抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件，所述保护膜即使在裁切时也难以出现因粘结剂而导致的异物(胶团)，即使对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜仍亲和性(湿润性)良好，且对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)，其在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
【专利说明】
抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件
技术领域
[0001] 本发明设及一种贴合于偏振片、相位差板、显示器用的透镜膜等光学部件下， 有时也称作光学用膜)的表面的表面保护膜。更详细而言，本发明提供一种抗静电表面保护 膜及贴合有该保护膜的光学部件，所述抗静电保护膜即使在裁切时也难W产生因粘结剂而 导致的异物(胶团），对于表面具有凹凸的光学用膜的亲和性(湿润性）良好，且对被粘物的 污染少，即使时间流逝对被粘物的低污染性也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电 性能。
【背景技术】
[0002] 在制造、搬运偏振片、相位差板、显示器用的透镜膜、抗反射膜、硬涂膜、触摸板用 透明导电性膜等光学用膜及使用了它们的显示器等光学制品时，在该光学用膜的表面贴合 表面保护膜，能够防止在后工序中表面的污染或损伤。制品的光学用膜的外观检查，为了节 省剥下表面保护膜并再次贴合的程序提高作业效率，有时也W将表面保护膜贴合于光学用 膜的状态直接进行。
[0003] 在W往，在光学制品的制造工序中，为了防止伤痕或污垢的附着，通常使用在基材 膜的一个面上设有粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜经由弱粘结力的粘结剂层贴合于光 学用膜上。使粘结剂层为弱粘结力，是为了将使用过的表面保护膜从光学用膜的表面上剥 离去除时，能够容易剥离，且粘结剂不附着残留在作为被粘物的制品的光学用膜上（即所谓 的防止产生残胶）。
[0004] 作为弱粘结力的粘结剂，多使用丙締酸类粘结剂，但在将光学用膜裁切成符合显 示器大小的规定尺寸时，粘结剂被裁切刀撕开，存在容易产生小片状的异物(也称为胶团） 的问题。若上述异物产生，则有工序污染或在光学用膜上产生押痕等问题。因此，要求一种 在对贴合有表面保护膜的光学用膜进行分切、裁切时，产生异物少的表面保护膜。此外，要 求一种表面保护膜，其即使对棱镜片或经过防眩处理的偏振片等表面具有凹凸形状的光学 用膜，仍亲和性(湿润性）良好，在将表面保护膜贴合于光学用膜时，气泡难W进入。
[0005] 因此，对于在分切或裁切时难W产生胶团、对各种光学用膜的亲和性良好运一表 面保护膜的期望，使用其中使用了聚氨醋类粘结剂的表面保护膜。
[0006] 近年来，在液晶显示面板的生产工序中，虽然产生件数少，但却存在如下现象：由 于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离去除时产生的剥离静电压，而产生的用于控制液 晶显示面板的显示画面的驱动1C等电路部件被破坏的现象、或液晶分子的取向损坏的现 象。
[0007] 此外，为了降低液晶显示面板的耗电，液晶材料的驱动电压变低，驱动1C的击穿电 压也随之变低。在最近，谋求使剥离静电压在+0.7kV~-0.7kV的范围内。
[000引在将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上进行剥离时，为了防止因剥离静电压 高而导致的状况不佳，人们提出了一种用于较低的抑制剥离静电压的、使用了含有抗静电 剂的粘结剂层的表面保护膜。
