进料，各导管具有第一端部和第二端部，导管的第一端部与流动通道流体连通，导管的第二端部与缝型模头流体连通；以及(iii)可选地，轴向棒加热器，其邻近所述导管设置；(C)使复合流流过挤出模头以形成多层料片，其中各层大致平行于相邻层的主表面；以及(d)将多层料片浇铸到冷却辊(有时也称为浇铸轮或浇铸鼓)上，以形成铸造多层膜。该浇铸膜可具有与成品膜相同数量的层，但是浇铸膜的层通常比成品膜的那些层厚很多。此外，浇铸膜的层通常全部为各向同性的。铸造多层料片还可使用许多替代方法来制造。美国专利5，389，324 (Lewis等人) 中描述了一种替代方法，该方法也利用聚合物共挤出。冷却后，拉延或拉伸多层料片以生成接近成品的多层光学膜，详见上述的参考文献。拉延或拉伸实现两个目标其使层变薄至其所需的最终厚度；其使层取向，以使得层中的至少一些变成双折射的。取向或拉伸可沿横维方向(如经由拉幅机)、沿纵维方向(如经由长度取向机)、或其任何组合(无论同时还是依次进行)而实现。如果仅沿着一个方向拉伸，则该拉伸可以是“无约束的”(其中膜的尺寸允许在垂直于拉伸方向的面内方向上有松动)、或“有约束的”(其中膜被约束，并因此不允许在垂直于拉伸方向的面内方向上有尺寸松动)。如果沿着两个面内方向拉伸，则拉伸可以是对称的(即，沿着正交的面内方向相等)或不对称的，但是通常不采用对称拉伸来制造反射偏振膜。作为另一种选择，也可通过间歇工艺来拉伸膜。在任何情况下，可以后续地或同时地对膜施加拉延减少、应力或应变平衡、热定型、以及其他加工操作。多层光学膜和膜体还可包括附加层和涂层，这些层根据其光学、力学和/或化学特性进行选择。例如，可在膜的一个或两个主外表面上添加紫外吸收层，以保护膜免于紫外光引起的长期降解。附加层和涂层还可包括抗刮涂层、抗撕层和硬化剂。参见例如美国专利 6，368，699 (Gilbert 等人)。在一些情况下，构成多层光学膜的组成聚合物材料中的一种、一些或全部的天然或固有吸收性可用于吸收式加热工序。例如，在可见光区域上损耗低的许多聚合物在某些紫外光和/或红外光波长处具有高得多的吸收性。将膜的一些部分暴露于这些波长的光可用来选择性加热膜的这些部分。在其他情况下，可将吸收染料、颜料或其他试剂掺入到多层光学膜的各个层的一些或全部层中，以促进如上所述的吸收式加热。在一些情况下，此类吸收剂具有光谱选择性，因此它们在一个波长区域中吸收，而在另一波长区域中不吸收。例如，本发明所公开的一些膜可旨在用于可见光区域，例如与防伪安全标签一起使用或用作液晶显示(LCD)装置或其他显示装置的元件，在这种情况下，可使用在红外光或紫外光波长下吸收，而在可见光波长下基本上不吸收的吸收剂。另外，可将吸收剂掺入到膜的一个或多个选定层中。例如， 膜可包括两个不同的微层层组、层合粘合剂、一个或多个表层等，其中所述两个不同的微层层组通过光学厚层(例如，保护性边界层(PBL))分隔开，并且吸收剂可被掺入一个层组而不掺入到另一层组中，或者可掺入到两个层组中，但是一个层组中的浓度高于另一个层组中的浓度。可使用多种吸收剂。对于在可见光谱下工作的光学膜，可使用在紫外光和红外光 (包括近红外光)区域吸收的染料、颜料或其他添加剂。在一些情况下，可能有利的是选择在这样的光谱范围下吸收的试剂对于该光谱范围而言，膜的聚合物材料具有实质上较低的吸收。通过将这样的吸收剂掺入到多层光学膜的选定层中，定向辐射可优先地将热递送至选定层，而不是递送至膜的整个厚度。示例性吸收剂可以是能够熔融挤出的，以使其能够嵌入所关注的选定层中。为此，吸收剂最好在挤出所需的加工温度和停留时间的条件下具有适当的稳定性。一些可能的红外染料包括以商品名Epolight 得自Epolin，Inc.的镍、钯、和钼基染料中的任一者。其他合适的备选染料包括得自ColorChem International Corp. (Atlanta,Georgia)的Amaplast 牌染料。关于合适的吸收剂的更多的信息，参见美国专利 6，207，260 (Wheatley 等人)"Multicomponent Optical Body” (多组分光学体)。在一些情况下，吸收剂可为非线性吸收剂，S卩，其可为或可包括光能吸收系数取决于强度或注量(fluence)的组合物，其中强度是指每单位时间每单位面积的能量，注量是指每单位面积的能量密度或能量。例如，非线性光吸收剂可以是双光子类型或者反饱和吸收类型。双光子吸收过程是非线性光吸收过程，其中光子能量大约等于材料的线性激发所需能量的一半。因此，吸收材料的激发需要同时吸收两个较低能量的光子。可用的双光子吸收剂的实例包括那些表现出大的多光子吸收截面的吸收剂，例如若丹明B(即，N-[9-(2-羧基苯基)-6-( 二乙氨基)-3H-咕吨-3-亚基]-N-乙基乙铵氯化物和若丹明B的六氟锑酸盐)、以及(例如)PCT 公布 WO 98/21521 (Marder 等人)和 WO 99/53242 (Cumptson 等人) 中描述的四类光敏剂。反饱和吸收过程有时也称为激发态吸收，其特征在于对吸收过程中所涉及的激发态的吸收截面远大于对从基态到激发态的激发的截面。总光吸收涉及基态吸收和激发态吸收二者。反饱和吸收材料的例子包括例如金属酞菁、萘酞菁、菁、富勒烯、金属纳米颗粒、金属氧化物纳米颗粒、金属团簇化合物、吓啉、靛蒽醌衍生物和低聚物或其组合。金属酞菁的例子包括例如酞菁铜(CuPC)、以及包含IIIA族(Al、Ga、In)和IVA族(Si、Ge、Sn、Pb)金属或准金属的酞菁。萘酞菁的例子包括例如硅(SiNC)Ji (SnNC)和铅O^bNC)的酞菁衍生物。菁的例子包括例如碘化1，3，3，1'，3'，3'-六甲基吲哚三羰花青(HITCI)。富勒烯的例子包括C60和C70富勒烯。金属纳米颗粒的例子包括金、银、铝、和锌纳米颗粒。金属氧化物纳米颗粒的例子包括二氧化钛、氧化锑锡、和二氧化锆纳米颗粒。金属团簇的例子包括铁三钴金属团簇，例如HFeCo3(CO)12和NEt4FeCO3(CO)12t5卟啉的例子包括四苯基卟啉 (H2TPP)、四苯基卟啉锌(ZnTPP)、和四苯基卟啉钴(CoTPP)。靛蒽醌衍生物的例子包括未取代的靛蒽醌、氧化靛蒽醌、氯代靛蒽醌、和靛蒽醌低聚物。现在转向图3，该图示出图1的多层光学膜110在区域112与区域116的边界处区域118附近的一部分的示意性剖面图，其中假设已使用吸收式加热技术而不是压印技术来形成区域116。在膜110的此放大图中，可看到窄过渡区域115将区域112与相邻区域116 分隔开。根据加工细节，这种过渡区域可存在或不存在，如果不存在，则区域116可紧邻区域112而没有明显的居间特征物。还可看到膜110的构造细节膜在其相对侧上包括光学厚表层310、312，且多个微层314和另一多个微层316设置在表层310、312之间。所有的微层314、316均由于外表层而处于膜110的内部。图中微层314与316之间的空间被留为开放的，以考虑到微层314、316是在一个表层310处开始并在相对表层312处结束的单个微层层组的部分的情况以及微层314、316是两个或更多个不同微层层组的部分的情况，其中所述两个或更多个不同微层层组通过一个或多个光学厚保护性边界层(PBL)或另一光学厚内部层彼此分隔开。在任一种情况下，微层314、316优选地各包括布置成光学重复单元的两种交替的聚合物材料，微层314、316中的每一个以侧向或横向方式从区域112连续延伸至相邻区域116，如图所示。微层314、316通过相长干涉或相消干涉在区域112中提供第一反射特性，并且微层314、316中的至少一些是双折射的。区域115、116先前具有与区域112相同的特性，但是已经被如下处理对其选择性地施加热，所施加热的量足以减小或消除区域116中的微层314、316中的一些的双折射，同时保持区域112中的微层的双折射， 所述热还足够低以保持处理过的区域116中的微层314、316的结构完整性。区域116中的微层314、316的减小的双折射是造成区域116的第二反射特性的主要原因，该第二反射特性不同于区域112的第一反射特性。如图所示，膜110在区域112中具有特征厚度dl、d2，在区域116中具有特征厚度 dl’、d2’。厚度dl、dl’是在相应区域中从膜的前外表面到膜的后外表面测量的物理厚度。 厚度d2、d2’是从最靠近膜的前表面设置的微层(在微层层组的一端)到最靠近膜的后表面设置的微层(在相同或不同微层层组的末端)测量的物理厚度。因此，如果希望将区域 112中的膜110的厚度与区域116中的膜厚相比，则可选择比较dl与dl，或者d2与d2，， 这取决于哪一种测量更方便。在大多数情况下，dl和dl’之间的比较可很好地产生与d2和 d2’之间的比较基本上相同的结果(成比例)。(当然，在膜不包含外表层以及微层层组在膜的两个外表面处终止的情况下，dl和d2变得相等。)然而，如果存在显著差别，例如如果表层从一处到另一处经历显著厚度变化，但是在下面的微层中不存在对应的厚度变化，或者反之亦然，则鉴于与微层层组相比，表层通常对膜的反射特性具有很小的影响，所以或许可取的是使用d2和d2’参数，因为其更能代表不同区域中的整体膜厚。当然，对于包含两个或更多个通过光学厚层彼此分隔的不同微层层组的多层光学膜而言，任何给定微层层组的厚度也可被测量并表征为在层组中沿着ζ轴从第一个微层到最后一个微层的距离。在比较不同区域112、116中膜110的物理特性的更深入的分析中， 这一信息会变得重要。如所提及的，图3假设区域116已通过选择性施加热进行处理，以使得微层314、 316中的至少一些相对于其在相邻区域112中的双折射，失去其双折射的一些或全部，从而由于微层对光的相长干涉或相消干涉而使得区域116表现出与区域112的反射特性不同的反射特性。选择性加热处理可不涉及对区域116选择性地施加压力，这可导致膜基本上没有厚度变化(无论使用参数dl/dl’还是参数d2/d2’)。例如，膜110在区域116中的平均厚度与在区域112中的平均厚度的偏差可不超过在区域112中即在未处理过的膜中观察到的正常厚度波动。因此，在区域112中，或者在对区域116进行热处理之前膜的涵盖区域 112和区域116的一部分的区域上，膜110可表现出Ad的厚度(无论dl还是d2)波动，并且区域116的空间平均厚度dl’、d2’与区域112中的空间平均厚度dl、d2(分别)之间的差异可不超过Ad。参数Ad可表示例如在厚度dl或d2的空间分布中的一个、两个、或三个标准偏差。在一些情况下，区域116的热处理可给区域116中的膜厚带来某些变化。这些厚度变化可源于(例如)构成多层光学膜的不同材料的局部收缩和/或膨胀，或者可源于一些其他热诱导现象。