正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法

文档序号:3620243阅读:119来源:国知局
专利名称:正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
技术领域
本发明涉及正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法。
背景技术
在显示元件中,一般以将层状配置的配线之间绝缘为目的设置层间绝缘膜。作为层间绝缘膜的形成材料,广泛使用正型感射线性组合物,这是因为优选下述材料,即得到必要的图案形状的工序数少,而且具有充分的平坦性。对形成这样的层间绝缘膜时所使用的正型感射线性组合物,要求良好的射线敏感度和保存稳定性,对所得的层间绝缘膜要求优异的耐热性或透明性等。 作为上述正型感射线性组合物,广泛采用丙烯酸类树脂,例如提案使用一种正型感光性树脂组合物(参照JP特开2009-98673号公报),其含有具有含酸解离性基团的结构单元,在该酸解离性基团解离时变成碱可溶性的树脂,具有含有能与羧基反应而生成共价键的官能基(环氧基等)的结构单元的树脂,以及含有酸产生剂。在该组合物中,混合上述两种类的特定树脂,在使用上述组合物所形成的涂膜中,由具有含酸解离性基团的结构单元的树脂经由酸的作用而生成的羧基,与具有含环氧基等的结构单元的树脂的交联反应,由此进行固化反应。然而,因为交联反应的进行不充分,所得的固化膜的表面硬度及耐热性未达到满意的水平。对此现状,也考虑添加作为环氧类材料的固化剂所使用的胺化合物,从而进行交联反应的方案。但在一般的胺化合物的添加中,随着与组合物中所存在的环氧基的随时间变化的反应,保存稳定性会降低。于是,还考虑下述方案,即根据以酸脱离的保护基来保护胺化合物而使反应性降低,来确保上述组合物的保存稳定性。在此基础上,若根据在固化膜的形成过程所发生的酸而使保护基脱离,则胺化合物可供与环氧基的交联反应。然而,经由酸解离性基团的解离而使碱不溶性树脂变成碱可溶性树脂的反应,与基于环氧基的胺化合物所致的交联反应同时进行,上述组合物有时会无法发挥正型的感射线特性。现有技术文献专利文献专利文献I日本特开2009-98673号公报

发明内容
发明要解决的问题本发明是基于以上事项而完成的,其目的在于提供正型感射线性组合物、由该组合物所形成的显示元件用层间绝缘膜及其形成方法,该组合物可以形成表面硬度及耐热性优异,也满足作为一般的要求特性的透光率及电压保持率的层间绝缘膜,而且保存稳定性优异,具有充分的射线敏感度。
解决问题的手段为了解决上述问题而完成的本发明是一种正型感射线性组合物,其含有[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基团的结构单元
(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物(以下也称为“[A]聚合物”),[B]酸产生体,及[C]由下述式(2)所示的含氮化合物(I)及下述式(3)所示的含氮化合物(II)所组成的群中选出的至少一种含氮化合物(以下也称为“[C]含氮化合物”),
权利要求
1.一种正型感射线性组合物,其含有 [A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物, [B]酸产生体,及 [C]由下述式(2)所示的含氮化合物(I)及下述式(3)所示的含氮化合物(II)所组成的群中选出的至少一种含氮化合物,
2.如权利要求I所述的正型感射线性组合物,其中,由上述式(2)中的R6及上述式(3)中的R9及Rici所组成的群中选出的至少一种基团是叔丁基、叔戊基、I-甲基环己基或I-乙基环己基。
3.如权利要求I所述的正型感射线性组合物,其中相对于[A]聚合物100质量份,[C]含氮化合物的含量为2质量份以上30质量份以下。
4.如权利要求I所述的正型感射线性组合物,其用于形成显示元件的层间绝缘膜。
5.一种显示元件用层间绝缘膜的形成方法,其具有 (1)在基板上形成权利要求4所述的正型感射线性组合物的涂膜的工序, (2)对上述涂膜的至少一部分照射射线的工序, (3)将照射了上述射线的涂膜显影的工序,及(4)将上述显影后的涂膜加热的工序。
6. 一种显示元件用层间绝缘膜,其由权利要求4所述的正型感射线性组合物所形成。
全文摘要
本发明为正型感射线性组合物,其含有[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物;[B]酸产生体;以及[C]由下述式(2)所示的含氮化合物及下述式(3)所示的含氮化合物所组成的群中选出的至少一种含氮化合物。由上述式(2)中的R6及上述式(3)中的R9及R10所组成的群中选出的至少一种基团优选为叔丁基、叔戊基、1-甲基环己基或1-乙基环己基。
文档编号C08G59/44GK102859439SQ20118002062
公开日2013年1月2日 申请日期2011年4月18日 优先权日2010年4月27日
发明者一户大吾 申请人:Jsr株式会社
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