[0009] 例如，专利文献1中，公开了一种由具有締化氧(alkylene oxide)链的聚氨醋、离 子化合物及3官能异氯酸醋化合物构成的抗静电粘结剂。此外，专利文献2中公开了一种表 面保护膜用聚氨醋粘结剂组合物，其特征在于含有超强酸的碱金属盐类及碱±类金属盐类 的至少一种盐。更进一步，在专利文献3中公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合 物的表面保护膜，所述粘结剂组合物由含有氣代有机阴离子的离子液体及数均分子量5， 000W上的聚氨醋构成。
[0010] 现有技术文献
[0011] 专利文献
[0012] 专利文献1:特开2005-154491号公报
[0013] 专利文献2:特开2006-182794号公报
[0014] 专利文献3:特开2007-277484号公报
【发明内容】
[0015] 本发明要解决的技术问题
[0016] 在所述的专利文献1~3中，在粘结剂层的内部添加了抗静电剂。但是，粘结剂层的 厚度越厚，或者在贴合于被粘物后随时间经过，对于贴合了表面保护膜的被粘物，有抗静电 剂从粘结剂层向被粘物转移的量变多的可能。若向被粘物转移的抗静电剂的量变多，则有 作为被粘物的光学用膜的外观品质下降、或是表面保护膜的粘结特性会经时变化的可能。
[0017] 为了减少所述从粘结剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时变化，若使粘结剂的厚 度变薄，则会产生别的问题。例如，存在如下问题:在用于防眩光用的经过防眩处理的偏振 片等表面具有凹凸的光学用膜的情况下，粘结剂无法追随光学用膜表面的凹凸而混入气 泡；由于光学用膜与粘结剂的接合面积减少而使粘结力降低，在使用中表面保护膜翅起、脱 落。
[0018] 本发明是鉴于上述情况而发明的，其技术问题在于提供一种表面保护膜及贴合有 该保护膜的光学部件，所述保护膜即使在裁切时也难W产生因粘结剂而导致的异物（胶 团），对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜的亲和性(湿润性）良好，且对被粘物的污 染少，对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电 性能。
[0019] 解决技术问题的技术手段
[0020] 为了解决所述技术问题，本申请发明人等进行了认真的研究。
[0021] 首先，为了实现对被粘物的污染少、且抗静电性能的经时变化少，需要减少被推测 为污染被粘物的原因的抗静电剂的添加量。但是，在减少抗静电剂的添加量的情况下，将表 面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压会增高。于是，本申请发明人等对不增加抗静电剂 添加量的绝对量，较低地抑制将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压的方法进行了研 究。结果发现了 ：不是在粘结剂组合物中添加混合抗静电剂形成粘结剂层，而是在涂敷、干 燥粘结剂组合物层积粘结剂层后，通过在粘结剂层的表面上赋予适量抗静电剂的成分，能 够较低地抑制将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压，从而完成了 本发明。
[0022] 目P，为了解决所述技术问题，本发明提供一种抗静电表面保护膜，其特征在于，其 在由具有透明性的树脂构成的基材膜的一个面上，依次层积不含抗静电剂的聚氨醋类粘结 剂层、抗静电剂层、经剥离处理的剥离膜。
[0023] 此外，所述抗静电剂层优选含有离子化合物。
[0024] 此外，所述抗静电剂层优选含有W碱金属为阳离子的离子化合物。
[0025] 此外，所述抗静电剂层的厚度优选为0.01~0.3μπι。
[0026] 此外，本发明提供一种贴合所述的抗静电表面保护膜而成的光学部件。
[0027] 发明效果
[0028] 本发明能够提供一种表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件，本发明的表面保 护膜即使在裁切时也难W产生因粘结剂而导致的异物(胶团），其对于作为被粘物的表面具 有凹凸的光学用膜的亲和性(湿润性）良好，且对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即 使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。
