专利名称：含有防雾组分的组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及含有抑雾剂组合物的组合物(compositions containing mist suppressant compositions)以及它们在期望降低成雾(misting)或气雾化 (aerosoling)水平的涂布方法中的具体用途。
背景技术：
众所周知的是，在对硅氧烷基纸张剥离涂布制剂(silicone-based paper release coating formulations)进4亍足句多高的S走转或平移(translational)运动的才喿 作中，例如对挠性载体(flexible support)和纸张进行高速辊涂(roll coating)的 操作中，成雾和/或气雾化可变成显著的问题。当以接近1000ft/min的辊涂 速度应用这些剥离涂布时，这些问题变得特别显著，而在纸张涂层工业 (paper coating industry)中使用超过1500 ft/min，例如2000-3000 ft/min的速 度是一种趋势。除了对制造业操作产生有害的影响之外，这些雾和气雾化 粒子对在涂布设备附近操作或工作的人员带来了工业卫生和安全性问题。
通常称为"抑雾剂"的专门化学制剂通常用于减少在所述操作中的雾 形成。例如，美国专利6,805,914和6，489,407(以下简称为专利'914和'407) 披露了硅氧烷抑雾剂组合物，所述组合物是由过量的至少一种有机氢化硅 氧烷(organohydrogensilicone)(组分(a))与至少 一种化合物(组分(b))反应而获 得的，至少 一种有机氢化硅氧烷(组分(a))在每分子中含有至少三个硅键合的 氢基团(silicon-bonded hydrogen group),所述至少一种化合物(组分(b))在每 分子中含有至少两个烯基，其中组分(a)中硅键合的氢原子数目与组分(b)中 烯基数目的比例为至少4.6:1,以及更优选为4.6:1至500:1。
美国专利6,586,535基本上披露了专利'914和'407的相反方面，即硅氧 烷抑雾剂组合物是从至少一种含有至少两个硅键合的氢基的有机氢化硅化 合物与过量的至少 一种含有至少三个与硅键合的烯基的有机烯基硅氧烷化 合物反应得到的，其中组分(a)中硅键合的氢原子数目与组分(b)中烯基数目 的比例小于或等于1:4.6，以及优选为1:4.6至1:500。美国专利6,764,717和6，956，096披露了从两步方法得到的硅基抑雾剂 组合物(silicone-based mist suppressant compositions),所述方法包括(a)使含 有至少三个脂肪族双键的烃与化学计量过量的含有末端硅键合的氢原子 (terminal silicon-bonded hydrogen atoms)的有机珪氧烷化合物反应，其中硅4建 合的氢与脂肪族双键的比例为1.3至10,以及优选为1.5至5;以及(b)使形 成的含有硅键合的氢原子的烃-硅氧烷共聚物与化学计量过量的a,co-二烯基 硅氧烷聚合物反应，其中a，co-二烯基硅氧烷聚合物中脂肪族双4定与在第一 步中获得的烃-硅氧烷共聚物中硅键合的氢的比例为1.2至10，优选为1.5 至5.0。
美国专利6,887,949、 6，774，201和6，727，338披露了作为防雾添加剂 (anti-mist additive)的硅氧烷聚合物，其中在所述硅氧烷聚合物的合成中包括 不饱和的烃化合物。
美国专利5，625，023披露了一种抑雾剂组合物，其是通过使有机硅化合 物、含有氧化烯的化合物(oxyalkylene画containing compound)和催4匕剂反应而 得到的。
美国专利5,399,614披露了含有烯基封端的聚二有机硅氧烷 (alkenyl-terminated polydiorganosiloxane)和硅氬化物(silylhydride)封端的有 机化聚硅氧坑(silylhydride-terminated organohydroge叩olysiloxane)的粘合
剂组合物。
然而，仍然需要涂布组合物(coating composition),特别是纸剥离组合物 (paper release composition),其在产生雾的方法，特别是高速涂布方法中寸吏 用时，具有降低的成雾水平，同时提供了其它益处，例如节约成本、易于 生产和易于使用。
发明内容
首先通过提供下述组合物(即涂料制剂)实现了这些和其它目的，所述组 合物包含
(i) 基于石圭氧烷的涂布组分(silicone-based coating component),所述基于 硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾(susceptible to misting);以及
(ii) 防雾量(anti-mistingamount)的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧 烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含
(a) —种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少 两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件 (hydrosilylation condition)下与含娃氬基的化合物(silylhydride-containing compound)进行娃氬化反应(hydrosilylation reaction); 以及
(b) —种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两 个硅氪基官能团(silylhydride functional group);
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少 一种在每分子中含有至少三个官能团； (ii)当组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，以及 组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团时，则组分 (a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分 (a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii) 所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
在一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基 官能团的摩尔比在式(6-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并 且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。