然而，相比于处理过的区域中的双折射的减小或消除所起的重要作用， 这样的厚度变化(如果发生的话)在对处理过的区域116的反射特性的影响方面仅起着次要作用。还需要注意，在许多情况下，或许可取的是在实现内部图案化的选择性热处理期间通过使其边缘承受张力来固定膜，以避免膜皱缩或基于其他原因。所施加张力的量以及热处理的具体细节也会导致被处理区域中的一些厚度变化。当然，如果使用压印技术而不是吸收式加热技术，则可能发生区域116相对于区域112显著变薄的情况，同时伴随着光谱特征移向较短波长。在一些情况下，可通过分析膜的反射特性来区分厚度变化与双折射变化的效应。 例如，如果未处理过的区域(如区域11 中的微层提供由左谱带边缘(LBE)、右谱带边缘 (RBE)、中心波长λ。、和峰值反射率R1表征的反射谱带，则对于处理过的区域，这些微层的给定厚度变化(其中微层的折射率无变化)将产生下述反射谱带，该反射谱带具有与R1大约相同的峰值反射率R2，但相对于未处理区域的反射谱带的那些特征却具有在波长中成比例偏移的LBE、RBE、和中心波长，并且这种偏移可进行测定。另一方面，双折射变化通常将仅使LBE、RBE和中心波长在波长上发生非常微小的偏移，这是双折射变化所引起的(通常非常小的)光学厚度变化的结果。(前已述及光学厚度等于物理厚度乘以折射率。还需记住的是反射偏振膜不仅具有对应于阻挡态的光的反射谱带，而且还具有对应于透过态的光的相对弱的反射谱带。)然而，根据微层叠堆的设计，双折射变化可对反射谱带的峰反射率具有大的或至少显著的影响。因此，在一些情况下，双折射变化可使被改变的区域中的反射谱带的峰反射率R2实质上不同于R1，其中当然，在相同的照明和观察条件下比较R1和&。 如果以百分比表示R1和&，则&与R1的差异可为至少10%、或至少20%、或至少30%。为了说清楚，例如=R1可为70%, 可为60%、50%、40%或更小。或者，R1可为10%, 可为 20^^30^^40%或更大。还可通过它们的比率来比较R1和&。例如，或其倒数可为至少2或至少3。峰反射率的显著变化表征由于双折射变化所引起的相邻层之间的折射率差异变化导致的界面反射率(有时称为光功率)变化，就这方面来说，其通常伴有反射谱带带宽的至少一些变化，其中带宽是指LBE和RBE之间的间距。如已经讨论过的，在一些情况下，即使在热处理期间事实上未对区域116选择性地施加压力，处理过的区域116中的膜110的厚度(即，dl’或d2’ )也可在一定程度上不同于未处理区域112中的膜厚。因此，图3示出dl’略微不同于dl，d2’略微不同于d2。还为具有一般性示出过渡区域115，以示出作为选择性热处理的结果，在膜的外表面上可存在 “凸起”或其他可检测的人工痕迹。然而，在一些情况下，所述处理不会在相邻的处理过和未处理区域之间导致可检测的人工痕迹。例如，在一些情况下，观察者将其手指滑过区域之间的边界时不会察觉区域之间的凸起、隆起或其他物理人工痕迹。在一些情况下，处理过和未处理区域之间的厚度差异在整个膜的厚度范围内可不按比例。例如，在一些情况下，在处理过和未处理区域之间，外表层可具有相对小的厚度差异(以百分变化表示)，而在同样这两个区域之间，一个或多个内部微层层组可具有较大的厚度差异(也以百分变化表示)。图4示出采用内部图案化的另一多层光学膜410的一部分的示意性剖面图。膜 410包括具有光学厚度的外表层412、414以及位于夹在表层之间的层416中的微层层组。 所有微层均在膜410内部。(在可供选择的实施例中，可将一个表层或两个表层都省掉，在这种情况下，一个或两个PBL或者层组中最外侧的微层可变为外部层。)所述微层中的至少一些微层在膜的至少一些范围或区域中为双折射的并且至少在膜的相邻区域之间以侧向或横向方式延伸。所述微层至少在膜的第一未处理区域422中提供与光的相长干涉或相消干涉相关联的第一反射特性。膜410在相邻区域420、424中已被选择性加热(在一些情况下，未对这些区域选择性地施加任何压力)，以提供也与光的相长干涉或相消干涉相关联的第二反射特性，但是该第二反射特性不同于第一反射特性。这些反射特性差异可作为处理过和未处理区域之间反射或透射光的颜色差异呈现给观察者。相应的颜色以及颜色之间的差异通常还随着入射角而变化或偏移，膜410在区域420、422、424中可具有基本上相同的膜厚，或者膜厚在这些区域之间可稍有差别，但是在至少一些情况下，区域之间的任何膜厚差异并非导致第一和第二反射特性之间差异的主要原因。区域420、422、似4形成图案，该图案位于膜内部(如层416中的交叉阴影线示出)。交叉阴影线表明相比于其在区域422 中或其他未处理过的区域中的双折射，交叉阴影区域中的微层中的至少一些具有减小的双折射(包括零双折射)。现在来看图5A-G的理想化图示。这些图有助于说明多层光学膜的图案化过程。它们也有助于说明未处理区域中的第一反射特性与处理过的区域中的第二反射特性的一些不同的可能组合，以及它们是如何实现的。出于说明目的，光学膜的未处理过和处理过的区域这二者的反射特性可归类为以下三种类型中的一种类反射镜反射特性、类窗口反射特性、和类偏振器反射特性。类反射镜反射特性对法向入射光的所有偏振态表现出高反射率 (例如，在一些情况下，大于50%、60%、70%、80%、90%、95%、或99%)，类窗口反射特性对法向入射光的所有偏振态表现出低反射率(例如，在一些情况下，小于ZO^UO^j^、 3%、或)，类偏振器反射特性对一个偏振态的法向入射光表现出高反射率(例如，在一些情况下，大于50%、60%、70%、80%、90%、95%、或99% )，而对不同偏振态的法向入射光表现出低反射率(例如，在一些情况下，小于30%、20%、10%、5%、3%、或1%)。(或者， 可以一个偏振态相对于另一偏振态的反射率差异来表示类反射式偏振器特性。)读者应该记住，除非另外指明，本文所讨论的与多层光学膜或叠堆相关的反射率值应该被认为不包括外部空气/聚合物界面处的菲涅耳反射。这些不同特性的边界或极限(例如，何为“高”反射率以及何为“低”反射率)以及它们之间的区别，可取决于最终应用和/或系统要求。例如，对所有偏振态表现出中等水平的反射率的多层光学膜或其微层层组对于一些应用而言可被认为是反射镜，而对其他应用而言可被认为是窗口。类似地，对法向入射光的不同偏振态提供适度不同水平的反射率的多层光学膜或其微层层组对于一些应用而言可被认为是偏振器，而对于另一些应用可被认为是反射镜，对于再有一些应用而言可被认为是窗口，这取决于确切反射率值以及给定最终应用对不同偏振态的反射率差异的敏感度。除非另外指明，反射镜、窗口和偏振器等类别是专指法向入射光而言的。读者应该理解，倾斜角度时的特性在一些情况下可与法向入射时光学膜的特性相同或相似，而在其他情况下可与之完全不同。图5A-G代表上述一体的偏振器/反射镜多层光学膜。具有反射特性的其他组合的多层光学膜，如，一体的反射镜/窗口膜、一体的偏振器/窗口膜、一体的反射镜/反射镜膜、一体的偏振器/偏振器膜等等，更完整地论述于以引用方式并入本文的下述专利申请的一个或多个中国际专利申请No. PCT/US2009/XXXXXX (代理人案卷号 64847W0003) "Internally Patterned Multilayer Optical Films Using Spatially Selective Birefringence Reduction'^利用空间选择性双折射减小的内部图案化的多层光学膜)；国际专利申请No. PCT/US2009/XXXXXX(代理人案卷号65848W0002) "InternallyPatterned Multilayer Optical Films With Multiple Birefringent Layers，，(具有多个双折射层的内部图案化的多层光学膜)；以及国际专利申请No. PCT/US2009/XXXXXX (代理人案卷号 65849W0002)“Multilayer Optical Films Having Side-by-Side Polarizer/ Polarizer Zones"(具有并置的偏振器/偏振器区域的多层光学膜)。在图5A-G的图中的每一个中，相对折射率“η”绘制于垂直轴上。在水平轴上，为表征双层光学重复单元的六个折射率的每一个提供位置或标记“lx”、“ly”和“lz”表示第一层沿χ轴、y轴和ζ轴的折射率，其在上文中被称为nlX、nly和nlz。同样，“h”、“2y”和 “2z”表示第二层沿χ轴、y轴和ζ轴的折射率，其在上文中被称为r^X、n2y和n2z。图中的菱形符号( )表示第一加工阶段中的材料的折射率。该第一阶段可对应于聚合物层已被挤出并淬火或浇铸到例如浇铸轮上，但是还未被拉伸或取向。图中的空心(非实心)圆形符号(〇)表示第一阶段之后的第二加工阶段中的材料的折射率。第二阶段可对应于聚合物层已被拉伸或取向为多层光学膜，该多层光学膜通过相长干涉或相消干涉从膜内的微层之间的界面反射光。图中的小实心圆形符号或圆点(·)表示在第一和第二阶段之后的第三加工阶段中的材料的折射率。第三阶段可对应于聚合物层在被挤出和取向之后被选择性地热处理，如下文进一步讨论的。这样的热处理通常限于膜的一个或多个特定部分或区域， 称作处理过的区域。通过比较给定图中的各种符号的垂直坐标，读者可容易地发现关于光学膜、其制造方法及其处理过和未处理过的部分的光学特性的大量信息。例如，读者可发现一个或两个材料层在选择性热处理之前或之后是否为双折射的、双折射是单轴的还是双轴的、以及双折射是大还是小。读者还可从图5A-G中发现在三个加工阶段的每一个(浇铸状态、拉伸状态、和已处理状态)，两个层之间的折射率差异Δηχ、Any、Δηζ中的每一个的相对大小。如上所述，成品的内部图案化的多层光学膜的前体制品可以是聚合物材料的浇铸料片。浇铸料片可具有与成品膜相同数量的层，并且所述层可由与成品膜中所用的那些材料相同的聚合物材料构成，但浇铸料片更厚且其层通常全部是各向同性的。然而图中未示出，在一些情况下，浇铸处理本身可在一种或多种材料中赋予一定程度的取向和双折射。图 5A-G中的菱形符号表示浇铸料片中的两个聚合物层的折射率，其在后续的拉伸工序之后变为多层光学膜的光学重复单元中的微层。在拉伸之后，至少一些层变为取向的和双折射的， 并且形成取向(但是仍未图案化)的多层光学膜。这在图5A-G中通过空心圆示出，所述空心圆可以从其由菱形符号表示的相应初始值垂直移位。例如，在图5Α中，拉伸工序提高第二层沿χ轴的折射率，但降低其沿y轴和ζ轴的折射率。这种折射率偏移可以通过下述方式获得沿χ轴适当地单轴拉伸正双折射聚合物层，同时允许膜沿y轴和ζ轴在尺寸上松弛。在图5C-G中，拉伸工序提高第一层沿χ轴和y轴的折射率，并且降低其沿ζ轴的折射率。