专利名称：具有改良耐溶剂性的透明聚酰亚胺薄膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种改善耐溶剂性的无色透明聚酰亚胺薄膜。
技术背景
通常，聚酰亚胺(PI)是指将芳香族双酐和芳香族二胺或者芳香族二异氰酸酯进 行溶液聚合制备聚酰胺酸后，在高温脱水闭环氨化而制备的高耐热树脂。
为了制备聚酰亚胺树脂，芳香族双酐成分使用均苯四甲酸二酐(PMDA)或者联 苯四甲酸二酐(BPDA)等，芳香族二胺成分使用二氨基二苯醚(ODA)、对苯二胺(p-PDA)、 间苯二胺(m-PDA)、二氨基二苯甲烷(MDA)、双(氨基苯基)六氟丙烷(Bis aminophenyl hexafluoropropane, HFDA)等。
这种聚酰亚胺树脂是不溶、不熔融的超高耐热性树脂，具有优秀的耐高温氧化性、 耐热性、耐放射线性、低温性、耐溶剂性等特性，因此在汽车材料、航空材料、宇宙飞船材料 等耐热尖端材料及绝缘涂覆剂、绝缘薄膜、半导体、TFT-LCD的电极保护薄膜等电子材料的 广泛领域中被使用。
但是聚酰亚胺树脂由于芳香族环密度高而带有褐色或黄色，因此在可见光范围透 过率低，在要求透明性的领域中使用困难。
最近开发了无色透明聚酰亚胺薄膜，但是存在的问题是聚酰亚胺树脂原有的耐溶 解性能下降很多。
因此，用作基板及光学用涂层及薄膜，曝露在极性溶剂或酸、碱等显像液及其它的 涂覆液中时，其表面溶解或者由于膨润，其形态发生改变从而不能在没有保护层的情况下 单独使用薄膜。发明内容
本发明的目的在于提供一种改善耐溶剂性的透明聚酰亚胺薄膜。
本发明另一目的在于提供用于改善溶剂性的显示元件的基板。
为了实现上述目的，根据本发明第一实施例，提供一种聚酰亚胺薄膜，所述薄膜的 根据下列式ι的耐溶解性指数为2%以内，黄度指数为10以下，根据下列式1的所述耐溶 解性指数由薄膜浸渍在极性溶剂中10分钟后的厚度与浸渍到溶剂之前的厚度的偏差所定 义。
式1:
权利要求
1.一种聚酰亚胺薄膜，其中，该薄膜的根据下列式1的耐溶剂性指数为2%，黄度指数 为10以下，根据下列式1的所述耐溶剂性指数由薄膜在极性溶剂中浸渍10分钟后的厚度 与浸渍到溶剂之前的薄膜厚度的偏差所定义，式1 (VJi)XlOOto上述式1中，、是将薄膜浸渍到溶液之前的厚度，ti是将薄膜在极性溶剂中浸渍10分 钟后的厚度。
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其中，该极性溶剂选自二甲基甲酰胺(DMF)、二 甲基乙酰胺(DMAC)及N-甲基吡咯烷酮(NMP)。
3.如权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其中，该薄膜由聚合双酐和酐及二胺而成的聚 酰胺酸形成。
4.如权利要求3所述的聚酰亚胺薄膜，其中，该酐相对于双酐和酐的总摩尔含有 IOmol % 以下。
5.如权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其中，将聚合双酐和酐及二胺而成的该聚酰胺 酸溶液通过制模工艺获得聚酰亚胺薄膜后，对获得的聚酰亚胺薄膜在310 500°C进行1分 钟 3小时的热处理。
6.如权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其中，该薄膜在550nm时的透过率为85%以上。
7.如权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其中，该薄膜在50 250°C时的热膨胀系数 (CTE)为 55ppm/°C 以下。
8.—种显示组件用基板，包含权利要求1至7中任一项所述的聚酰亚胺薄膜。
全文摘要
本发明涉及一种改善了耐溶剂性的无色透明聚酰亚胺薄膜，尤其涉及即使浸渍在极性溶剂中时也不产生薄膜的膨润、溶解等外型上变化的无色透明聚酰亚胺薄膜。
文档编号C08G73/10GK102030989SQ201010500759
公开日2011年4月27日 申请日期2010年9月29日 优先权日2009年9月29日
发明者安泰焕, 朴晓准, 郑鹤基 申请人:可隆工业株式会社