在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢 基官能团的摩尔比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范围内，其中s表示大于0并且 小于3.6的数。
在另 一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢 基官能团的摩尔比在式(4.25-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s表示等于或大于 0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的数。
在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢 基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
在具体的实施方案中，组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中具有至少 四个，或至少六个，或至少八个，或更高数目的官能团，组分(a)或(b)中的 另一种组分在每分子中两个或三个官能团，且前者的摩尔量低于后者的摩 尔量。
本发明还涉及涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将上文所述 的涂料制剂涂布至基底。当经受这些形成雾的条件时，所述涂^f+制剂与缺 少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。本发明还涉及通过对如上所述的用涂料制剂涂布的基底进行一次或多
次固化步骤(curing steps)生产的硬化的硅氧烷基涂层或薄膜(hardened silicone-based coating or film)。
本发明有利地提供了含有新颖的支化聚硅氧烷抑雾剂的纸张剥离或防 粘(paperrelease),粘合剂和相关的涂布组合物。含有这些抑雾剂的组合物能 够显著降低高速涂布操作过程中的成雾，同时提供了额外的益处，即经济、 容易使用和制造。
具体实施例方式
本发明的组合物最少含有两种组分(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述 基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化 聚硅氧烷组分(防雾组分)。
基于硅氧烷的涂布组分必须具有如此的可流动稠度(flowable
consistency),从而可将其通过例如辊涂、喷涂(spray)等方式涂布到基底上作 为涂层。例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可以是未固化的或部分固化的 液体，其具有足够低的粘度以便容易涂布到基底上作为涂层。通常地，所 述基于硅氧烷的涂布组分的粘度低于1，500厘泊(cPs),更通常地在50至 1,000 cPs的范围内，甚至更通常地在50至500 cPs的范围内，其中1厘泊 (cPs)= 1毫帕斯卡-秒(mPa.s)。
所述基于硅氧烷的涂布组分可涉及基于硅氧烷的涂料(silicone-based coating)用作例如剥离剂(release agent)、润滑剂、保护基、粘合剂等等的任 何应用。 一类特别合适的基于硅氧烷的涂布组分包括公知类型的压敏粘合 剂(pressure-sensitive adhesive)，所述压壽丈粘合剂具有以下的性质与表面津占 附并且易于从表面除去，同时不将大于痕量的粘合剂转移至基底表面。
例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可以是本领域已知的任何可固化硅 氧烷涂料或纸张剥离组合物(paper release composition)。可固化硅氧烷涂布 组合物的类型的一些实例是可通过硅氢化反应交联、过氧化物固化、光固 化(例如，紫外光固化)和电子束固化方法可固化的组合物。
在一个实施方案中，所述基于硅氧烷的涂布组分包括能够在硅氢化反 应条件下(例如，在下文进一步讨论的硅氢化催化剂存在下)进行交联的组 分。能够在硅氢化反应条件下进行交联的组分包括(i)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，以及(ii) 一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氬
基官能团。组分(i)的不饱和烃基的一些实例包括乙烯基、烯丙基、3-丁烯基、 4-戊烯基、5-己烯基、6-庚烯基、7-辛烯基、8-壬烯基、9-癸烯基、10-十一 碳烯基、4，7-辛二烯基、5,8-壬二烯基等等。
组分(i)的不饱和有机硅化合物和组分(ii)的含硅氢基的化合物可以独立 为，例如低分子量硅烷、二硅烷(disilane)、三硅烷(trisilane)、硅氧烷、二硅 氧烷(disiloxane)、三石圭氧烷(trisiloxane)、环三石圭氧烷(cyclotrisiloxane)或环四 硅氧烷(cyclotetrasiloxane)化合物等等，其具有至少两个不饱和烃基(就组 分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能团(就组分(ii)而言)。在本说明书中稍后 给出的实例对于用于防雾组分的每种这些类型的组合物而言也同样适用。
可供选择地，组分(i)和/或(ii)可以是具有M、 D、 T和Q基团的任何两 种或多种组合的任何线性、支化和/或交联聚合物，其中，如本领域已知的 是，M基团表示式R3Si01/2的单官能团，D基团表示式R2Si02/2的双官能团， T基团表示式RSi03/2的三官能团，以及Q基团表示式Si04,2的四官能团， 其中R基团可以是任何合适基团，包括氢、烃基(例如，CrC6)、卣素、烷 氧基和/或氨基，以及其中上述硅氧烷中的至少两个R基团为至少两个不 饱和烃基(就组分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能团(就组分(ii)而言)。适用 于基于硅氧烷的涂布组分的聚硅氧烷的类型的一些实例包括MDM、 TD、 MT、 MDT、 MDTQ、 MQ、 MDQ和MTQ类型的聚硅氧烷，及其组合，所 述实例具有至少两个不饱和烃基(就组分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能 团(就组分(ii)而言)。
例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可为标准的硅氧烷纸张剥离制剂， 其含有按重量计90-99%的乙烯化聚二曱基硅氧烷聚合物(vinylated polydimethylsiloxane polymer)和按重量计1-10%的硅氢基官能化的基于硅氧 烷的化合物或聚合物，基于所述基于硅氧烷的涂布组分的总重量，其中每 种含乙烯基的组分和含硅氢基的组分通常具有约20-500 cPs的粘度。