这样的折射率偏移可通过沿χ轴和y轴适当地双轴拉伸正双折射的聚合物层来获得。 (在这些图中，拉伸操作使得第二材料的折射率以与第一材料不同的方式偏移，为此采用的技术在下文中讨论。)在图5B中，拉伸工序提高第一层沿χ轴的折射率，降低其沿ζ轴的折射率，并且保持沿y轴大致相同的折射率。在一些情况下，这种折射率偏移可以通过下述方式获得相比于沿y轴，沿χ轴使用较高程度的拉伸，沿χ轴和y轴不对称地双轴拉伸正双折射聚合物层。在其它情况下，这可以大致通过下述方式获得沿χ轴单轴拉伸，同时在y 轴上约束膜(受约束的单轴拉伸)。应当注意，在图5B-G中的每一个中，处于取向但未处理状态(空心圆)的第一层为双折射的，因为用于nlX、nly、和nlz的空心圆中的至少两个具有折射率η的不同值。在图5Β中，第二聚合物层在拉伸之后保持为各向同性的，如通过对于浇铸状态以及对于取向但未处理的状态的相同折射率值(rib = n2y = n2z)所指示的。如上所述，在形成至少部分双折射的多层光学膜(其微层布置成光学重复单元) 以提供第一反射特性之后，该膜准备选择性加热。加热在邻近多层光学膜的第一区域的第二区域中选择性地进行，并且被调控，以选择性地熔融和解除取向(部分或整体)微层层组中的至少一种双折射材料，以便减小或消除微层中的至少一些中的双折射，同时使第一 (未处理)区域中的双折射无变化。还可进行选择性加热以保持第二区域中的层的结构完整性。如果处理过的第二区域中的双折射材料全部(即，完全)解除取向，则双折射微层返回到(例如，浇铸料片的)各向同性状态，同时仍保持为光学上的薄层。这可从例如图5A 中看出，其中热处理使得第二层的折射率(参见与n2X、n2y、和Iih相关的小黑点)恢复至其浇铸料片状态下的值(参见用于折射率n2X、n2y、r^Z的菱形符号)。前已述及，菱形符号表示处于各向同性状态的层(例如，浇铸料片)的折射率，小黑点表示成品的内部图案化膜中处于处理过或选择性加热的区域中的微层的折射率，空心圆表示成品的内部图案化膜中处于未处理区域中的微层的折射率。如果处理过的第二区域中的双折射材料仅部分地(即，不完全地)解除取向， 则双折射微层弛豫至这样的双折射状态，其比加热之前的双折射状态小，但不是各向同性。在这种情况下，双折射材料在处理过的第二区域中的折射率获得位于图5A-G中所示的介于菱形符号和空心圆之间某个位置处的值。这样不完全的双折射弛豫的一些例子在同日提交的共同转让的国际专利申请No. PCT/US2009/XXXXXX (代理人案卷号 65848W0002) "Internally Patterned Multilayer Optical Films With Multiple Birefringent Layers”(具有多个双折射层的内部图案化的多层光学膜)中有更详细的说明，所述专利申请以引用方式并入本文。在图5A中，选择的第一聚合物材料具有相对较低的折射率，并且选择的第二聚合物材料具有较高的折射率并且具有正应力-光学系数。材料按照交替的层布置方式以合适数量的层共挤出，以形成多层浇铸料片，其折射率用菱形符号表示。然后在合适的条件下沿 X轴单轴拉伸浇铸料片，以在第二聚合物材料中引起双折射，同时第一聚合物材料保持为各向同性的材料。折射率值MX进一步增加，以与η χ形成大的折射率差Δηχ。折射率值n2y 和nh降低，以分别与nly和nlz形成小的折射率差Any和Anz0例如，数值Any和Δηζ 可以为零。当以层数足够的微层层组实现时，该组折射率可提供反射型偏振器，其中χ轴为阻光轴且y轴为透光轴。反射型偏振器可以为宽谱带或窄谱带的偏振器，这取决于微层的层厚分布。然后可将反射型偏振膜在第二区域中进行内部图案化，如上所述，同时使反射型偏振膜在第一区域中为未受影响的膜。借助向第二区域选择性递送辐射能量的选择性加热引起双折射层弛豫至其初始的各向同性状态、或弛豫至中间双折射状态(如果解除取向不完全)。如果弛豫为完全弛豫，则第二区域可变为Δηχ Any^ Δηζ的类反射镜膜(如果微层层组具有足够的层数)。成品膜因而将一个区域中的反射型偏振器和相邻区域中的类反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5Α， 选择性加热处理工序能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜，即偏振器一反射镜。可通过多种方法来制备与图5A中相类似的图案化的多层光学膜。可(例如)使用描述于美国专利申请公开US 2004/0227994 (Ma等人)或美国专利6，949，212 (Merrill 等人)中的拉伸方法来制备具有基本上真正单轴特性的反射型偏振器膜。例如，可通过共挤出法制备包含PEN以及festar 共聚酯(所谓的“PETG”)(得自festman ChemicaKKingsport, TN))的膜。可根据下文用于浇铸料片2和3的实例中所述的方法， 在共挤出期间将包含选定吸收染料的母料引入到树脂流的一者中，以制备进行本文所述的激光加热方法的膜。作为另外一种选择，图5A中的第一材料的各向同性折射率可低于图5A 中处于拉伸(取向)状态下的第二材料的n2y和Mz折射率。例如，coPET (参见(如)上述引用的‘994(Ma等人)参考文献中的段落0076)、或其他较低折射率的非取向(各向同性)材料(例如PMMA或coPMMA)可取代上文所述的低折射率festar 材料。这些情况下的结果为在处理过的区域中获得更强的反射镜特性并且在未处理过的区域中获得所谓的部分偏振器(具有透射性降低且反射性增加的透过态，参见下文的部分偏振器的论述)特性。在图5B中，第一和第二聚合物材料也被选择为具有基本上不同的折射率，且第一材料与第二材料相比具有较低的折射率。然而此处，第一聚合物材料具有正应力-光学系数。材料按照交替的层布置方式以合适数量的层共挤出，以形成多层浇铸料片，其折射率用菱形符号表示。然后在合适条件下利用受约束的单轴拉伸(沿X轴拉伸，沿y轴受约束) 来取向浇铸料片，以在第一聚合物材料中引起双折射，同时第二聚合物材料保持为各向同性的。受约束的单轴拉伸使得折射率nix增加至基本上匹配折射率n2x，同时折射率nlz显著下降并且nly可具有极少变化或不具有变化(在图5B中示为略微下降)。这产生非常小的折射率差Δηχ、较大的折射率差Any、和甚至更大的折射率差Anz (与Any具有相同的极性或符号)。当以层数足够的微层层组实现时，该组折射率可提供具有沿χ方向的透光轴和沿y方向的阻光轴的反射型偏振器膜。膜(对于阻挡偏振态的光)所提供的反射可为宽谱带或窄谱带，这取决于微层的层厚度分布。对于倾斜入射光，微层界面对P偏振光的反射率将随入射角的增大(直至达到布鲁斯特角)而减小，并且随后随着入射角变得大于布鲁斯特角将增大。然后可将此反射型偏振器膜在第二区域中进行内部图案化，如上所述，同时使偏振器膜在第一区域中为未受影响的。借助向第二区域选择性递送辐射能量的选择性加热引起双折射层弛豫至其初始的各向同性状态、或弛豫至中间双折射状态(如果解除取向不完全)。如果弛豫为完全弛豫，则第二区域变为Δηχ Any Δnz兴0的多层类反射镜膜。成品膜因而将一个区域中的多层反射型偏振器膜和相邻区域中的多层反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5B，选择性热处理过程能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜(偏振器一反射镜)。在图5A和5B中的每一个中，光学材料之一在拉伸之后(以及在选择性热处理之后)保持为各向同性的。然而这通常不必如此，并且可使用选择性热处理技术转换成一体反射镜/偏振器膜的多种有趣且可用的多层光学膜设计包括两种不同的光学材料(对于光学重复单元的组成层)，并且这些组成材料层中的两者(并非仅一者)在浇铸料片进行拉伸或者说是取向时变为双折射的。这种多层光学膜本文称为“双重双折射”光学膜，因为这种膜中的光学重复单元各包括至少两个在拉伸之后为双折射的组成微层。当这种双重双折射多层光学膜暴露于选择性热处理时，在处理过的区域中可能存在多种不同的响应，这取决于材料特性和加热条件例如，两个材料层可完全弛豫以变为各向同性的，或者一个材料层可完全弛豫或部分弛豫而另一个材料层保持其双折射，或者两个材料层可弛豫不同的量(如，一个材料层可完全弛豫以变为各向同性的，而另一个材料部分弛豫以便保持其双折射的仅一部分)。在任何情况下，一个或全部两个材料层中的双折射变化都导致光学膜的第二(已处理)区域中的反射特性，其显著不同于膜的第一(未处理)区域中的反射特性。双重双折射多层光学膜的其他细节以及用于内部图案化它们的选择性加热技术提供于下述共同转让的国际专利申请中，所述国际专利申请与本专利申请同日提交并且以引用方式并入本文中PCT/US2009/XXXXXX(代理人案卷号 65848W0002) "Internally Patterned Multilayer Optical Films With Multiple Birefringent Layers”(具有多个双折射层的内部图案化的多层光学薄)；以及国际专利申请No.PCT/US2009/XXXXXX(代理人案卷号 65849W0002) "Multilayer Optical Films Having Side-by-Side Polarizer/Polarizer Zones"(具有并置的偏振器/偏振器区域的多层光学膜)。适于通过选择性热处理进行内部图案化以提供一体反射镜/偏振器膜的双重双折射多层光学膜的一些实例示于本专利申请的图5C-G中。5C-G的实施例也利用了美国专利6，179，948 (Merrill等人)中描述的两步拉延工艺。在此方法中，利用两步拉延工艺来进行浇铸膜的拉伸或取向，该两步拉延工艺被精心地控制，以使得一组层(例如，各光学重复单元的第一材料层)在两个拉延步骤中均基本上取向，而另一组层(例如，各光学重复单元的第二材料层)仅在一个拉延步骤中基本上取向。 结果是得到多层光学膜，其一组材料层在拉延之后基本上双轴取向，而另一组材料层在拉延之后基本上单轴取向。针对两个处理拉延步骤使用一种或多种具有适当差异的工艺条件 (例如，温度、应变率和应变程度)来促使两种材料的不同粘弹性和结晶特性发生改变，由此实现所述差别。因此，例如，第一拉延步骤可基本上使第一材料沿着第一方向取向，而至多使第二材料仅略微沿此方向取向。在第一拉延步骤之后，适当改变一种或多种工艺条件， 使得在第二拉延步骤中，第一和第二材料均基本上沿第二方向取向。