专利名称：具有错置的降压及增压回路的容器等离子处理机的制作方法
技术领域：
011本发明涉及容器处理，其在于使容器内壁涂覆一势垒效应材料层。
背景技术：
在容器( 一般用热塑性聚合物材料例如聚对苯二曱酸乙二醇酯制 成)放入围室中之后，进行降压，以便一方面在容器中形成等离子建立所 需的高真空(数微巴，其中1微巴=10—6巴)，另一方面在容器外部于围室 中形成中真空(约30毫巴至100毫巴)，从而避免容器在压力差的作用下 在其壁的两侧收缩。 根据一实施方式，处理机还可具有一围室降压管道和一围室增压 管道，所述围室降压管道独立于容器降压管道，且使围室连接于一负压源， 所述围室增压管道独立于容器增压管道，且使围室连接于一压力源。围室 降压管道和围室增压管道例如通到在围室中开启的一公共管。
图l是示出符合本发明的处理机的剖面示意图；图4是图2的处理机沿剖面IV-IV的横剖面细部图；图5是图2的处理机沿剖面V-V的横剖面细部图；图6是图2所示的处理机沿剖面VI-VI的正视剖面细部图； 图l示出处理机l，该处理机具有两个成对的处理单元2，用于 在由塑料材料例如聚对苯二曱酸乙二醇酯(PET)制的坯件预先吹制或拉 伸吹制成形的容器的内壁3上，等离子沉积屏障层。处理单元2安装在转 盘(未示出)的周边，所述转盘可直接布置在容器吹制机的出口处。 处理单元2具有第二电阀29，第二电阀间置在喷口 9和压力源 28之间，以便根据处理的进展阶段使喷口和压力源彼此连通或阻止它们彼 此连通。该电阀29具有阀门30,阀门30安装成在一关闭位置和一开启位 置(见图5)之间活动，其中在该关闭位置，阀门30贴靠在形成于增压管 道27管道口的阀座31上，因而阀门关闭该增压管道，从而阻止喷口9和 压力源28之间的连通，在该开启位置，阀门30离开阀座31，使喷口9和 压力源28连通。 处理单元2具有第四电阀37,其布置在围室5和压力源28之间， 以^使围室5和压力源28^:此连通或阻止它们^C此连通。该电阀37具有一 阀门38，阀门38安装成在一关闭位置和一开启位置(见图6)之间活动， 在关闭位置，阀门38贴靠在形成于增压管道33的管道口的一阀座39上， 该阀门因而关闭该增压管道，从而阻止围室5和压力源28之间的连通，在 开启位置，阀门38离开阀座39，使围室5和压力源28连通。 至于喷射器IO，它通过一管道42连接于一前驱气体(例如乙炔) 源41，管道42—部分在盖8中形成，管道42的关闭或相反地开启由第五 电阀43确保。-"外部真空，，(Videext.)线，表示第三电阀34的开启状态0 或关闭状态F; —容器3被装载，其颈部接纳在夹具12中。杆11与堵塞器13 共同朝高位上升，在高位，容器3刚性地被密封保持在夹具12和盖8之间。 该密封性旨在避免喷口 9(因而容器3的内部)和围室5(即容器3的外部) 之间的任何连通，以避免对围室5的碳质污染，对围室5的碳质污染会不 利于围腔对电磁微波的良好传送。-使电磁微波发生器6停止运行，从而造成等离子消失；
[64-关闭第五电阀43,从而造成前驱气体供给停止；
[65-使第一电岡19的阀门20进入关闭位置，从而造成容器3的降
压停止；以及
[661 -使第二电阀29的阀门30进入开启位置，从而造成容器3增压。 [671在预定的延时(不足一秒)之后，控制单元控制第四电阀37的
阀门38进入开启位置，从而造成在容器3外部的围室5增压。
[681因此，如此处理的容器3可被排出，循环过程重新开始以处理下
一容器。
权利要求
1.等离子处理容器(3)的处理机(1)，其具有-围室(5)，其适于接纳一待处理容器(3)；-盖(8)，其在所述围室(5)的延伸部分形成有喷口(9)；-使容器(3)降压的降压管道(14)，该容器的降压管道通入所述喷口(9)并使该喷口连接于负压源(15)；-第一阀(19)，其具有一关闭位置和一开启位置，在所述关闭位置，所述第一阀关闭所述降压管道(14)，而在所述开启位置，所述第一阀使所述喷口(9)与所述负压源(15)连通；该处理机(1)的特征在于它还具有-使容器(3)增压的增压管道(27)，该容器的增压管道与所述降压管道(14)分开，该增压管道(27)在所述降压管道(17)之外通到所述喷口(9)中，且使所述喷口(9)连接于压力源(28)；-第二阀(29)，其具有该第二阀关闭所述增压管道(27)的关闭位置、和该第二阀使所述喷口(9)与所述压力源(28)连通的开启位置。
2. 根据权利要求l所述的处理机(1)，其特征在于，所述喷口 (9) 具有中央部分(22)，所述降压管道(14)通入该中央部分，所述中央部 分(22)由所述增压管道(27)通入的一末端部分(24)延长。
3. 根据权利要求2所述的处理机(1)，其特征在于，所述喷口 (9) 的所述末端部分(24)具有所述增压管道(27)通入的环形室(25)。
4. 根据权利要求3所述的处理机(1)，其特征在于，所述环形室(25 ) 经由一个或多个孔道(26)与所述喷口 (9)的中央部分(22)连通。
5. 根据权利要求1至4中任一项所述的处理机(1),其特征在于， 所述降压管道(14 )通入一中间室(17 ),所述中间室通过一穿孔隔板(18 ) 与所述喷口 (9)连通。
6. 根据前述权利要求中任一项所述的处理机(1),其特征在于，所 述处理机还具有使围室(5)降压的降压管道(32)，该围室的降压管道独 立于所述容器(3)的降压管道(14)，并使所述围室(5)连接于一负压源(15 )。
7. 根据前述权利要求中任一项所述的处理机(1)，其特征在于，所 述处理机还具有使围室(5)增压的增压管道(33)，该围室的增压管道独 立于所述容器(3)的增压管道(27)，并使所述围室(5)连接于一压力 源(28)。
8. 根据权利要求6和7所述的处理机(1)，其特征在于，所述围室 (5)的所述降压管道(32)和增压管道(33)通入开通到所述围室(5)中的一公共管(40)。
全文摘要
容器(3)的等离子处理机(1)，其具有接纳一待处理容器(3)的围室(5)；在所述围室(5)的延伸部分中形成有喷口(9)的盖(8)；使容器(3)降压的降压管道(14)，其通入所述喷口(9)并使该喷口连接于负压源(15)；第一阀(19)，其具有关闭位置和开启位置，在关闭位置所述第一阀关闭所述降压管道(14)，在开启位置第一阀使喷口(9)与负压源(15)连通；使容器(3)增压的增压管道(27)，其与降压管道(14)分开，该增压管道(27)在降压管道(14)之外通到喷口(9)中且使喷口(9)连接于压力源(28)；第二阀(29)，其具有该第二阀关闭增压管道(27)的关闭位置、和该第二阀使喷口(9)与压力源(28)连通的开启位置。
文档编号B05D7/22GK101528363SQ200780038718
公开日2009年9月9日 申请日期2007年10月17日 优先权日2006年10月18日
发明者L·达内尔, N·布特罗瓦, Y-A·杜克洛 申请人:西德尔合作公司