通常地，为了防止催化剂在加工过程中固化或延展制剂在贮藏过程中 的浴寿命(bath life)或稳定性，在涂料制剂中包括催化剂抑制剂(catalyst inhibitor)。催化剂抑制剂可以是本领域已知的任何化学品，所述化学品可抑 制催化剂在涂布过程中固化同时在期望固化时不会阻止固化。例如，催化剂抑制剂可以是下述化学品，所述化学品可以在应用涂料制剂过程中在室 温充分抑制催化剂固化，但是当期望固化时在经受升高的温度时丧失其抑
制作用。在所述组合物中包括的抑制剂的量通常为组合物的约5至约15重 量％。催化剂抑制剂的一些实例包括马来酸盐或酯、富马酸盐或酯、不饱和 酰胺、炔属化合物(acetylenic compound)、不饱和异氰酸酯、不饱和烃二酯、 氬过氧4b 4勿(hydroperoxide)、腈禾口 二氮丙^定(diaziridines)。
防雾组分(即，支化聚硅氧烷组分)以防雾量(anti-misting amount)包括在 本发明的组合物(即，涂料制剂)中。防雾量(雾抑制量)是当本发明的组合物 在通常引起组合物成雾或气雾化的方法中使用时，引起成雾或气雾化减少 的量。通常地，在涂料制剂包括的防雾组分的量占涂料制剂的约0.1至约 15wt%，以及更通常地占涂料制剂的约0.5至约5wt%。
所述防雾组分是在硅氢化反应条件下，对一种或多种有机硅化合物(所 述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团)即组分(a)，与一 种或多种含硅氩基的化合物(所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官 能团)即组分(b)共聚而形成的。
组分(a)的有机硅化合物包括任何低分子量化合物，以及较高分子量低 聚物和共聚物，所述有机硅化合物含有一个或多个硅原子并具有至少两个 不饱和烃官能团。组分(a)的有机硅化合物的类型的一些实例包括有机硅烷 (即，含有硅-碳键而不含硅-氧键)、硅氧烷和硅氮烷(silazane),这些物质含 有至少两个不饱和烃基。
组分(a)的有机硅化合物中的不饱和烃基包括能够在硅氢化条件下与硅 烷基反应、且具有至少一个碳-碳双键或三键的任何直链、支链或环状烃基。 更典型地，所述不饱和烃基含有二至六个碳原子。不饱和烃基的一些实例 包括取代的或未取代的乙烯基、烯丙基、丁烯基、丁二烯基、4-戊烯基、2,4-戊二烯基、5-己烯基、环丁烯基、环己烯基、丙烯酰基(acryloyl)和曱基丙烯 酰基(methacryloyl)。
组分(a)的低分子量有机硅烷化合物的 一 些实例包括二乙烯基二甲基硅 烷、二乙烯基二氯硅烷、二乙烯基曱基丙基硅烷、二乙烯基二丙基硅烷、 二乙烯基二异丙基硅烷、二乙烯基二苯基硅烷、二乙烯基苯基丙基硅烷、 三乙烯基曱基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、三乙烯基氯硅烷、三乙烯基苯 基硅烷、二烯丙基二曱基硅烷、二烯丙基二氯硅烷、烯丙基乙烯基二曱基硅烷、三乙烯基苯基硅烷、1，3-二乙烯基四曱基二曱硅烷基曱烷、1，4-二乙 烯基四曱基二曱硅烷基乙烷、l，l-二乙烯基四曱基二曱硅烷基乙烷、1,1,4-三乙烯基三曱基二曱硅烷基乙烷、l，l，l-三乙烯基三甲基二曱硅烷基乙烷、 1,1,4,4-四乙烯基二曱基二曱硅烷基乙烷、1，1,1，4-四乙烯基二曱基二曱硅烷 基乙烷、1,1，1，4,4,4-六乙烯基二曱硅烷基乙烷、1,3-二乙烯基四苯基二曱硅 烷基曱烷、1，4-二乙烯基四苯基二曱硅烷基乙烷、l，l-二乙烯基四苯基二曱 硅烷基乙烷、1,1,4-三乙烯基三苯基二曱硅坑基乙烷、1,1,1-三乙烯基三苯基 二甲硅烷基乙烷、1,1,4,4-四乙烯基二苯基二曱硅烷基乙烷和1，1,1,4-四乙烯 基二苯基二曱硅烷基乙烷。
组分(a)的低分子量硅氧烷化合物的一些实例包括二乙烯基二曱氧基硅 烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、二烯丙基二乙氧基硅 烷、三烯丙基乙氧基硅烷、乙烯基二曱基曱硅烷氧基乙烯基二曱基曱醇 (CH2=CH2-C(CH3)rO-Si(CH3)2(CH2=CH2) 、 1 ，3-二乙烯基四曱基二硅氧烷、 1，3-二乙烯基四乙基二硅氧烷、l，l-二乙烯基四曱基二硅氧烷、1，1,3-三乙烯 基三曱基二硅氧烷、l，l,l-三乙烯基三曱基二硅氧烷、1,1,3，3-四乙烯基二曱 基二硅氧烷、1,1,1，3-四乙烯基二曱基二硅氧烷、1，3-二乙烯基四苯基二硅氧 烷、1,1-二乙烯基四苯基二硅氧烷、1，1，3-三乙烯基三苯基二硅氧烷、l,l，l-三乙烯基三苯基二石圭氧烷、1，1，3,3-四乙烯基二苯基二石圭氧烷、1,1，1,3-四乙 烯基二苯基二硅氧烷、六乙烯基二硅氧烷、三(乙烯基二曱基曱硅烷氧基) 甲基硅烷、三(乙烯基二曱基曱硅烷氧基)曱氧基硅烷、三(乙烯基二曱基曱 硅烷氧基)苯基硅烷和四(乙烯基二甲基曱硅烷氧基)硅烷。
组分(a)的线性硅氧烷低聚物的一些实例包括1,5-二乙烯基六甲基三硅 氧烷、1,3-二乙烯基六曱基三硅氧烷、1,1-二乙烯基六曱基三硅氧烷、3,3-二乙晞基六曱基三硅氧烷、1,5-二乙烯基六苯基三硅氧烷、1，3-二乙烯基六 苯基三硅氧烷、l，l-二乙烯基六苯基三硅氧烷、3，3-二乙烯基六苯基三硅氧 烷、l，l，l-三乙烯基五甲基三硅氧烷、1,3,5-三乙烯基五曱基三硅氧烷、l,l，l-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1，3,5-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1,1,3,3-四乙烯 基四曱基三硅氧烷、1，1，5，5-四乙烯基四甲基三硅氧烷、1,1，3，3-四乙烯基四 苯基三硅氧烷、1,1,5,5-四乙烯基四苯基三硅氧烷、1，1，1,3,3-五乙烯基三曱基 三硅氧烷、1,1,3,5,5-五乙烯基三曱基三硅氧烷、1，1,3,3，5,5-六乙烯基二曱基 三硅氧烷、1，1,1,5，5，5-六乙烯基二曱基三硅氧烷、1，1,1，5,5,5-六乙烯基二苯基三硅氧烷、1,1,1，5，5,5-六乙烯基二曱氧基三硅氧烷、1,7-二乙烯基八曱基 四硅氧烷、1，3，5,7-四乙烯基六曱基四硅氧烷和1,1，7,7-四乙烯基六曱基四硅氧烷。
组分(a)的环状硅氧烷低聚物的一些实例包括1,3-二乙烯基四曱基环三 硅氧烷、l,3，5-三乙烯基三曱基环三硅氧烷、l，3-二乙烯基四苯基环三硅氧烷、 1,3,5-三乙烯基三苯基环三硅氧烷、1,3-二乙烯基六曱基环四硅氧烷、1，3，5-三乙烯基五曱基环四硅氧烷和1，3，5,7-四乙烯基四甲基环四硅氧烷。