通过此方法，第一材料层可呈现基本双轴取向的特性(例如，折射率可满足关系nix ^ nly Φ nlz，有时称作单轴双折射材料)，而完全相同的多层膜中的第二材料层可呈现基本上单轴取向的特性(例如， 折射率可满足关系η2χ Φ n2y Φ η2ζ Φ η2χ，有时称作双轴双折射材料)。在此背景技术下，图5C示出了下述实施例，其中选择的第一和第二聚合物材料具有相同或相似的各向同性折射率，且在拉延之后均变为双折射的，并且具有相同极性的应力-光学系数(在附图中它们均示出为正的，但它们可相反均为负的)。第一和第二材料具有不同的熔融或软化温度，并且具有不同的粘弹性和/或结晶特性，使得可实施上述的两步拉延工艺。材料按照交替的层布置方式以合适数量的层共挤出，以形成多层浇铸料片，其折射率用菱形符号表示。然后，利用上述两步工艺将浇铸料片沿X轴和y轴双轴拉伸，使得第一材料沿χ轴和y轴同等地取向，而第二材料优先沿y轴取向，沿χ轴较小地取向(包括在一些情况下无取向)。最终结果是得到多层光学膜，其第一和第二微层均为双折射的，但是第一材料层具有基本上双轴取向的特性，而第二材料层具有不对称的双轴取向特性，或者甚至基本上单轴取向特性。如图所示，材料和工艺条件被选择为使得拉伸导致折射率值nix和nly增加类同的量，同时使nlz减小较大的量。拉伸还导致折射率值n2y增加至等于或接近于nix和nly的值，并导致折射率^z减小，并且使折射率Mx保持大致相同(如果第二材料在χ轴取向步骤期间较小程度地取向，则nh可如图所示略微增加)。这造成两个材料层的折射率具有一个大的面内折射率失配(Δηχ)、一个小得多的面内折射率失配 (Any 0)、以及与Δηχ极性相反的中间面外折射率失配(Δηζ)。当第二材料更大程度地双轴取向时，可通过与各向同性折射率高于第二材料的第一材料配对来实现处理之后χ方向上的折射率匹配。当以层数足够的微层层组实现时，该组折射率可提供具有沿χ方向的阻光轴和沿y方向的透光轴的反射型偏振器膜。膜(对平行于阻光轴偏振的光)提供的反射可为宽谱带或窄谱带，这取决于微层的层厚度分布。此反射型偏振器膜随入射角的增大而保持高反射率，原因在于相反极性的ζ折射率失配。然后，可如上所述在第二区域中对该多层反射型偏振器膜进行内部图案化，同时使反射型偏振器膜在第一区域中不受影响。选择性地将辐射能递送至第二区域的选择性加热导致至少一些双折射层弛豫，成为较弱的双折射。在这种情况下，将加热谨慎地控制为下述温度其高于第二材料层的熔融或软化点，但低于第一材料层的熔融或软化点。以此方式，选择性加热使得第二区域中的第二双折射层弛豫至其初始的各向同性状态，或者如果解除取向不完全则弛豫至中间双折射状态，同时使得第二区域中的第一双折射层基本上保持其双折射。如果第二材料的弛豫为完全的，则第二区域的特征成为相对较大的面内折射率失配(Δηχ和Any)、大的面外折射率差异(Δ nz)，所述面外折射率差异与Δηχ和Any 相比具有相反的极性或符号。当以层数足够的微层层组实现时，这些折射率关系可在第二区域中提供多层反射镜膜。反射镜膜提供随入射角的增大而增大的反射率，原因在于ζ折射率失配Δηζ的相反极性。成品膜因而将一个区域中的多层反射型偏振器膜和相邻区域中的多层反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5C，选择性加热处理工序能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜(偏振器一反射镜)。图5D示出了图5C的替代实施例，其中可使用与图5C中相同的第一聚合物材料， 但使用略微不同的第二聚合物材料。具体地讲，图5D的第二材料在浇铸料片、拉延膜、和热处理过的膜中的折射率均稍低于图5C中的第二材料在相应浇铸、拉延、和热处理状态下的折射率。第二材料的折射率的这种偏移在拉延(拉伸)膜中产生较大值的Δηχ和Any、以及较小值的Δηζ，但Δηχ仍显著大于Any。如果以层数足够的微层层组实现这些折射率关系，则可得到不对称的反射膜，其在本文中称作部分偏振器。这样的膜对一种偏振的法向入射光具备高反射率，而对相反偏振的法向入射光具备小很多(却仍可观)的反射率。这样的偏振膜特别可用于例如某些高效率、低损耗显示器应用、以及光循环利用和空间均勻化系统、以及其他应用中。可参阅PCT公布WO 2008/144656 (Weber等人)“Backlight and Display System Using Same”(背光源和使用其的显示系统)以获得此类膜(在该公布中称作非对称反射膜(ARF))及此类膜的应用的更多公开内容。在图5D中，该偏振器膜的阻光轴平行于χ轴，透光轴(可表现出适度量的同轴反射率)平行于y轴。在第二区域中内部图案化图5D的多层膜是按照与图5C中相同的方式来进行的， 即，谨慎地控制向第二区域的辐射能的选择性递送，以将微层加热至下述温度其高于第二材料层的熔融或软化点，但低于第一材料层的熔融或软化点。选择性加热因而又使得第二区域中的第二双折射层弛豫至其初始的各向同性状态，或者如果解除取向不完全则弛豫至中间双折射状态，同时使得第二区域中的第一双折射层基本上保持其双折射。如果第二材料的弛豫为完全的，则第二区域的特征成为相对较大的面内折射率失配(Δηχ和Any)以及显著的面外折射率差异(Δnz)，所述面外折射率差异与Δηχ和Any相比具有相反的极性或符号。当以层数足够的微层层组实现时，这些折射率关系可在第二区域中提供多层反射镜膜。反射镜膜提供随入射角的增大而增大的反射率，原因在于ζ折射率失配Δηζ的相反极性。成品膜因而将一个区域中的多层反射型偏振器膜和相邻区域中的多层反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5D，选择性热处理工序能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜(偏振器一反射镜)。图5Ε示出了与图5D极为类似的实施例。例如，使用相同的两步取向工艺来提供具有基本上双轴取向特性的第一材料层和具有基本上单轴取向特性的第二材料层。用于图 5Ε中的第一和第二聚合物材料可与图5D中的那些材料接近相同，例如它们可与图5D中的材料具有相同的折射率和相同的应力-光学系数。因此，在拉伸工序之后，再次形成具有相对较大值的Δηχ、较小但显著值的Any、以及甚至更小值的Δηζ的多层光学膜。如果使用足够数量的层，则微层膜或层组可为不对称的反射膜，其在本文中称为部分偏振器，如下文所述。该偏振器膜的阻光轴也平行于χ轴，并且透光轴(可表现出适度量的同轴反射率) 也平行于y轴。用于图5E中的材料在一个显著方面不同于图5D中的材料图5E中的第一和第二材料的相对熔融或软化温度与图5D中的第一和第二材料相比为互换的。因此，在图5E 中，第一材料的熔融或软化温度低于第二材料的相应温度。材料特性的这种变化允许将用于内部图案化操作(在多层光学膜的第二区域中)中的选择性加热谨慎地控制为下述温度其高于第一材料层的熔融或软化点，但低于第二材料层的熔融或软化点。因此，在这种情况下，选择性加热使得第二区域中的第一双折射层弛豫至其初始的各向同性状态，或者如果解除取向不完全则弛豫至中间双折射状态，同时使得第二区域中的第二双折射层基本上保持其双折射。如果第一材料的弛豫为完全的，则第二区域的特征成为适度的面内折射率失配(Δηχ和Any)以及较小的面外折射率差异(Δηζ)。应当注意，面内失配Δηχ和 Any具有相近的大小但具有相反的极性。尽管对于膜的第一(未处理过的)区域中的偏振器膜，面内失配小于阻光轴失配，然而如果微层层组或膜具有足够数量的微层，它们可能够在第二区域中提供显著的多层反射镜膜。成品膜因而将一个区域中的多层反射型偏振器膜和相邻区域中的多层反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5E，选择性加热处理工序能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜 (偏振器一反射镜)。多层反射镜膜具有独特的光学特性，其特征在于图5E中的第二(处理过的)区域，其中面内失配Δηχ和Any具有类似的大小(包括相同或基本上相同的大小)但具有相反的符号，并且面外失配Δηζ为非零的且仅与面内失配之一具有相同的极性。这种反射镜膜可根据需要而对于叠堆的反射谱带中的所有偏振态的法向入射光具有高或低的反射率(取决于用于叠堆中的层数)。然而，对于倾斜入射光，反射镜根据光的入射平面而表现极为不同。对于在具有相同极性的面内失配和面外失配的平面(对于图5Ε中的反射镜膜， 这将为x-z平面)入射的光，光的s偏振分量的反射率随入射角的增大而增大，但光的ρ偏振分量的反射率随入射角的增大而减小。事实上，这种P偏振的反射率在布鲁斯特角下降至零值(假设从空气(或从其中浸渍多层光学膜的其他介质)入射到膜上的光能够接近布鲁斯特角)，并且随后对于甚至较高的入射角度而快速增大。对于在具有相反极性的面内失配和面外失配的平面(对于图5E中的反射镜膜，这将为y-z平面)入射的光，光的s偏振分量的反射率随入射角的增大而增大，但光的P偏振分量的反射率也随入射角的增大而增大。对于不同入射方向的倾斜角度的P偏振光的极为不同的反射率、以及法向和近法向入射光的所有偏振态的均一或对称反射率可有利地用于多种系统和应用中。图5F示出了另一组可用于制备一体的反射镜/偏振器多层膜的材料特性。此实施例也非常类似于图5D中的实施例，但方式不同于图5E。在图5F中，第一材料的熔融或软化温度高于第二材料的相应温度，正如图5D。此外，当将材料进行共挤出并淬火以形成浇铸料片时，第一和第二材料可具有与图5D中相同的各向同性折射率。此外，第一和第二材料具有不同的粘弹性和/或结晶特性，以使得上文论述的两步拉延工序可再次进行，正如图5D，由此第一材料层具有基本上双轴取向的特性，并且第二材料层具有更多单轴取向的特性。用于图5F中的材料在一个显著方面不同于图5D中的材料图5F中的第二材料具有负应力-光学系数而非正应力-光学系数。(更一般地讲，图5F中的第二材料的应力-光学系数与第一材料的应力-光学系数具有相反的极性。)这种差异在取向多层光学膜中产生相应的差异。因此，在图5F中，当取向之后，拉延多层膜的特征为大的面内折射率失配 Any、以及较小但显著的折射率失配Any和Δηζ。如果使用足够数量的层，则微层膜或层组可为不对称的反射膜，其在本文中称为部分偏振器，如下文所述。与图5D不同，图5F偏振器膜的阻光轴又平行于y轴，且透光轴(可表现出适度量的同轴反射率)平行于χ轴。在第二区域中内部图案化图5F中的多层膜是按照与图5D中相同的方式来进行的，即，谨慎地控制向第二区域的辐射能的选择性递送以将微层加热至下述温度其高于第二材料层的熔融或软化点，但低于第一材料层的熔融或软化点。