[0029] 此外，根据本发明的表面保护膜，由于能够确实保护光学用膜的表面，因此能够抑 制在光学部件生产工序中次品的产生，从而谋求生产性的提高及成品率的提高。
【附图说明】
[0030] 图1为本发明抗静电表面保护膜的概念截面图；
[0031] 图2为表示从本发明抗静电表面保护膜上剥下剥离膜的状态的截面图；
[0032] 图3为表示将本发明的抗静电表面保护膜贴合于光学部件上的一个实施例的截面 图。
[0033] 附图标记说明
[0034] 1.基材膜、2.粘结剂层、3.抗静电剂层、4.剥离膜、5 .光学部件、10.抗静电表面保 护膜、11.剥离了剥离膜的抗静电表面保护膜、20.贴合了抗静电表面保护膜的光学部件。
【具体实施方式】
[0035] W下，根据实施的方式对本发明进行详细说明。
[0036] 图1为本发明的抗静电表面保护膜的概念截面图。该抗静电表面保护膜10在透明 的基材膜1的一个面的表面，形成有不含抗静电剂的粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面，形 成有存在含抗静电剂材料的抗静电剂层3,更进一步，在抗静电剂层3的表面，贴合有经剥离 处理的剥离膜4。
[0037] 作为用于本发明的抗静电表面保护膜10的基材膜1，使用由具有透明性及可晓性 的树脂构成的基材膜。如此，在将抗静电表面保护膜贴合于作为被粘物的光学部件上的状 态下，能够进行光学部件的外观检查。用作基材膜1的具有透明性的树脂膜，适宜使用聚对 苯二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚间苯二甲酸乙二醇醋、聚对苯二甲酸下二醇醋 等聚醋膜。除了聚醋膜之外，只要是具有需要的强度，且具有光学特性(optical apti化de) 的膜，还可W使用由其他树脂构成的膜。基材膜1可W是无拉伸膜，也可W是经单轴或双轴 拉伸的膜。此外，也可W将拉伸膜的拉伸倍率或随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取向 角度控制为特定的值。
[0038] 用于本发明的抗静电表面保护膜10的基材膜1的厚度没有特别的限定，例如，优选 为12~lOOwn左右的厚度。更进一步，基材膜1若为20~50μπι左右的厚度则便于操作，更优 选。
[0039] 此外，可W根据需要，在基材膜1的形成有粘结剂层2的面的相反侧面上，设置防止 表面污垢的防污层、抗静电层、防损伤的硬涂层等。此外，在基材膜1的表面，可W施加通过 电晕放电的表面改性、涂敷错涂剂等易粘合处理。
[0040] 此外，用于本发明的抗静电表面保护膜10的粘结剂层2,只要是在粘合于被粘物的 表面保护被粘物后，能够从被粘物上简单剥下，且难W污染被粘物的粘结剂即可。此外，从 裁切时产生的胶团少、对光学用膜等被粘物的湿润性良好方面考虑，优选使用聚氨醋类粘 结剂组合物形成粘结剂层。
[0041] 作为聚氨醋类粘结剂，考虑粘结性或湿润性、被粘物污染性等，在由多元醇成分与 聚异氯酸醋成分构成的聚氨醋类树脂中进行选择即可，多元醇成分、聚异氯酸醋成分没有 特别的限定。聚氨醋类树脂可W单独使用，或者也可巧巾W上混合使用。
[0042] 作为多元醇成分，例如可列举出聚醋多元醇、聚酸多元醇、聚己内醋多元醇、聚碳 酸醋多元醇、藍麻油类多元醇等。运些多元醇成分可W单独使用，或者也可巧巾W上混合使 用。
[0043] 作为所述聚异氯酸醋成分，可使用脂肪族聚异氯酸醋、脂环族聚异氯酸醋、芳香族 聚异氯酸醋、二异氯酸醋的多聚体等。运些异氯酸醋成分可W单独使用，或者也可巧巾W上 混合使用。
[0044] 作为聚氨醋类粘结剂的市售品，可列举出切abine(哥斗アパ斗シ）（注册商标)5护 101、SH-101M、SP-205、SP-220(toy〇-chem(株）制 KARAC0AT(注册商标)FT100、FT200(荒川 化学工业(株)制）、UN1175、UN1176(大同化成工业(株)制）等。粘结剂层只要是使聚氨醋类 粘结剂交联或固化而成即可。