组分(a)的硅氮烷的一些实例包括1,3-二乙烯基四甲基二硅氮烷、1，3-二 乙烯基-l，3-二苯基-l,3-二曱基二硅氮烷、1，3,5-三乙烯基三曱基环三硅氮烷、 1,3,5-三乙烯基三苯基环三硅氮烷、1,3,5-三乙烯基五曱基环四硅氮烷和 1,3,5,7-四乙烯基四曱基环四硅氮烷。
组分(a)的聚合硅氧烷(聚硅氧烷)包括具有M、 D、 T和Q基团的任何两 种或多种组合的线性、支化和/或交联聚合物，其中，如本领域已知的是， M基团表示式R3SiC^/2的单官能团，D基团表示式R2Si02,2的双官能团，T 基团表示式RSi03,2的三官能团，以及Q基团表示式Si04/2的四官能团，以 及其中至少两个R基团为不饱和烃基，其余的R基团可以是任何合适的基
团，包括烃基(例如，CrC6)、卤素、烷氧基和/或氨基。
适于组分(a)的聚硅氧烷的类型的一些实例包括具有至少两个不饱和烃 基的MDM、 TD、 MT、 MDT、 MDTQ、 MQ、 MDQ和MTQ类型的聚硅氧 烷，及其组合。
在一个具体的实施方案中，组分(a)为具有一个或多个M和/或Nfi基团 以及一个或多个D和/或Dvi基团的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)30-， Mvi表示(CH2=CH2)Si(CH3)20- , D表示-Si(CH3)20-,以及Dvi表示 -Si(CH2=CH2)(CH3)0, "vi"为"乙烯基"的缩写，其中MD型聚硅氧烷含 有至少两个乙烯基。
组分(a)的合适的MD型聚硅氧烷的一些实例包括MviDJV[Vi、 MviDvinM、 MviDvinDmM、 MviDvinMvi、 MviDvinDmMvi、 MDvinM和MDvinDmM类型的MD 型聚硅氧烷，其中m和n各自表示至少1。前述类型的MD聚硅氧烷中的 任何一种或其组合可用于组分(a)。在各种实施方案中，m和n可独立表示 例如范围1-10、 11-20、 50-100、 101-200、 201-500、 501-1500中的数以及 更高的数。也可将Dvi基团随机引入(即，不是作为嵌段)到D基团中。例如， JVfiDvinDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500， 以及其中5-20个0"随机引入到50-1500个D基团中。
在其它实施方案中，所述]Vfi和Dvi基团可各自独立包括较多数目的不 饱和官能团，例如就Mvi而言为(CH尸CH2)2(CH3)SiO-和(CHfCH2)3SiO-基 团，或就Dvi而言为-Si(CH2=CH2)20-。
组分(b)的一种或多种含硅氢基的化合物包括在每分子中含有至少两个 硅氢基官能团的任何低分子量化合物、低聚物或聚合物。组分(b)的含硅氢 基的化合物的类型的 一些实例包括含有至少两个硅氢基官能团的有机硅 烷、》圭氧烷和硅氮烷。
组分(b)的低分子量化合物的一些实例包括二甲基硅烷、二乙基硅烷、 二正丙基硅烷、二异丙基硅烷、二苯基硅烷、曱基氯硅烷、二氯硅烷、1,3-二硅杂丙烷(l，3-disilapropane)、 1,3-二硅杂丁烷(l,3-disilabutane)、 1，4-二硅杂 丁烷(l,4-disilabutane) 、 1,3-二硅杂戊烷(l,3-disilapentane) 、 1，4-二硅杂戊烷 (1,4-disilapentane) 、 1，5- 二硅杂戊烷(1,5-disilapentane) 、 1,6- 二硅杂己烷 (1，6-disilahexane)、 二-l,2-(二曱基曱硅烷基)乙烷、二-l,3-(二曱基曱硅烷基) 丙烷、1,2，3-三曱硅烷基丙烷、1,4-二曱硅烷基苯、1，2-二曱基二硅烷、1,1,2，2-四曱基二硅烷、1,2-二苯基二硅烷、U,2，2-四苯基二硅烷、1,1,3,3-四曱基二 硅氧烷、1,1,3,3-四苯基二硅氧烷、1,1,3,3,5,5-六曱基三硅氧烷、l，l,1,5,5,5-六曱基三硅氧烷、1,3,5-三甲基环三硅氧烷、1，3，5，7-四曱基环四硅氧烷和 1 ，3 ，5 ，7-四苯基环四硅氧烷。
组分(b)的含硅氢基的硅氮烷的一些实例包括1,1,3,3-四曱基二硅氮烷 (1,1,3，3-tetramethyldisilazane) 、 1，3,5-三乙基-2,4,6-三曱基环三珪氮烷 (1，3，5陽triethyl-2,4,6-trimethylcyclotrisilazane)、 1,2,3，4，5，6國六曱基环三,圭氮》克 (1，2，3,4,5，6-hexamethylcyclotrisilazane)和1，2,3,4，5,6,7，8-/\曱基环四石圭氮步克 (1,2，3，4,5，6，7,8-octamethylcyclotetrasilazane)。
组分(b)的含硅氬基的低聚物和聚合物的一些实例包括任何线性、支化 和/或交联聚合物，在所述低聚物或聚合物中具有任何两种或多种如上所述 的M、 D、 T和Q基团的组合，并且具有至少两个硅氢基官能团。
在一个具体的实施方案中，组分(b)为具有一个或多个M和/或MH基团 以及一个或多个D和/或DH基团的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)30-，MH表示HSi(CH3)20-， D表示-Si(CH3)20-，以及DH表示-Si(H)(CH3)0-,其 中MD型聚硅氧烷含有至少两个硅氢基团。
合适的组分(b)的MD型聚硅氧烷的一些实例包括MHDJV[H、 MHDHnM、 MHDHnDmM、 MHDHnMH、 MHDHnDmMH、 MDHnM和MDHnDmM类型的MD 型聚硅氧烷，及其组合，其中m和n各自表示至少1,并且可具有如上所 述的任何数值。
也可将DH基团随机引入(即，不是作为嵌段)到D基团中。例如， MHDHjDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500， 以及其中5-20个DH随机引入到50-1500个D基团中。
在其它实施方案中，MH和DH可独立含有较多数目的硅氢基官能团， 例如就MH而言为H2Si(CH3)0-以及就DH而言为H3SiO-基团。
根据本发明，组分(a)或(b)中的至少 一种在每分子中含有至少三个官能 团。例如，组分(a)或(b)中的一种在每分子中可含有三个官能团，而组分(a) 或(b)中的另 一种在每分子中含有两个官能团；或组分(a)和(b)中的每种在每 分子中都可各自含有三个官能团；组分(a)或(b)中的一种在每分子中可含有 三个官能团，而组分(a)或(b)中的另一种在每分子中含有四个官能团；或组 分(a)和(b)中的每种在每分子中都可各自含有四个官能团；等等。
在一个实施方案中，组分(a)和(b)含有相等数目的官能团，互相以任何 摩尔比(包括相等或相似的摩尔量)存在。在另一个实施方案中，组分(a)或(b) 中的一种组分含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种含有较少数 目的官能团，且前者的摩尔量比后者的摩尔量低。