选择性加热因而又使得第二区域中的第二双折射层弛豫至其初始的各向同性状态，或者如果解除取向不完全则弛豫至中间双折射状态，同时使得第二区域中的第一双折射层基本上保持其双折射。如果第二材料的弛豫为完全的，则第二区域的特征为相对较大的面内折射率失配(Δηχ和Any)以及显著的面外折射率差异(Δηζ)，所述面外折射率差异与Δηχ和Any相比具有相反的极性或符号。当以层数足够的微层层组实现时，这些折射率关系可在第二区域中提供多层反射镜膜。反射镜膜提供随入射角的增大而增大的反射率，原因在于ζ折射率失配Δηζ的相反极性。成品膜因而将一个区域中的多层反射型偏振器膜和相邻区域中的多层反射镜膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5F，选择性加热处理工序能够将多层反射型偏振器膜改变为多层反射镜膜(偏振器一反射镜)。图5G示出了另一组可用于制备一体的反射镜/偏振器多层膜的材料特性。在这种情况下，未处理过的膜为类反射镜多层膜，并且处理过的膜为偏振器膜。第一和第二聚合物材料被选择为具有类似的各向同性折射率，但第二材料的折射率稍低于第一材料的折射率。两种材料在拉延之后均变为双折射的，并且两种材料具有相同极性的应力-光学系数 (图中它们均被示出为正的，但是它们也可相反均为负的)。第一和第二材料具有不同的熔融或软化温度，并且具有不同的粘弹性和/或结晶特性，使得可进行两步拉延工艺。材料按照交替的层布置方式以合适数量的层共挤出，以形成多层浇铸料片，其折射率用菱形符号表示。然后利用两步工艺沿X轴和1轴双轴拉伸浇铸料片，使得第一材料沿X轴和1轴均同等地被取向，而第二材料优先地沿y轴被取向，且沿X轴具有少量的取向。最终结果是得到多层光学膜，其第一和第二微层均为双折射的，但是第一材料层具有基本上双轴取向的特性，而第二材料层具有基本上更多单轴取向的特性。材料和工艺条件被选择为使得拉伸导致折射率值nix和nly增加类同的量，同时使nlz减小较大的量。拉伸也使得折射率值 n2y增至高于nly的值，使得Mx增至低于nix的值，并且使得n2z降至接近nlz的值。这导致两种材料层的折射率的特征为两个显著的面内折射率失配(Δηχ和Any，它们具有相反的极性或符号)、以及较小的面外折射率失配(Δηζ)(与Any具有相同的极性)。当以层数足够的微层层组实现时，该组折射率可提供反射镜膜。通过此膜提供的反射可以为宽谱带或窄谱带的，这取决于微层的层厚分布。此反射镜膜对于在x-z平面入射的倾斜光随入射角的增大而保持高反射率，原因在于Δηζ相对Δηχ为相反极性的。在正交y-ζ入射平面的P偏振光的反射率可随入射角的增大而缓慢降低，原因在于Δηζ小但与Any具有相同的极性。在第二区域中内部图案化图5G的多层膜是按照与图5E中相同的方式来进行的，即，谨慎地控制向第二区域的辐射能的选择性递送以将微层加热至下述温度其高于第一材料层的熔融或软化点，但低于第二材料层的熔融或软化点。选择性加热因而使得第二区域中的第一双折射层弛豫至其初始的各向同性状态，或者如果解除取向不完全则弛豫弛至中间双折射状态，同时使得第二区域中的第二双折射层基本上保持其双折射。如果第一材料的弛豫为完全的，则第二区域的特征为一个相对较大的面内折射率失配 (Any)、一个小的或零值的面内折射率失配(Δηχ)、以及显著的面外折射率差异(Δηζ)， 所述面外折射率差异相比Any具有相反的极性或符号。当以层数足够的微层层组实现时， 这些折射率关系可在第二区域中提供多层偏振器膜，其透光轴平行于χ轴，并且其阻光轴平行于y轴。偏振器膜提供随入射角的增大而增大的反射率，原因在于Δηζ相比Any具有相反极性。成品膜因而将一个区域中的多层反射镜膜和相邻区域中的多层反射型偏振器膜结合在一体膜中，其中微层从一个区域连续地延伸到下一个区域。对于此图5G，选择性加热处理工序能够将多层反射镜膜改变为多层反射型偏振器膜(反射镜一偏振器)。上文讨论的情形仅涉及可用于生产一体的反射镜/偏振器多层光学膜的多个可能的材料特性和加工参数组合中的一些，而不应被认为是限制性的。注意，不仅可以使用正双折射材料，而且可以使用负双折射材料以及它们的组合。另外应当注意，在其中使用双折射和各向同性聚合物的组合的情况下，双折射聚合物可具有预拉伸的各向同性折射率，该折射率小于、大于、或等于各向同性聚合物的折射率。尽管上述情形(结合图5A-G)可通过利用激光或类似的辐射源在第二区域中选择性地热处理来实现，而对第二区域仅有很小或没有施加力或压力(参见(如)下面结合图6、图7A-C和图8A-B的讨论)，并且因此在膜的第一和第二区域之间仅有很小或没有厚度差异，但是读者也应理解，可使用其他技术，所述其他技术确实涉及对第二区域选择性地施加力或压力，并且确实产生第一和第二区域之间的显著的厚度差异。例如，在热工具压印方法中，可对膜的第二区域选择性地施加热以引起上述折射率关系，同时还对相同的第二区施加压力。在这种方法中，第二区域中的微层的部分相对于第一区域中的部分变薄，导致除了上述反射特性的变化之外，第二区域的光谱也移向较短波长。在图6中，示出了可用于选择性加热多层光学膜的第二区域以形成本文公开的内部图案化膜的一个设置方案600。简而言之，提供的多层光学膜610包括至少一个微层层组，该微层层组遍及整个膜延伸或者至少从第一区域延伸至其第二区域。所述微层在膜的内部，并为膜提供第一反射特性。高辐射光源620提供合适波长、强度和光束尺寸的定向光束622，以通过吸收将一些入射光转化为热，从而选择性加热膜的被照射部分624。优选地， 膜的吸收足够大以通过适当功率的光源来提供足够的加热，但不能过高以免在膜的初始表面上吸收过量的光，从而导致表面损坏。这将在下面进一步讨论。在一些情况下，理想的是使光源成倾斜角度θ取向，如倾斜设置的光源620a、定向光束62 和被照射部分62 所示。如果多层光学膜610包含这样的微层层组，该微层层组在法向入射下的反射谱带使得基本上反射定向光束622从而阻碍所需量的吸收和伴随的加热，则这样的倾斜照明可能是理想的。因此，利用反射谱带随着入射角的增大而向较短波长偏移的优点，可以倾斜角度θ 递送定向光束62 ，从而避免所述(此时被偏移的)反射谱带以允许所需的吸收和加热。在一些情况下，定向光束622或62 可按照使得被照射部分6 或62 具有成品的第二区域的所需形状的方式成形。在其他情况下，定向光束可具有尺寸比所需的第二区域小的形状。在后一种情况下，可使用光束转向设备来在多层光学膜的表面上扫描定向光束，以勾勒出待处理区域的所需形状。还可利用装置对定向光束进行空间和时间调制，所述装置例如分束器、透镜阵列、泡克耳斯盒(pockels cell)、声光调制器以及本领域普通技术人员已知的其他技术和装置。图7A-C提供图案化的多层膜的不同的第二区域的示意性俯视图，其上叠加有定向光束相对于能够形成所描绘区域的膜的可能路径。在图7A中，光束被引导到多层光学膜 710并以控制的速度沿路径716从起始点716a到结束点716b扫描，以在任意形状的区域 714中选择性加热膜，以将其与第一区域712相区分。图7B和7C为类似的。在图7B中，光束被引导到多层光学膜720并以控制的速度沿路径7 从起始点726a扫描，以在矩形形状的区域724中选择性加热膜，以将其与相邻的第一区域722相区分。在图7C中，光束被引导到多层光学膜730并以控制的速度沿不连续的路径736-742等扫描，以在矩形形状的区域734中选择性加热膜，以将其与相邻的第一区域732相区分。在图7A-C的每一个中，所述加热足以减小或消除第二区域中的至少一些内部微层的双折射，同时保持第一区域中的这些层的双折射，并且所述加热在保持第二区域中的微层的结构完整性的同时进行，并且不对第二区域选择性地施加任何压力。定向光束还可被调制以生成虚线状、点状、或以其他方式断开或不连续的路径。所述调制可以是完全的，其中光束强度从100%即“全开”变化为0%即“全关”。或者，也可以是部分的调制。此外，所述调制可包括光束强度的急剧(如，逐步)变化，并且/或者其可包括光束强度的较缓变化。图8A和图8B针对这样的主题多层光学膜的吸收如何能够或应该被调控成可提供最佳的局部加热。图8A和图8B的曲线图以相同的水平标度绘制，该水平标度表示当辐射光束穿过膜传播时其深度或位置。深度0%对应于膜的前表面，深度100%对应于膜的后表面。图8A沿垂直轴标绘出辐射光束的相对强度1/%。图8B标绘出膜内的各深度处的局部吸收系数(在辐射光束的选定波长或波长谱带下)。各图中针对三个不同的多层光学膜实施例标绘出三条曲线。在第一实施例中，在定向光束的波长下，膜在其整个厚度上具有基本上均勻且低的吸收。此实施例在图8A中被绘制为曲线810，在图8B中被绘制为曲线820。在第二实施例中，膜在其整个厚度上具有基本上均勻且高的吸收。此实施例在图8A中被绘制为曲线812，在图8B中被绘制为曲线822。 在第三实施例中，膜在其厚度的整个区域81 和815c中具有相对低的吸收，但是在其厚度的区域81 中具有较高的中间吸收。第一实施例的吸收系数对许多情况而言过低。尽管如曲线810的恒定斜率所指示的，该定向光束取决于深度被均勻地吸收(这在一些情况下可能是可取的)，但是在100% 的深度下如曲线810的较高值所示，实际上非常少的光被吸收，这意味着百分比很高的定向光束被浪费。然而，在一些情况下，该第一实施例在一些膜的处理方面或许仍十分有用。 第二实施例的吸收系数对许多情况而言过高。尽管基本上所有的定向光束被吸收，没有浪费，但是高吸收导致在膜的前表面处吸收过多的光，这可能造成膜的表面损伤。如果吸收过高，则无法在不损坏膜前表面处或附近的层的情况下将足量的热传递到所关注内部层。第三实施例利用了不均勻的吸收分布，这可通过例如将吸收剂掺入膜的选定内部层来实现。 吸收率水平(由局部吸收系数控制)被有利地设定为中等水平，以使得在膜的被调控的吸收区域81 中吸收定向光束的足够部分，但是吸收率不能过高以免相比于相对端，过多热量被递送至区域81 的入射端。在许多情况下，吸收区域81 中的吸收率仍合理地弱，例如，与其他区域(例如，81 和815c)相比，该区域上的相对强度分布814看起来更像仅为具有较陡斜率的直线。如稍后进一步描述的，吸收是否足够取决于将该吸收率相对于功率取得平衡以及实现所需效果需要的入射定向光束的持续时间。在第三实施例的基本例中，多层膜的构造可为两个厚表层与介于其间的一个或多个微层层组(如果包括两个或更多个微层层组，则通过保护性边界层分隔开)，并且膜可仅由两种聚合物材料A和B构成。吸收剂被掺入到聚合物材料A中，以使其吸收率增加至适度水平，但是聚合物B中未掺入吸收剂。在微层层组的交替层中材料A和B均被设置，但是表层和保护性边界层(如果存在的话)仅由聚合物B构成。这样的构造将由于使用了弱吸收材料B而在膜的外表面(即，表层)处具有低吸收率，并且在光学厚的PBL(如果它们存在的话)处也将具有低吸收率。由于在交替的微层(除了较弱吸收材料B的交替微层之外)中使用了较强吸收材料A，所述构造将在微层层组中具有较高的吸收率。这样的构造可用于优先将热递送至膜的内部层，特别是内部微层层组，而不是递送至外表面层。注意， 利用适当设计的送料区块，多层光学膜可包括三种或更多种不同类型的聚合物材料(A、B、 C、…)，并且吸收剂可被掺入到一种、一些、或所有材料中，以便提供许多不同的吸收分布， 以将热递送至膜的选定内部层、层组、或区域。在其他情况下，可能有用的是在PBL中、或者甚至在表层中(如果存在的话)包括吸收剂。在任一种情况下，添加量或浓度可相同或不同，可比微层中更高或更低。与上述实施例中的那些吸收分布类似的吸收分布，可利用多层光学膜中使用的各种天然材料的固有吸收特性来获得。因此，多层膜构造可在膜的各种不同的层或层组中包括具有不同吸收特性的不同材料，并且那些不同层或层组可已经在膜形成(例如，通过共挤出)期间一起形成，或者可作为单独的前体膜形成，这些前体膜稍后通过(如)层合结合
