专利名称：容积流体分配系统中流体状态的控制的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于在流体分配系统中控制流体状态的装置和方法。更特别 的是，本发明提供一种改进的装置和方法，用于在半导体制造过程或其它相关应用 中控制将加工流体供给到应用点(points of use)的容积流体分配回路中的超高 纯度或浆料流体的压力。
背景技术：
半导体装置的制造是一个复杂的过程，常常需要超过200道工序。每个步骤 要求状态的最优配置以获得半导体装置的高产出率。这些工序中的很多步骤要求使 用流体，尤其是在制造过程中用于蚀刻、曝光、镀层和抛光装置的表面。在高纯度 流体应用中，流体必须基本上不含颗粒和金属杂质，以避免成品装置中的缺陷。在 化学一机械抛光浆料应用中，浆料必须不含能够刮伤装置表面的大颗粒。此外，在 制造过程中，必须有稳定充足的流体供应到执行不同步骤的加工工具，以避免操作 变动和生产停工。
自从九十年代引入半导体巿场以来，容积流体分配系统已经在半导体制造过 程中扮演了重要角色。因为这些系统基本上由惰性的润湿材料构造，例如过氟烷氧 基(PFA)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氯乙烯(PVC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或聚乙 烯(PE)，并且因为它们使用惰性的压缩气体或具有惰性的润湿材料的泵作为供给 流体的动力，它们基本上不会使加工流体带有颗粒和金属杂质。另外，单个的容积 流体分配系统可以以足够的压力向多个应用点提供连续的加工流体供给。因此，流 体分配系统的出现在半导体制造过程中起到了重要的作用。
由于种种理由(例如O型圈失效、阀失效或者含有杂质的输入流体)，容积流 体分配系统在流体供给管线中包括过滤器。然而，通过过滤器的流体的流速的急剧 变化对过滤器造成液压冲击，导致之前滤过的颗粒被释放到流体中，因此产生颗粒 浓度的峰值。尽管保持通过过滤器的流体的最小流速有助于减少颗粒的释放，但是
问题没有消除。相应地，流体的压力和流量波动会导致在流体中颗粒浓度的波动， 这会导致半导体晶片的缺陷。
此外，正如以上所讨论的，流体分配系统常常供给许多工具。当工具需要加 工流体时，该系统开始从供给管线泵送流体，这造成供给管线中的流体压力下降大
约5到大约25psi。具有泵一压力容器发动机或泵-脉冲-阻尼器发动机的典型的流 体分配系统不能充分地维持加工流体供给管线中的恒定或充足的压力。因此，需要 有一种流体分配系统，其可以提供恒定的压力和流速并消除供给管线中流体的压力 和流量波动。
图1给出了已知的具有泵-压力容器发动机的流体分配系统。泵-压力容器系 统100包括泵101，通常是气动的双膜片泵，具有梭阀103。高压气源105，例如 洁净的干燥空气(CDA)，将高压气体供给到梭阀103中的电磁阀103a和103b。高 压气体通常利用机械的圆顶-负荷压力调节器107来调节以维持供给到电磁阀103a 和103b的恒定气体压力。控制器109通过向阀交替地发送电信号以恒定的速率控 制电磁阀103a和103b的循环速率。每个电磁阀103a和103b都连接到泵101的膜 片，因此电磁阀的循环速率与泵IOI的动作速率(stroke rate)相对应。
系统100进一步包括由惰性的润湿材料构造的压力容器111，例如过氟垸氧基 (PFA)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氯乙烯(PVC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或聚乙烯 (PE)。惰性气源113将惰性气体，例如氮，供给到容器U1，作为驱动流体从容 器111经由过滤器(未显示)到达流体供给管线115的动力。供给到容器iH的惰 性气体的压力通过机械调节器117凋节为恒定压力。如上所述，流体供给管线I15 经常将流体供给到几个应用点(例如半导体加工工具)(未显示)。
泵101接收来自流体源119的流体并将流体分配到容器111的顶部。当流体 被施加到容器111时，容器111中的排气孔(未显示)允许所有的气体排出。两个 液位传感器121和123 (即电容传感器)被用来监测容器111中处于高位(通过传 感器121指示)和中点位置(通过传感器123指示)的流体液位。容器111包括内 部管路(未显示)，该管路从流体入口延伸到正好位于中点传感器123下方的那一 点，以避免流体流入容器时飞溅。