[0045] 用于本发明的抗静电表面保护膜10的粘结剂层2的厚度没有特别的限定，例如，优 选为5~40WI1左右的厚度，更优选为10~30WI1左右的厚度。
[0046] 作为在基材膜1的表面上形成粘结剂层2的方法，W公知的方法进行即可，具体而 言，可使用反向涂布法、逗号刮刀式涂布法(Comma Coating)、凹版涂布法、夹缝式挤压型涂 布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等公知的涂敷方法。
[0047] 此外，本发明的抗静电表面保护膜10所使用的、用于构成抗静电剂层3的含抗静电 剂材料，可列举出抗静电剂单体或抗静电剂与各种树脂的混合物等。作为抗静电剂，适用离 子化合物。此外，作为用于抗静电剂与各种树脂的混合物的树脂，可列举出聚醋类树脂、聚 酷胺类树脂、聚氨醋类树脂、聚締控树脂、聚乙締醇缩下醒树脂、聚乙締醇树脂、聚醋酸乙締 醋树脂、纤维素树脂、有机娃树脂、含氣树脂等。
[0048] 作为离子化合物，其为具有阳离子及阴离子的离子化合物，作为阳离子，可列举出 有机阳离子或无机阳离子，例如碱金属阳离子、化晚鐵阳离子、咪挫鐵阳离子、喀晚鐵阳离 子(pyrimidinium cation)、R比挫鐵阳离子(pyrazolium cation)、R比咯烧鐵阳离子、锭阳离 子等含氮鐵阳离子或鱗阳离子、梳阳离子等。含氮鐵阳离子可具有烷基等有机基或取代基。 优选为季含氮鐵阳离子，可列举出1-烷基化晚鐵(2~6位的碳原子可W具有取代基，也可无 取代)等季化晚鐵阳离子、或1,3-二烷基咪挫鐵(2、4、5位的碳原子可W具有取代基，也可无 取代)等季咪挫鐵阳离子、N-烷基喀晚鐵(2位及4~6位的碳原子可W具有取代基，也可无取 代)等季喀晚鐵阳离子、1,2-二烷基嚷挫鐵(3~5位的碳原子可W具有取代基，也可无取代） 等季嚷挫鐵阳离子、1，1-二烷基化咯烧鐵(2~5位的碳原子可w具有取代基，也可无取代） 等季化咯烧鐵阳离子、四烷基锭等季锭阳离子等。作为鱗阳离子，可列举出四烷基鱗等具有 有机基的鱗阳离子。作为梳阳离子可列举出Ξ烷基梳等具有有机基的梳阳离子。
[0049] 此外，作为阴离子，可列举出有机阴离子或无机阴离子，例如Cn出n+lC0(T、CnF2n+ iCOO-、N03-、CnF2n+lS〇3-、（CnF2n+lS〇2)2N-、（CnF2n+lS〇2)3C-、RC 抽 4SO3-、P043-、AlCl4-、Al2Cl7-、 CIO4-、邸4-、？。6-、43。6-、訊。6-、5〔片等。运些离子化合物可^单独使用，或者也可巧巾^上混合 使用。为了离子物质的稳定化，可W添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。上述式中，角标η为 0W上的整数。η = 0时，相当于肥00-、（FS02)2N-等。
[0050] 在运之中，具有作为阳离子的碱金属阳离子的离子化合物(碱金属盐)是适宜的。 作为碱金属盐，可列举出裡、钢、钟构成的金属盐。具体而言，例如，可适宜地使用Li+、Na+X 组成的阳离子与 Cr、化-、r、BF4-、PF6-、SCN-、Cl〇4-、CF3S〇3-、（FS〇2)2N-、（CF3S〇2)2N-、 (C2F5S〇2)2r、（CF3S〇2)3[组成的阴离子所构成的金属盐。其中，特别优选使用Li化、Lil、 LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiCl04、LiCF3S03、Li(FS02)2N、Li(C&S02)2N、Li(C2F5S02)2N、Li(CF3S02) 3C等裡盐。运些碱金属盐可W单独使用，或者可种W上混合使用。为了离子物质的稳定 化，可W添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
[0051] 抗静电剂层3干燥后的涂布膜的厚度可W考虑抗静电剂的种类及其抗静电性、被 粘物污染性而决定，优选为〇.3ymW下。抗静电剂层3的厚度若超过0.3μπι，在表面保护膜贴 合于被粘物时，粘结剂组合物的成分难W从形成抗静电剂层的树脂之间出现于表面保护膜 与被粘物的界面上，粘结剂层2的粘结力达不到规定值，因此不优选。抗静电剂层3的厚度例 如为 0.01 ~0.3μηι。