在另一个实施方案中，所述支化聚硅氧烷遵循与星形聚合物(star polymer)类似的支化图案(branching pattern),其中组分(a)或(b)中含有较多数 目的官能团的任一种分子(即交联剂)的摩尔量低于组分(a)或(b)中含有较少 数目的官能团的另一种分子(即增链剂(extender))的摩尔量。上述的星形聚合 物图形不同于支化占优势的树枝状图形(dendritic pattern)。
例如，组分(a)或(b)中的一种组分可含有至少四个、五个、六个、七个、 八个、九个、十个或更高数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分含有 两个或三个官能团，且前者的摩尔量低于后者的摩尔量。
组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团可以以任何合 适的摩尔比存在，例如，100:1、 50:1、 25:1、 20:1、 10:1、 1:10、 1:20、 1:25、1:50、 1:100以及其间4壬何范围的比例。
在一个具体的实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的 硅氢基官能团的摩尔比在式(6-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s表示等于或大 于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。(a)的官能 团与(b)的官能团的所述摩尔比的一些实例包括6:l、 5.5:1、 5:1、 4.5:1、 4:1、 3.5:1、 3:1、 2.5:1、 2:1、 1.5:1、 1.4:1、 1.2:1、 1:1.2、 1:1.4、 1:1.5、 1:2、 1:2.5、 1:3、 1:3.5、 1:4、 1:4.5、 1:5、 1:5.5和1:6，以及其间任何范围的比例。
例如，在一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的 硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范围内，其中s表示大于0 并且小于3.6的数。在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组 分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4,25-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s 表示等于或大于0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于 3.25的数。在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中 的硅氩基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
所述支化聚硅氧烷的粘度通常大于1,500厘泊(cPs)，其中lcPs= 1毫帕 斯卡-秒(mPa.s)。更通常地，所述支化聚硅氧烷的粘度为约3,000 cPs或大 于3,000 cPs，以及甚至更通常地为约5,000 cPs。在其它实施方案中，所述 支化聚硅氧烷的粘度可为约IO，OOO cPs、25，000 cPs、50,000 cPs或大于10,000 cPs、 25,000 cPs、 50,000 cPs，或为更高的粘度。
在一个实施方案中，四价Si04/2基团(即，Q基团)不包括在所述的支化
聚硅氧烷组合物中。
在另一个实施方案中，不饱和烃化合物例如a-烯烃不包括在生成支化 聚硅氧烷的组分混合物中。所述不饱和烃化合物的 一 些实例包括式 CH产CHR1的a-烯烃，其中R1选自卣素、氢或未取代的或杂原子取代的具 有一至六个碳原子的烃基。 一些杂原子包括氧(O)和氮(N)原子。
在另一个实施方案中，氧基取代的烃类化合物，如含有氧化烯和/或含 有酯的饱和或不饱和的化合物不包括在所述支化聚硅氧烷组合物中。
所述防雾组分的支化聚硅氧烷是由组分(a)和组分(b)在硅氢化条件下共 聚得到的。"硅氢化条件"是指在含有不饱和基团的化合物和含硅氢基的化 合物之间发生硅氢化交联的本领域已知条件。
如本领域已知的是，在合适的温度混合各组分期间或混合之后，需要硅氢化催化剂来促进或进行组分(a)和(b)之间的硅氢化反应。硅氬化催化剂 通常含有一种或多种铂系元素金属(platinum-group metal)或金属络合物。例 如，硅氢化催化剂可以是钉、铑、把、锇、铱或柏的金属形式或络合物形 式。更通常地，所述硅氢化催化剂是铂基的(platinum-based)。铂基催化剂可 以是例如铂金属、沉积在载体(例如，二氧化硅、二氧化钛、氧化锆或碳) 上的铂金属、氯铂酸(chloroplatinic acid),或柏与弱结合性配体如二乙烯基 四甲基二硅氧烷络合的铂络合物。包含在反应混合物中的铂催化剂的浓度 范围可以是例如1-100 ppm，但更通常为约5至40ppm。
必要时，助剂和其它组分可包括在本发明的涂料制剂中。助剂组分的 一些类型包括催化剂抑制剂(如上文所述)、表面活性剂和稀释剂。稀释剂的 一些实例包括烃(例如，戊烷、己烷、庚烷、辛烷)、芳族烃(例如，苯、曱 苯和二曱苯)、酮(例如，丙酮、曱乙酮)和卣代烃(例如，三氯乙烯和全氯乙烯)。
在另一个方面，本发明涉及涂布方法，在所述方法中将本发明的涂料 制剂在已知所述涂料制剂会发生成雾或气雾化的条件下涂布至基底。在所 述形成雾的条件下，本发明的涂料制剂与不含防雾量的支化聚硅氧烷的涂 料制剂相比，会显示出降低的成雾。
所述涂料制剂可通过例如辊涂或通过从合适的涂布器(例如，喷嘴)喷涂 (其中所述涂布器相对于基底可以是静止的或运动的)来进行涂布。尽管成雾 或气雾化通常主要是由涂布器相对于基底运动引起的，但是成雾或气雾化 可以由除了涂布器或基底的运动以外的其它因素引起。例如，成雾可部分
或主要由涂布方法引起的，而不是涂布器相对于基底的任何运动引起，例 如，在静止的或緩慢喷涂的方法中。
运动是成雾或气雾化的主要原因)的基底的方法。所述运动可以是能够引起 成雾或气雾化的任何种类的运动，例如，形成雾水平的平移和/或旋转运动。
所述基底可以是期望在其上涂布上述涂料制剂的任何基底。合适基底 的一些实例包括纸、纸板(cardboard)、木材产品、聚合物和塑料产品、玻璃 产品和金属产品。
在另 一个方面，本发明涉及通过在将上述涂料制剂涂布至基底上之后 对所述涂料制剂硬化或固化而获得的硬化(即，固化的)涂层。所述涂料制剂一旦涂布至基底，就可通过本领域已知的任何固化方法进行固化，所述固 化方法包括，例如，硅氢化反应交联、过氧化物固化、光固化(例如，紫外 光固化)和电子束固化。
在缺少基底的涂层本身是有用的产品，例如用作可涂布薄膜的情况中， 期望时，可将硬化涂层从基底移除。为了辅助涂布的硬化薄膜从基底分离，
在所述涂料制剂中可包括剥离添加剂(release additive),或者在基底和涂料制 剂之间施加剥离薄膜(release film)。