在一起。现在重申和修饰上述教导内容和公开内容的某些方面。除了别的以外，上述公开内容可认为是对“可写”多层光学膜的描述，所述多层光学膜可在其初始制造之后通过非接触辐射装置来改变。多层光学膜(MOF)可包括至少两种材料的交替层以及这些层的至少一个光学层组，所述层组被调整以在第一选定入射角下反射光谱的选定部分(例如，可见谱带)，所述多层光学膜另外可选地包括分散在选定光学层组的任一层或两个层中的吸收剂(为便于当前讨论可称作第三材料)，所述吸收剂优先吸收在第二选定入射角下不被MOF反射谱带大部分反射、也不被MOF的其他材料实质上吸收的电磁辐射。还公开了一种方法，其利用特定光谱带的定向辐射能处理来选择性地将包含吸收材料的光学层组的至少一种双折射材料熔融并部分或全部解除取向，以减小或消除这些层中的双折射。对整个膜平面上的选定空间位置施加所述处理。还公开了一种具有处理后被空间调控光学变型的成品光学膜本身。本发明所公开的膜可用于业务流程，其中原始均勻浇铸和拉延的光学体被空间调控以符合给定应用的独特要求。特别关注的一个方面是通过后续用脉冲红外激光源或其他合适的高辐射光源进行处理，选择性地移除选定内部光学层的双折射，同时保留其他内部或表面层相对未改变， 从而对包含例如近红外吸收染料或其他吸收剂的多层光学膜进行受控的空间图案化。本文所公开的膜(选择性热处理之前以及选择性热处理之后)可称作STOF-被空间调控光学膜，其中在所述膜的一个或多个区域中，其内部微层中的至少一些的双折射可被减小，以提供不同于初始或第一反射特性的第二反射特性。所述膜、方法和业务流程可被广泛用于需要空间受控级取向的任何应用。感兴趣的领域可包括例如显示器、装饰性产品、和安全应用。一些应用可在多个领域上跨界。例如， 一些制品可采用本文所公开的内部图案化膜与例如包括标记形式的常规图案的膜、基底或其他层的组合。所得制品可用于安全应用，但是其形式也可被视为装饰性产品。选择性热处理这样的制品可在内部图案化膜中产生这样的区域，所述区域根据内部图案化膜的设计而选择性地遮挡(通过增大反射率)或显露(通过减小反射率)另一膜的常规图案的部分。 本发明所公开的内部图案化膜的色移特性还可结合彩色或黑白色背景标记来开发，如(例如)美国专利 6，045，894(Jonza 等人)“Clear to Colored Security Film”(透明至彩色安全膜)和美国专利6，531，230 (Weber等人)"Color Shifting Film”(色移膜)中所公开的。此外在安全应用方面，本发明所公开的膜可用在多种安全构造物中，包括身份证、 司机驾照、护照、出入控制通行证、金融交易卡(信用、借记、预付费、或其他)、品牌保护或识别标签、等等。所述膜可作为内部层或外部层层合或以其他方式附着到安全构造物的其他层或部分。当所述膜作为贴片包括时，其可仅覆盖卡、页或标签的主表面的一部分。在一些情况下，可将所述膜用作安全构造物的基底或仅有构成部分。所述膜可作为许多特征物之一包括在安全构造物中，所述特征物例如全息图、印刷图像(凹版印刷、胶版印刷、条形码等)、逆向反射部件、紫外或红外激活图像等等。在一些情况下，本发明所公开的膜可结合这些其他安全特征物一起层叠。所述膜可用于为安全构造物提供个性化特征物，例如签名、 图像、个人密码数字等。在例如制造标签、批次验证标签、防伪码等的情况下，个性化特征物可与个人文件持有者或特定产品实体相关。个性化特征物可由多种扫描图案形成，包括线和点的图案。根据膜构造，可写层组中的图案可相同或不同。例如，应当考虑到下述情况，其中第一可写层组初始具有可察觉颜色，但随后经处理或图案化变为透明的。可使用一个或多个这种着色层组。应当考虑，加入第二多层光学膜组，以形成有待包括在安全构造中的膜构造。图案化或写入第一层组将在第二层组的背景颜色中产生设计或图像，从而表示所结合的两个层组的颜色特性。当光谱带足够窄时，前景 (图案化区域)和背景均可随视角产生色移。察觉颜色随背景(如白色背景或黑色背景) 进行变化，以满足透射或反射光的观察，这可用作安全特征。例如，可翻转证件(例如护照) 中的膜面或页，以便在该证件的不同背景或部分下来观察该膜。所述膜可给安全构造物提供显现的(例如，对普通观察者清晰可见)和隐藏的安全特征物。例如，可写的(彩色)反射式偏振器层可提供可用检偏器观察的隐藏特征，例如根据检偏器的偏振态而变色或消失的特征。红外反射层组可被图案化，以形成红外可检测 (例如，机器可读)的个性化编码特征。在这方面，本发明所公开的一体的反射镜/偏振器多层光学膜中的任一种也可用于这些安全应用中的任何一个。多层光学膜可包括由光学干涉层的至少一个选定层组(其可包含辐射吸收材料) 形成的对至少一种线偏振态的至少一个选定反射谱带。图案化方法允许移除或减小选定的一组材料层中的双折射，从而改变在选定谱带上光学叠堆的干涉特性。这样，所述膜可被空间调控以用于所需应用，例如像素化显示器。因此，光学膜可被制成空间变化滤色器，或者可被制成在透射、反射镜和/或反射型偏振器之间变化，或者在滤色以及这些反射态或者这些态的强度或性能的组合中变化(如，从强反射镜到弱反射镜、或者从偏振器或部分偏振器到反射镜)。一项有效的应用或许是液晶显示(LCD)装置中所使用的滤色器。另一项应用或许是使用本发明所公开的材料和技术在膜和类似的光学体内部创建或“刻写”结构， 其目的在波长选择性透射或反射之外。本文所述的材料和光学特性的空间调控可用于在膜内部实现光导结构，例如使光导结构穿过膜并断续地拉延至表面。使用更大的激光脉宽、减小的数值孔径、和潜在的更大刻写速度所带来的附加工艺优点，各向异性和选择性吸收材料与激光刻写处理的组合可产生具有高度功能化的光学结构。尤其可用的一类构造物为聚合物光学体，其包括两组或更多组光学功能层，每一组具有类似的功能(如，光学转换，无论其是反射还是透射)，但其中每一特定组用于对光谱带的特定部分起作用。至少一组可包含辐射吸收剂，而至少另一组不包含辐射吸收剂。在一些情况下，不止一组可包含辐射吸收剂。例如，多层光学膜可包括两个或多个光学干涉层组。这些层组(光学功能层的组)可包括许多由交替材料构成的层。一个光学层组可包含辐射吸收剂，而另一光学层组可不包含辐射吸收剂。可使用多种光学吸收剂。对于在可见光谱下工作的光学膜，可使用紫外和红外吸收染料、颜料或其他添加剂。理想的是选择不会被构造的聚合物极大地吸收的吸收光谱范围。这样，定向辐射可在光学体的整个厚度范围内集中于所关注的选定区域中。可取的是， 吸收剂能够熔融挤出以使其可嵌入所关注的选定层组中。为此，吸收剂应该在挤出所需的加工温度和停留时间的条件下适当稳定。本发明所公开的膜和光学体可在选定的光谱范围下辐射处理，所述光谱范围处于光学体针对所关注的选定应用通常变换的光谱带之外。辐射处理可通过任何种类的装置来实现，所述装置可将选定光谱带的光以足够的强度聚焦于膜的选定位置上。用于辐射处理的特别合适的装置是脉冲激光器。这可以是放大脉冲激光器。在一些情况下，激光器可以是可调谐的。例如，在可见谱带下用来反射的光学膜可具有近红外或近紫外吸收剂(如果聚合物在该近红外或近紫外谱带下不具有特定吸收性)。对于多层光学膜，用于处理的吸收谱带的选择可参照膜的光学谱带来选择。优选地，膜不应反射(入射角针对该定向辐射能选择的)定向辐射能，但是如果反射充分低，则处理仍可进行。来自激光器的辐射能经常基本上是偏振的。将入射光束在外表面处取向成与布鲁斯特角一致的角度来使能量损耗降至最低，是行之有效的。由于MOF反射谱带随着更大的入射角也移向较短波长，可使用比仅仅通过法向入射角下的谱带设置所预期的吸收波长更短的吸收波长。例如一种MOF反射镜膜，其具有双轴取向的表层，该表层的折射率为1. 75 (在 632nm波长下)，对应布鲁斯特角为约60度，锐法向入射右谱带边缘位于约SOOnm处，该MOF 反射镜膜可接收以布鲁斯特角入射的波长约700nm以上的定向光束，从而便于用该波长进行加工，尽管其在法向入射时被反射。右谱带边缘被选择成可部分地确保在所有关注角度下的反射。在880nm处，反射谱带仍覆盖至掠入射下的约700nm。在此谱带位置，谱带最多覆盖至接近此情况下的布鲁斯特角的750nm。或许可取的是，在谱带边缘与定向辐射的波长之间存在一些净空。如果需要光束被定向成通过任何可能的层，则在这种情况下就给定向能量在光学谱带上方设置了约750至SOOnm(真空)的实用下限。或者，可选择将辐射能定向成通过膜的优选侧，以使得膜中的居间波长谱带不会阻挡所关注的特定能量。例如， 532nm的绿光激光器可用于处理蓝光层组，只要其无需在法向入射下穿过绿光反射层组，或者光束可在充分倾斜的角度下穿过绿光反射层组，从而由于谱带移动而不再被该层组反射即可。如果使用近紫外辐射来进行图案化(这同样取决于材料吸收特性)，则具有更长波长的反射谱带的层组的谱带移动可能阻挡该光束。于是，法向入射的定向辐射可相对于膜的固定的左谱带边缘具有最大波长，而倾斜角度处理会由于谱带移动而受到阻碍。对于其谱带移动反射谱带高于光束真空波长的构造物一起使用的其他可见或红外光束，左谱带边缘移动也是有关的。对穿过膜导致的厚度所吸收的辐射能以及穿过厚度所得的热脉冲的管理，是本发明的一个方面。受控的熔融跨越膜厚的选定部分而使所选择层中的材料的双折射减小或消除，其需要对定向辐射的适当低水平的吸收，以确保均勻的效果。无论从时间脉冲还是从受热上考虑，选定层中的材料不应过热，以免导致过度电离或热分解。