[0052] 从将抗静电表面保护膜10(详细而言，剥下图2所示的剥离膜的抗静电表面保护膜 11)由被粘物上剥下时的操作性优异的方面考虑，将抗静电表面保护膜10从被粘物的表面 剥离时的剥离强度(粘结力)优选为0.03~0.3N/25mm左右的弱粘结力。
[0053] 此外，从抗静电表面保护膜10上剥下剥离膜4时的操作性优异方面考虑，从抗静电 剂层3上剥离剥离膜4时的剥离力优选在W剥离速度0.3m/分钟、剥离角度180°的条件下进 行测定时为0.005~0.3N/50mm。
[0054] 此外，在本发明的抗静电表面保护膜10中，在粘结剂层2的表面形成抗静电剂层3 的方法没有特别的限定。例如，可列举出W下方法：（1)使剥离膜4的剥离剂层中含有所述的 含抗静电剂材料，在使剥离膜4贴着于粘结剂层2时，转印至粘结剂层2的方法；（2)在粘结剂 层2的表面上印刷所述的含抗静电剂材料的方法；（3)在粘结剂层2的表面，涂布所述的含抗 静电剂材料的方法等。对于所述含抗静电剂材料的印刷或涂布，可W进行均匀的印刷、涂 布，或者也可W特定的图案进行印刷、涂布。只要考虑粘结剂层对于抗静电表面保护膜的被 粘物的粘结力等而决定即可。对于含抗静电剂材料的印刷或涂布的方法，可使用公知的方 法进行。
[0055] 图1所示的用于使用在本发明的抗静电表面保护膜10的剥离膜4中的树脂没有特 另揃限定。作为剥离膜4,例如，可例示出在聚醋膜、聚酷胺膜、聚乙締膜、聚丙締膜、聚酷亚 胺膜等树脂膜的一个面上，实施有机娃类剥离剂、含长链烷基的树脂、含氣树脂等剥离剂处 理的剥离膜，或使聚乙締树脂、聚丙締树脂、聚甲基戊締树脂、含氣树脂等具有离型性的树 脂膜化的剥离膜。
[0056] 剥离膜的厚度没有特别的限定，例如，优选为12~100皿左右的厚度，若为20~50μ m左右的厚度则容易操作，故而更优选。
[0057] 图2为表示从本发明的抗静电表面保护膜上剥下剥离膜的状态的截面图。在图2所 示的剥下了剥离膜的抗静电表面保护膜11中，在粘结剂层2的表面上设置有抗静电剂层3。
[0058] 图3为表示将本发明的抗静电表面保护膜贴合于光学部件上的实施例的截面图。
[0059] 本发明的抗静电表面保护膜10剥下经剥离处理的剥离膜4, W外露出抗静电剂层3 的状态（图2的抗静电表面保护膜11)，经由该抗静电剂层3贴合于作为被粘物的光学部件5 上。
[0060] 目P，图3表示了贴合有从本发明的抗静电表面保护膜10上剥下剥离膜4的状态的抗 静电表面保护膜11的光学部件20。作为光学部件，可列举出偏振片、相位差板、透镜膜、相位 差板兼用的偏振片、透镜膜兼用的偏振片等光学用膜。运些光学部件可用作液晶显示面板 等液晶显示装置、各种计量仪器类、光学类装置等的构成部件。此外，作为光学部件，可列举 出抗反射膜、硬涂膜、触摸板用透明导电性膜等光学用膜。特别是可适于用作表面通过有机 娃化合物或氣化合物等进行防污染处理的、低反射处理偏振片化R偏振片)或防眩低反射处 理偏振片(AG-LR偏振片)等光学用膜的、贴合于经防污染处理的面上的抗静电表面保护膜。
[0061] 在将由本发明的抗静电表面保护膜10剥下剥离膜4状态的抗静电表面保护膜11从 作为被粘物的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分地较低地抑制剥离静电压。因 此，无需担屯、破坏驱动IC、TFT元件、栅线驱动电路等电路部件，能够提高在制造液晶显示面 板等工序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
[0062] 实施例
[0063] 接着，通过实施例对本发明进行进一步说明。
[0064] (实施例1)
[0065] (抗静电表面保护膜的制造）