出于阐明的目的在下文列出了实施例。本发明的范围决不限于本申请 所列出的实施例。
实施例1
防雾组分(支化聚硅氧烷)的合成
在该实施例中，称为组分A的组分是市售的式M"DnoMvi的二官能乙 蜂基封端的聚硅氧烷，其粘度为200-300cPs。称为组分B的组分是市售的 式MD5QQDH6.5M的六官能含硅氢基的聚硅氧烷，其粘度为6,000至15,000 cPs,氪化物含量为155至180ppm,其中6.5表示随机引入D基团中的DH 基团的平均数。称为组分C的组分是市售的催化剂制剂，其含有按重量计 10%的柏。
向装备有置顶式搅拌器(overhead stirrer)、 GN2入口、温度计和油浴的 1L反应器中加入168.7g(约20.2mmol)组分A和约0.05g组分C。将混合物 在环境条件下搅拌一小时。接着，将54.4g(约1.4mmol)组分B单独冷却至 4°C,然后在搅拌下加到上述组分中。将混合物在环境条件下搅拌15分钟， 然后緩慢加热至90。C。 30分钟后，观测到一些胶凝现象。在90。C向反应混 合物中加入255.5g组分A。将混合物在90。C搅拌两小时，冷却至室温(约 25°C)，然后从釜(kettle)中排出。产物的量为430.9g，这对应90%的收率。 在12Hz测量剪切粘度和剪切模量，分别为2.813 Pa.s和201.2 Pa。
实施例2
含有防雾组分的涂料制剂的合成
向两加仑塑料桶中装入94份(1880g)市售MviDu。Mvi溶液(含有100ppm Pt和0.4%马来酸二烯丙酯抑制剂)。将防雾添加剂以6份(120g)的量装入桶中，然后用钻杆式搅拌器(drill-mountedagitator)混合。将交联剂即市售氢化 物(MD3qDH!5M)以5.5份(110g)的量加到桶中。将混合物用钻杆式搅拌器充 分混合。
实施例3
含有防雾组分的涂料制剂的合成
向两加仑塑料桶中装入87.8份(1656 g)市售MviDK)oDvi2.5Mvi溶液(含有 100 ppm Pt和0.4%马来酸二烯丙酯抑制剂)。将防雾添加剂以6份(113g)的 量装入桶中，然后用钻杆式搅拌器混合。将交联剂即市售氢化物(MD3。D^5M) 以6.0份(113g)的量加到桶中。将混合物用钻杆式搅拌器充分混合。
实施例4
涂布方法
高速涂布器(pilot coater)用于所有的涂布和成雾研究。五辊涂布器(five roll coater)以3,000英尺/分钟操作。基底为18英寸宽的Otis Mill UV350纸。 所述涂布器装备有设定至550。F的3-5英尺的空气浮选气体加热干燥器 (three-five foot air floatation gas heated dryer)。涂4+重量i殳定至约0.8 lb/令。 在以3,000英尺/分钟涂布纸基底时，使用TSI Incorporated (Shoreview， MN) 制造的DUSTTRAK 8520气雾化监测器进行雾测量。测量在内门(i皿ergate) 和外门(outergate)辊的上方进行，高度对应于支承辊(back-up roll)和涂布辊 (applicator roll)之间的连4妄点。
由此，尽管已经描述了目前被认为是本发明优选的实施方案，本领域 技术人员应该理解，可进行其它和进一步的实施方案而不背离本发明的精 神，并且预期进行的所有这些进一步修改和变化包括在本申请列出的权利 要求的真实范围内。
权利要求
1. 一种组合物，其包含(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团；条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)当组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，以及组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团时，则组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
2. 权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b) 中的硅氢基官能团的摩尔比在式(6-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s表示等于 或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。
3. 权利要求1的组合物，其中組分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b) 中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范围内，其中s表示大 于0并且小于3.6的数。
4. 权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b) 中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.25-s):l或l:(l+t)的范围内，其中s表示等 于或大于0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的 数。
5. 权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b) 中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):l的范围内，其中s表示大于O并且 小于3.6的数。
6. 权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b) 中的硅氢基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
7. 权利要求1的组合物，其中组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含 有至少四个官能团，组分(a)或(b)中的另 一种组分在每分子中含有两个或三 个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少四个官能团的组分的摩尔 量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另 一种组分的摩 尔量。
8. 权利要求1的组合物，其中组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含 有至少六个官能团，组分(a)或(b)中的另 一种组分在每分子中含有两个或三 个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少六个官能团的组分的摩尔 量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量。