例如，如果考虑纯热容驱动的情况，从25°C达到所需的300°C的材料升高了 275°C。如果选定层吸收10%的定向辐射，则最靠近定向辐射源的前部需要加热至约330°C，以便于后部加热至所需的300°C。 膜的最热部分与有害温度或电离条件之间应该保持足够的净空。厚度方向温度控制可能对于仅从一种材料选择性地移除双折射而言很重要，例如防止过热。在一些情况下，可能需要预热。从激光能量角度而言，可通过在激光照射之前和期间对膜进行预热来提高处理效率。 膜的预热温度应该高于室温，但是低于用于光学层组的聚合物的熔融温度。通常，当膜在其整个厚度范围被预热时，则由于同等级别的热净空，较大量的定向辐射会被吸收。例如，当在200°C下选定膜区域的后部被加热至300°C (温差为100°C)时，如果光束的约10%的入射能量被吸收，则前部将仅过热至310°C。在此情况下，选定区域可最多吸收约23%的定向辐射，这又使前部加热至高达约330°C (温度升高130°C )，100°C的温升使后部再次达到所要求的300°C。可能需要控制预热的量以防止冷却期间热脉冲的冲蚀而造成选定区域外的实质上熔融。一般而言，预热温度越高，膜厚的其余部分就越接近熔融。这些未选部分会随着热脉冲的散布而变得容易被熔融。定向辐射所导致的最高温度、具有各个层厚度的膜构造的侧面状况、通过膜的预热梯度、以及定向辐射的路径可能需要通盘考虑，以使膜及其工艺得到优化。事实上，热管理更为复杂，因为足够的能量优选地被吸收以将材料温度升高至其熔融范围，而且实际上导致熔融。定向辐射的能量脉冲的管理应该包括时间因素，以确保熔融可事实上发生，并且确保沿着厚度即ζ轴适当控制热波以防止不需要的熔融，例如熔融一个微层层组中的双折射层，而不熔融另一微层层组中的双折射层。具体地讲，可能需要精心控制脉冲的顺序和持续时间。激光源的功率、扫描速度和光束形状(如果使用激光源来进行选择性加热)以及染料加载(或者如果事实上使用任何吸收剂，则另一吸收剂的加载)结合起来提供在绝热条件下对膜的处理区域的有效能量传输。尽管通常情况下热条件实际上不是绝热的，但是通过假设绝热条件，利用膜构造、背景温度的规格以及有关材料的各种热容、熔化热和熔点的知识，可确定所需的转化能量，从而估计近似的激光加工条件。红外吸收剂或其他吸收剂的分散可能是一个重要的考虑因素，包括染料溶解度极限以及溶解力学。对于不溶解的染料和颜料，粒度和形状分布可能是重要的。例如，过大的吸收颗粒可相对于其周围的膜基质过热，从而导致膜缺陷，例如降解、起皱、起泡、层剥离、或其他损坏。膜的清洁也可能是重要的，因为表面以及嵌入的粉尘和类似颗粒物也会造成随机的或预料不到的缺陷。其他考虑因素包括激光源的光束形状和频率(如果使用脉冲光源)、扫描图案、膜的安装(如，通过层合(例如利用粘合剂)或者通过其他手段装到卡片或其他基底上)以及热传递(例如通过膜内的各种导热性以及膜的热传递系数来控制热传递)。管理整个膜平面上吸收的辐射能，对于确保所需的空间特征而言也可能是重要的。光束尺寸和焦点可能也是重要的过程控制。在一些情况下，或许可取的是将膜设置在光束聚焦至其最小尺寸的位置处，而在其他情况下，可将膜有意地设置在光束离焦所需的量的位置处。扫描膜的方式以及在对某个区域的加工期间定向光束路径本身可多么快速地重叠或转向，可改变表面粗糙度、光滑度、雾度、起皱和其他现象。对于以上讨论的膜预热而言，可以这样的方式控制光束，使得膜当前正被照射的部分靠近膜最近已被照射的部分，使得激光器本身提供的热可看作是在预热当前正被照射的那部分膜。这可发生于这样的情况，例如光束沿着第一路径扫描，之后不久(同时膜沿着第一路径和靠近第一路径的部分仍处于高温)沿着与第一路径相邻(甚至在一定程度重叠)的第二路径扫描。与时间相关的方面也会很重要，例如定向辐射的持续时间。我们发现，相对短的脉冲操作常常是有利的。例如，在一些典型的情况下，我们发现加热时间(由激光照射的持续时间确定)优选地在10纳秒至10毫秒范围内。照射持续时间上限随穿过厚度扩散到膜的其他部分的热量而变，其可对给定应用具有宽容度。持续时间越短，能量向关注的所需膜区域中的递送越紧凑；例如，可建立主要包含在所需层组内的瞬时加热脉冲。热扩散的细节随着材料、特定材料取向条件下的各向异性导热性、密度、热容、所关注区域的厚度、光束持续时间等等因素而变。在示例性实施例中，光学层组所吸收的能量的强度和持续时间足以熔融光学层组中的光学重复单元，但是其强度和持续时间不足以蒸发、显著化学改性、或去除膜的组分。为了使激光照射改变第二区域中的层组双折射，高强度(高功率/单位面积)和高能量密度均是可取的，但不是必需的。这些特性有助于通过缩短处理所需时间来确保，在层组中留下通过层组中的材料对定向辐射的吸收而产生的可观的热量。热扩散减小了层组中的能量浓度，因此可能降低所进行过程的效率。就这一点而言，常常可取的是仅少量热消散到层组之外，横向消散到第一(未处理过的)区域中或在(处理过的)第二区域内消散到膜的其他层。在可取的是仅在第二区域中加热膜厚的一部分的那些情况下，消散到吸收层组或第二区域中的层组之外的热越多，处理效率越低。冷却方式也可能需要仔细地考虑。急冷可用在某些情况下。从膜的一侧或两侧冷却可能是可取的。对于最终应用而言，对定向辐射的适当低水平的吸收也可能是重要的。最好是不因环境暴露而造成膜的不当过热。特别是，直接被阳光照射时近红外吸收会造成膜加热。优选地，预计光通量不使膜温度严重升高。例如，在正常使用下最好保持系统的温度低于膜的玻璃化转变温度。能量吸收的量部分地与须从脉冲捕获的能量多少有关，这些能量用以从给定水平的预热达到所需的温度差异。通过平衡通量水平、热扩散(冲蚀)、预热和冷却来实现所需的一致性和处理程度，同时将诸如颜色、灰色度或环境辐射吸收的最终使用问题最小化，系统中所需的吸收可得以优化。在膜的功能层或区域之间包括能量吸收缓冲层或区，可能是有用的。这些缓冲区可被加热并且甚至部分或全部地熔融，同时保护膜的另一功能区免于经由热扩散(冲蚀) 而受热。在一例中，此缓冲区可为层组之间的层(例如，PBL)，具有与光学层中所用的材料类似或不同的材料。在另一例中，较低熔融温度材料可用作较高熔融温度材料的功能层之间的“热减速障碍”。在多层光学膜中，一个简例是PEN:PMMA或PEN:各向同性coPEN反射镜构造，其包括通过较低熔点和取向的coPEN保护性边界层(PBL)分隔开的光学层组，例如所谓的低熔点PEN(LmPEN)，其(例如)可包括90% /10%聚萘二甲酸丁二醇酯/对苯二甲酸羧酸酯亚单元。可使用差示扫描量热仪(DSC)技术来测定和分析聚合物膜中的材料层的熔点和/ 或软化点(如玻璃化转变温度)。在这类技术中，测试前首先将膜样品在例如小于200毫托的真空中在60°C下适当干燥约48小时。然后可称量约5mg的样品，并将其密封在气密的铝制Tzero锅中。然后，可在合适的温度范围(例如，30190°C)内进行加热-冷却-加热倾斜升温。对于倾斜升温，可使用20°C/分钟的恒定的加热速率或其他合适的加热速率。在扫描之后，可针对软化阶跃变化和熔融峰分析第一加热热示踪。所述分析可反映出熔融温度以及与熔融温度相关的特性带宽，该带宽称作半高峰宽(PWHH)。PWHH的有限值反映出这样的事实材料可在有限范围的温度内熔融，而不是在单个精确的温度下熔融。对于那些不同的材料具有彼此接近的(峰)熔融温度的制品，PWHH可变得重要。使用DSC技术来测量适用于多层光学膜的三种示例性材料的熔融温度和PWHH:聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；美国专利申请公布US 2009/0273836 (Yust等人)中的实例7中描述的PEN的聚萘二甲酸丁二醇酯基共聚物，所谓的PEN-CHDM10，本文中称作“ΡΕΝ-Gb”；以及PEN基聚合物，其中20% 的2，6_萘二甲酸二甲酯(NDC)被4，4，联苯二甲酸二甲基酯取代，本文中称作“PENBB20”。 测量这些材料的样品，PEN,PEN-Gb和PENBB20样品呈现出的熔点分别为、对8、和239°C。 还测量了这些样品的PWHH。PEN样品的PWHH为7°C，但是根据聚合物的加工条件，其可在5 至10°C范围内。PEN-(ib样品的PWHH为6°C，但是根据加工条件，其可在5至15°C范围内。PENBB20样品的PWHH为10. 4°C，但是根据加工条件，其可在5至15°C范围内。通常，可通过在低于熔点的合适温度下将膜热定型合适的时间来减小聚合物膜的PWHH。通常，对于定向辐射的任何特定波长谱带，膜沿着厚度方向的剩余部分的吸收能力可被调控为充分低于膜的选定部分对该辐射的吸收能力，以防止这些未选定部分的不期望的过热和不期望的改变。膜挤出工艺可被设计成确保不显著地发生这样的情况膜的选定部分的活性吸收材料从该部分向膜的另一功能部分的迁移。同样，可使用阻挡这样的迁移(例如，通过化学非亲和性)的缓冲层。还可使用的加工方法包括层接触的停留时间等寸。定向辐射处理可紧接着膜制造之后或者甚至在膜制造期间完成，可以在单独成卷时、在成为片材之后或在贴到另一基底(例如，玻璃板或者塑料或纸质卡片纸)上之后进行。应该在精度等级与工艺变化之间作出权衡。例如，对于卷加工就应该充分控制幅材颤动。定向辐射处理可在膜承受张力(或许在夹辊之间)的同时膜在辊上移动时进行。保护膜可设置在膜与辊之间，以连续地清理辊并以其他方式防止诸如刮伤之类的外观缺陷。又如，膜可在成片之后贴附在固定基底上，或者以半连续方式贴附或固定在临时背衬上。例如，膜卷的部分可连续接触保护膜并在板上滑动。膜卷传输可停止，板上的指定部分可根据需要略微张紧，然后对板所支撑的所述指定部分施加定向辐射处理。然后，可通过连续传输将完工的卷部分移出板处理区，通过该连续传输，卷的连续部分可被处理等，直到将整卷处理完。本文所述的内部图案化方法还可与已知技术相结合，例如烧蚀、表面非晶化技术、 聚焦方法、压印、热成形等。可从多种来源获得多种可熔融挤出吸收添加剂。所述添加剂可为有机、无机或混合的。其可为染料、颜料、纳米颗粒等等。一些可能的红外染料包括以商品名Epolight 得自Epolin，Inc.的镍、钯、和钼基染料中的任一者。其他合适的备选染料包括得自 ColorChem International Corp. (Atlanta, Georgia)的 Amaplast 牌染料。线性和非线性吸收添加剂均可考虑。若干因素组合起来可形成一种特别适合于本专利申请的染料。整个挤出过程中的热稳定性是特别可取的。通常，挤出过程最好足够热以熔融并允许熔融流以适当可控制的压降传输。例如，聚酯基体系可能需要最高约^(TC的非常高的稳定性。