[0066] 在厚度3祉m的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面上，将添加、混合有100重量份聚氨 醋类粘结剂(荒川化学工业(株)制、品名:ARAC0AT(注册商标)FT200、粘结剂不挥发成分的 含有率为40重量％)、5.7重量份固化剂(荒川化学工业(株)制、品名:ARAC0AT(注册商标） CL2503、固化剂不挥发成分的含有率为40重量％ )的粘结剂组合物的涂布液进行涂布，使干 燥后的厚度为20μπι，然后，使用10(TC的热风循环式烤箱进行2分钟干燥，形成粘结剂层。然 后，在粘结剂层的表面上，将作为抗静电剂的双Ξ氣甲烧横酷亚胺裡的醋酸乙醋溶液用迈 耶棒No.4涂布使干燥后的抗静电剂层的厚度为0. him,然后使用100°C的热风循环式烤箱进 行2分钟干燥，在粘结剂层的表面设置抗静电剂层，制成试样。在该试样的粘结剂层的表面 上贴合剥离膜(Ξ菱树脂(株)制Diafoil MRF38,在厚度38μπι的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的 表面上，进行了有机娃剥离剂处理），得到实施例1的抗静电表面保护膜。
[0067] (实施例2)
[0068] 除了使实施例1的抗静电剂为双氣横酷亚胺裡、使干燥后的抗静电剂层的厚度为 O.OSymW外，W与实施例1相同的方式，得到实施例2的抗静电表面保护膜。
[0069] (实施例3)
[0070] 除了使实施例1的抗静电剂层的干燥后的厚度为0.3ymW外，W与实施例1相同的 方式，得到实施例3的抗静电表面保护膜。
[0071] (实施例4)
[0072] 除了使实施例1的抗静电剂变更为双Ξ氣甲横酷亚胺Ξ正下基甲锭(3M Japan社 审IJ，型号:FC-4400)W外，W与实施例1相同的方式，得到实施例4的抗静电表面保护膜。
[0073] (比较例1)
[0074] 将在实施例1的粘结剂组合物中，W固体成分比计为100:1.5的方式混合实施例1 的抗静电剂的粘结剂组合物，W干燥后的粘结剂层的厚度为20WI1的方式进行涂布，代替在 粘结剂层上层积抗静电剂层W外，W与实施例1相同的方式，得到比较例1的抗静电表面保 护膜。
[0075] (比较例2)
[0076] 除了不设置抗静电剂层W外，W与实施例1相同的方式，得到比较例2的表面保护 膜。
[0077] (比较例3)
[0078] 除了使抗静电剂层的干燥后的厚度为0.5ymW外，W与实施例1相同的方式，得到 比较例3的抗静电表面保护膜。
[0079] W下，示出评价试验的方法及结果。
[0080] 〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
[0081 ] 将抗静电表面保护膜的试样剪裁成宽度50mm、长度150mm。在23°C X50%畑的试验 环境下，用拉伸试验机W300mm/分的剥离速度在180°的方向上，测定将剥离膜从抗静电剂 层上剥离时的强度，将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
[0082] (抗静电剂的表面的表面电阻率的测定方法）
[0083] 将剥离膜从抗静电表面保护膜的试样剥离后，使用高电阻电阻率计菱化学 Analytech社制化resta(注册商标)-UP)，在施加电压100V、测定时间30秒的条件下测定抗 静电剂层的表面的表面电阻率。
[0084] 〈抗静电表面保护膜的粘结力的测定方法〉
[0085] 使用贴合机，在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片）。然后， 在偏振片的表面上贴合剪裁成宽度25mm的抗静电表面保护膜后，在23°CX50%畑的试验环 境下保存1天。然后，使用拉伸试验机W300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上，测定剥离 抗静电表面保护膜时的强度，将其作为粘结力(N/25mm)。
[0086] 〈抗静电表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