9. 一种组合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条 件下易于成雾；以及(ii) 防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条 件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a) —种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有 至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下 与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及(b) —种或多种含硅氪基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少两个硅氢基官能团；条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团； (ii)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，组分(a) 或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中 在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分 子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii)所述组分混合 物中不包括不饱和烃化合物。
10. —种组合物，其包含(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条 件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氪化条 件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a) —种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有 至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下 与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及(b) —种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少两个硅氢基官能团；条件是(i)组分(a)或(b)中的至少 一种在每分子中含有至少三个官能团； (ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约 (6-s):l或约l:(l+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以 及t表示大于0并且等于或小于5的数；(iii)组分(a)或(b)中的一种组分在 每分子中含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另 一种组分在每分子中 含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团 的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一 种组分的摩尔量；(iv)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
11. 一种组合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条 件下易于成雾；以及(ii) 防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条 件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a) —种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有 至少两个不饱和烃官能团，所迷不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下 与含硅氢基的化合物进行石圭氢化反应；以及(b) —种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少两个硅氢基官能团；条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团； (ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式 (4.6-s):l或l:(l+s)的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数；(iii)组分 (a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的 另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中在每分子 中含有较多数目官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；(iv)所述组分混合物中不包括不 饱和烃化合物。
12. —种组合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条 件下易于成雾；以及(ii) 防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条 件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a) —种或多种含有不饱和烃官能团的有机硅化合物，所述不饱和 烃官能团能够在硅氬化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应； 以及(b) —种或多种含硅氢基官能团的化合物； 条件是(i)组分(a)或(b)中的 一种组分在每分子中含有至少四个官能团，组分(a)或(b)中的另 一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a) 或(b)中在每分子中具有至少四个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中 在每分子中具有两个或三个官能团的另 一种组分的摩尔量；(ii)组分(a)中的 不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约(6-s):l或约l:(l+t) 的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于O并 且等于或小于5的数；(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