可利用各种聚合物的共聚物(例如，coPEN)通过例如250°C左右的处理来降低这些要求。类似聚丙烯和聚苯乙烯的烯属体系通常需求较少。特定多层光学膜构造中的树脂的选择可限制可能的备选吸收材料的选择，如染料迁移趋势、在所需材料层中均勻分散的能力、染料对各种材料的化学亲和性等等。SM浇铸料片1、2、和3术语“浇铸料片”是指在后续的拉延和取向之前、但在初始浇铸处理之后的浇铸并形成的多层体。利用萘二甲酸基共聚物来构造第一多层聚合物料片或浇铸料片。第一此类共聚物称为PEN-Gb，并且第二此类共聚物称为coPEN 55/45HD。第一共聚物PEN_(ib在美国专利申请公开US 2009/0273836 (Yust等人)的实例7中有所描述，即所谓的PEN-CHDM10。 根据所引用美国专利申请的表1，PEN-Gb由此为利用比例为38. 9磅NDC( 二甲基2，6_萘二羧酸-如，得自 BP Amoco (Naperville, Illinois))和 20. 8 磅 EG(乙二醇-如，得自 ME Global (Midland，Michigan))和 2. 23 磅 CHDM(环己烧二甲醇-如，得自 Eastman Chemical (Kingsport，Tennessee))的初始单体投料进行制备的共聚物。第二共聚物coPEN 55/45HD为共聚萘二甲酸乙二酯，其包含作为羧酸酯的55摩尔％萘二甲酸酯、45摩尔％对苯二酸酯以及作为二醇的95. 8摩尔％乙二醇、4摩尔％己二醇、和0. 2%三羟甲基丙烷，如在美国专利6，352，761 (Hebrink等人)的实例10中所述。利用如美国专利6，830，713 (Hebrink等人)中通常所述的共挤出方法形成多层聚合物料片。将各种聚合物通常在(如)85°C下干燥60小时，随后送入具有单螺杆或双螺杆构造的单独挤出机中。将形成光学层的第一聚合物和第二聚合物分别利用其自身挤出机 (具有最终挤出机区温度)进行共挤出，并且利用梯度送料板(在整个膜厚度上提供层厚梯度)送入包括151个交替层送料区块的熔融装置组件。这些层形成成品多层膜的所谓的光学叠堆或微层层组。为了改善层的流动特性，两个更厚的所谓保护性边界层(PBL)毗邻光学叠堆的最外层并保护光学叠堆免受送料区块壁处的最高剪切速率的影响。PBL也由挤出机之一送料。为了便于说明这些实例，将给料于PBL的材料称为材料1，另一材料称为材料 2，挤出机同样如此。各个PBL为光学叠堆的厚度的约4%。在铺展到模头设定点温度下的模头中之前，使由挤出机3为其给送材料3的附加表层结合到共挤出多层流的顶部和底部， 以获得在模头中流动期间的附加的层稳定性。在这些描述的实例中，材料3可与材料1或 2相同。(结合实例所使用的术语“材料1”、“材料2”、和“材料3”不应以与本文献中别处 (例如，结合图5A-G)所使用的术语“第一材料”和“第二材料”有关的任何预定方式解释， 例如，本发明实例中的“材料1”可对应于图5A-G中的“第一材料”，或作为另外一种选择， 本发明实例中的“材料2”可以对应于这种“第一材料”)。就第一浇铸多层料片而言，材料 1为第一共聚物(所谓的PEN-Gb)，材料2为第二共聚物(所谓的coPEN 55/45HD)，并且材料3也为PEN-(ib。将多层构造从模具进行浇铸、淬火、并且静电旋涂到浇铸轮上，以形成卷状的第一浇铸多层光学料片。将此第一浇铸料片以所需的合适厚度(或层厚)(在宽度尺寸的中心部分上)卷绕在宽度为至少IOcm的一次性芯上。第一浇铸料片构造的其它细节提供于下文的表A中。表A 浇铸料片1的加工条件
权利要求
1.一种多层光学膜，包括多个内部层，被布置成通过相长干涉或相消干涉来选择性地反射光，所述层从所述膜的第一区域延伸到第二区域；其中在所述第一区域中，所述多个层提供第一反射特性，使得一种偏振态的法向入射光基本上被反射并且正交偏振态的法向入射光基本上被透射；并且其中在所述第二区域中，所述多个层提供第二反射特性，使得任何偏振态的法向入射光基本上被反射。
2.根据权利要求1所述的膜，其中所述膜在所述第一区域中具有第一厚度，并且在所述第二区域中具有第二厚度，并且其中所述第一厚度与所述第二厚度基本上相同。
3.根据权利要求1所述的膜，其中所述膜在所述第一区域中具有第一厚度，并且在所述第二区域中具有第二厚度，并且其中所述第一和第二反射特性之间的差异基本上不归因于所述第一和第二厚度之间的任何差异。
4.根据权利要求1所述的膜，其中所述多个内部层包括至少一个布置成光学重复单元的微层叠堆，每一个光学重复单元均包括第一微层，所述第一微层在所述第一区域中为双折射的，并且在所述第二区域中为较低双折射的或各向同性的。
5.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一反射特性的显著反射限于第一光谱带。
6.根据权利要求5所述的膜，其中所述第二反射特性的显著反射限于第二光谱带。
7.根据权利要求6所述的膜，其中所述第一和第二光谱带为基本上相同的。
8.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一反射特性使得所述一种偏振态和第一波长的法向入射光被反射至少70%。
9.根据权利要求8所述的膜，其中所述第一反射特性使得所述一种偏振态和所述第一波长的法向入射光被反射至少80%。
10.根据权利要求8所述的膜，其中所述第一反射特性使得所述一种偏振态和所述第一波长的法向入射光被反射至少90%。
11.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一反射特性使得所述正交偏振态和第一波长的法向入射光被反射不超过30%。
12.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一反射特性使得所述正交偏振态和所述第一波长的法向入射光被反射不超过20%。
13.根据权利要求1所述的膜，其中所述第二反射特性使得任何偏振态和第一波长的法向入射光被反射至少50%。
14.根据权利要求13所述的膜，其中所述第二反射特性使得任何偏振态和所述第一波长的法向入射光被反射至少70%。
15.根据权利要求13所述的膜，其中所述第二反射特性使得任何偏振态和所述第一波长的法向入射光被反射至少80%。
16.一种多层光学膜，包括多个内部层，被布置成通过相长干涉或相消干涉来选择性地反射光，所述层从所述膜的第一区域延伸到第二区域；其中在所述第一区域中，所述多个层包括反射型偏振器，并且在所述第二区域中，所述多个层包括反射镜。
17.一种制备图案化的多层光学膜的方法，包括提供多层光学膜，所述多层光学膜包括布置用于提供第一反射特性的多个内部层，所述第一反射特性与光的相长干涉或相消干涉相关联，并且特征在于对一种偏振的法向入射光具有高反射率且对于正交偏振的法向入射光具有低反射率，所述内部层从所述膜的第一区域延伸到第二区域，并且所述第一和第二区域各自表现出所述第一反射特性；以及在所述第二区域中选择性加热所述膜，加热量足以使得所述第二区域表现出第二反射特性，所述第二反射特性也与光的相长干涉或相消干涉相关联，但特征在于对任何偏振的法向入射光均具有高反射率。
18.根据权利要求17所述的方法，其中进行所述选择性加热而不对所述第二区域施加任何显著压力。
19.根据权利要求17所述的方法，其中进行所述选择性加热使得所述膜的厚度在所述第二区域中相对于所述第一区域未发生显著降低。
20.根据权利要求17所述的方法，其中所述第一反射特性对于所述一种偏振和第一波长的法向入射光具有第一反射率，对于所述正交偏振和所述第一波长的法向入射光具有第二反射率，并且其中所述第二反射特性对于所述一种偏振和所述第一波长的法向入射光具有第三反射率，且对于所述正交偏振和所述第一波长的法向入射光具有第四反射率，并且其中所述第三反射率低于所述第一反射率，且所述第四反射率高于所述第三反射率。
21.一种制备图案化的多层光学膜的方法，包括提供多层光学膜，所述多层光学膜包括多个内部层，所述多个内部层布置用于提供所述膜的第一和第二区域中的反射型偏振器，所述内部层从所述第一区域延伸到所述第二区域；以及在所述第二区域中选择性加热所述膜，加热量足以使得所述多个内部层在所述第二区域中提供反射镜，同时所述多个内部层在所述第一区域中提供所述反射型偏振器。
22.—种多层光学膜，包括多个内部层，被布置成通过相长干涉或相消干涉来选择性地反射光，以提供第一反射特性；其中所述多个内部层包括由第一材料构成的第一组层和由第二材料构成的第二组层， 所述第二材料不同于所述第一材料，所述第一组层和所述第二组层中的至少一者为双折射的层；其中所述膜具有吸收特性，所述吸收特性被调控，以随着合适的光束照射所述膜而充分地加热所述内部层，以改变所述内部层中的至少一些的双折射，同时保持所述多个内部层的结构完整性，这种双折射变化足以将所述第一反射特性改变为不同的第二反射特性； 并且其中所述第一反射特性基本上为偏振器特性并且所述第二反射特性基本上为反射镜特性，或者所述第一反射特性基本上为反射镜特性并且所述第二反射特性基本上为偏振器特性。
23.根据权利要求22所述的膜，其中所述第一材料包含第一聚合物和吸收染料或颜料。
24.根据权利要求23所述的膜，其中所述吸收染料或颜料优先吸收波长大于700nm的光。
25.根据权利要求22所述的膜，其中所述第一反射特性基本上为偏振器特性，并且所述第二反射特性基本上为反射镜特性。
26.一种多层光学膜，包括交替的第一和第二层，所述第一和第二层具有第一面内折射率失配Δnx、第二面内折射率失配Any、和面外折射率失配Δηζ，其中Δηχ和Any具有相近的大小但具有相反的符号，并且其中Δηζ为非零的且与Δηχ和Any中的仅一个具有相同的极性。
全文摘要
本发明公开了一种反射膜，其包括通过相长干涉或相消干涉选择性地反射光的内部层，所述层从膜的第一区域延伸到第二区域。在第一区域中，所述层基本上充当反射型偏振器；在第二区域中其基本上充当反射镜。所述层可因而在第一区域中提供其中一种偏振态的法向入射光被基本上反射且正交偏振态的法向入射光被基本上透射的第一反射特性，并且在第二区域中提供其中任何偏振态的法向入射光均基本上被反射的第二反射特性。所述膜在第一区域中可具有第一厚度，所述第一厚度与第二区域中的第二厚度基本上相同。作为另外一种选择，第二厚度可显著小于第一厚度。另外公开了相关方法、制品和系统。
文档编号C08J5/18GK102325830SQ200980157326
公开日2012年1月18日 申请日期2009年12月22日 优先权日2008年12月22日
发明者威廉·沃德·梅里尔, 道格拉斯·S·邓恩 申请人:3M创新有限公司