[0087] 使用贴合机，在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片）。然后， 在偏振片的表面上经由抗静电剂层贴合剪裁成宽度25mm的抗静电表面保护膜后，在23°CX 50%畑的试验环境下保存1天。然后，使用高速剥离试验机(Tester产业制每分钟40m的 剥离速度剥离抗静电表面保护膜，同时使用表面电位计化eyence(株）制)每10ms测定所述 偏振片表面的表面电位，将此时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压化V)。
[0088] 〈抗静电表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
[0089] 使用贴合机，在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片）。然后， 在偏振片的表面上经由抗静电剂层贴合剪裁成宽度25mm的抗静电表面保护膜后，在23°CX 50%畑的试验环境下保存3天及30天。然后，剥下抗静电表面保护膜，W目视观察偏振片的 表面的污染性。作为表面污染性的判定基准，W偏振片上无污染转移的情况评为（〇)，确认 到偏振片上有污染转移的情况评为（X)。
[0090] 对于得到的实施例1~4及比较例1~3的抗静电表面保护膜，所测定的测定结果如 表1及表2所示。LiTFSr意为双Ξ氣甲烧横酷亚胺裡，"LiFSr意为双氣横酷亚胺裡，"FC- 4400"意为双Ξ氣甲烧横酷亚胺Ξ正下基甲锭。此外，抗静电剂层的表面的表面电阻率一栏 中的"5.犯9"意为5.9 X 109，"超量程(Over-range)"意为表面电阻率（Ω /□)超过测定上限 值(1.0Xl〇i3W上），无法测定。
[0091] [表1]
[0092]
[00M] 根据表1及表2所示的测定结果可知：
[0096]本发明的实施例1~4的抗静电表面保护膜即使经由抗静电剂层贴合，仍具有适度 的粘结力，没有对被粘物的表面的污染，且将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离 静电压低。
[0097]另一方面，在粘结剂层中均匀混合有抗静电剂的比较例1的表面保护膜，从被粘物 上剥离表面保护膜时的剥离静电压低，为良好，但在保存30天后，经时的对被粘物的污染性 恶化。此外，在粘结剂层的表面未设有抗静电剂层的比较例2的表面保护膜，从被粘物上剥 离表面保护膜时的剥离静电压变高。更进一步，增加了抗静电剂层的厚度的比较例3,从被 粘物上剥离表面保护膜时的剥离静电压低，为良好，但剥离后的对被粘物的污染增多。
[009引工业实用性
[0099]本发明的抗静电表面保护膜能够用于例如偏振片、相位差板、透镜膜等光学用膜、 W及其他各种的光学部件等的生产工序等中，贴合于该光学部件等保护其表面。此外，本发 明的表面保护膜能降低在从被粘物上剥离时产生的静电的量，且剥离抗静电性能的经时变 化及对被粘物的污染少，能够提高各种的光学部件等生产工序的成品率，在工业上的利用 价值大。
【主权项】
1. 一种抗静电表面保护膜，其特征在于，其在由具有透明性的树脂构成的基材膜的一 个面上，依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层、抗静电剂层、经剥离处理的剥离 膜。2. 根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述抗静电剂层含有离子化 合物。3. 根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述抗静电剂层含有以碱金 属作为阳离子的离子化合物。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述抗静电剂 层的厚度为〇.〇1~〇.3μηι。5. -种光学部件，其由贴合根据权利要求1~4中任一项所述的抗静电表面保护膜而 成。
【文档编号】C09J9/02GK106010323SQ201610076854
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年2月3日
【发明人】小林弘幸, 新见洋人, 春日充, 铃木千惠, 五十嵐智美, 木俣绘美子, 林益史
【申请人】藤森工业株式会社