13. —种组合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条 件下易于成雾；以及(ii) 防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条 件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a) —种或多种含有不饱和烃官能团的有机硅化合物，所述不饱和 烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应； 以及(b) —种或多种含硅氢基官能团的化合物；条件是(i)组分(a)或(b)中的 一种组分在每分子中含有至少六个官能团， 组分(a)或(b)中的另 一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a) 或(b)中在每分子中具有至少六个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中 在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量；(ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约(6-s):l或约l:(l+t) 的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于O并 且等于或小于5的数；(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
14. 一种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求1 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
15. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求2 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
16. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求3 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
17. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求4 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
18. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求5 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
19. 一种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求6 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
20. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求7 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
21. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求8 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
22. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求9 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
23. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求10的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
24. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求11 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
25. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求12 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
26. —种涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将权利要求13 的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防 雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
27. —种硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂 层或薄膜是通过对用权利要求1的组合物涂布的基底进行一次或多次固化 步骤而产生的。
28. —种硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂 层或薄膜是通过对用权利要求10的组合物涂布的基底进行一次或多次固化 步骤而产生的。
全文摘要
本发明涉及涂料制剂，所述涂料制剂包含(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，以及(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团，条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量，以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。本发明还涉及用上述涂料制剂涂布基底的方法，以及通过使所涂布的基底进行一次或多次固化步骤获得的硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜。
文档编号C09D183/04GK101535428SQ200780041017
公开日2009年9月16日 申请日期2007年8月30日 优先权日2006年9月1日
发明者戴维·S·施利策, 约翰·P·贝尼维西厄斯 申请人:莫门蒂夫性能材料股份有限公司