在工作期间，当容器lil中的流体液位到达中点传感器123时，泵101起动 以重新充填容器111直到高位传感器121。每当泵起动时，动作速率和供给到泵的 气体压力是相同的。类似地，调节器117维持供给到容器111的恒定的惰性气体压
力。
在泵-压力容器流体分配系统中，存在着几个可能导致流体压力损失的因素， 包括1)通过过滤器的压力损失；2)来自管道、阀及其它的此类元件的摩擦损失;
3)位于高位和中点传感器121和123之间的流体的高差压力(head pressure)的 变化；和4)来自应用点的流体需要。头两个因素通常引起流体压力的恒定损失， 虽然在某些应用中，因为更多的颗粒被俘获，通过过滤器的压力损失随着时间而增 加。相反地，根据容器101中流体的液位或不管是否存在来自应用点的流体需要， 第三和第四因素会造成压力波动。因此，在工作过程中，系统100的供给管线115 中的流体压力持续波动，正如以上所讨论的，这会造成对过滤器的液压冲击和在应 用点的不可预知的流体状态。
因此，需要一种改进的泵-压力容器流体分配系统，该系统基本上减少或消除 供给管线中流体的压力波动并保证处于应用点的一致的流体状态。
另一种流体分配系统使用泵-脉冲-阻尼器发动机。图2给出了常用的泵-脉冲 -阻尼器流体分配系统。与上述相关的泵-压力容器系统ioo以同样方式构造的系统 200包括气动的双膜片泵201、梭阀203、高压气源205、调节器207和控制器209。 然而，压力容器被替换了，系统200包括带有隔膜或波纹管(未显示)的脉冲-阻 尼器211，该阻尼器最小化由泵201引起的供给管线215中流体的压力波动。气源 205将通过调节器217 (例如机械调节器)调节到恒定压力的高压气体供给到脉冲-阻尼器211和内部隔膜的顶部。
在工作过程中，泵201从流体源219吸入流体并将流体分配到流体供给管线 215。过滤器(未显示)通常位于从脉冲-阻尼器211起的下游。
在泵-脉冲-阻尼器流体分配系统中，存在着几个导致流体压力损失的因素， 包括1)通过过滤器的压力损失；2)来自管道、阀及其它此类元件的摩擦损失； 3)由正向移置泵的运行引起的脉动；和4)来自应用点的流体需要。如同泵-压力 容器系统一样，头两个因素引起流体中恒定的压力损失，虽然在某些应用中，因为 更多的颗粒波俘获，通过过滤器的压力损失随着时间而增加。相反地，由于一个或 多个应用点的需要(例如加工工具)，第三因素造成流体压力降低大约5psi到大约 25pS1。因此，在工作过程中，供给管线215中的流体压力持续波动。
因此，需要一种改进的泵-脉冲-阻尼器流体分配系统，该系统基本上减少或 消除供给管线中流休的压力波动并在应用点处保证一致的流体状态。
需要指出的是，系统100和200以两种结构中的一种进行工作l)利用外围
(fab-wide)重复循环；和2)利用内部重复循环。当系统被构造为利用外围重复 循环进行工作时，流体连续地从系统出口流出，流经供给管线115或215并回到流 体源119或219 (通常为日用油柜或圆筒)。然而，这样的系统要求大量的资源， 例如气体和能源来操作，因此经常优选以内部重复循环模式进行工作。当系统被构 造为利用内部重复循环工作时，装配滑流(slipstream)以使流体从恰好在供给管 线115或215中的过滤器下游的那一点重复循环到流体源119或219。当没有来自 应用点的流体需要时，外围重复循环停止(一般通过关闭位于从滑流起的下游的供 给管线中的阀)。内部重复循环管道维持经由过滤器的恒定流速并减少操作系统所 要求的资源量。
发明内容
一种用来控制流体分配系统的供给管线中流体压力的装置，包括适于接收
来自流体源的流体的泵；包括用来测量容器中流体液位的液位传感器的容器，其中 该容器适于从泵接收流体并将流体分配到供给管线；用来将惰性气体供给到容器的 惰性气源，其中调节器适于调节惰性气体的压力设置在供给管线中的流体传感器； 和控制器，该控制器适于接收来自流体传感器的控制信号并将分配信号发送到调节 器以调整惰性气体的压力，从而维持供给管线中流体的预定压力。
一种用来控制容积流体分配系统中流体压力的方法，该系统包括泵；容器， 该容器具有液位传感器并适于接收用来加压容器的惰性气体以及将流体分配到供
给管线；用来调节惰性气体压力的惰性气体调节器；流体传感器；以及控制器，该 控制器适于接收来自流体传感器的控制信号并将信号发送到惰性气体调节器，该方 法包括以下步骤通过基于来自液位传感器的信号调整泵的流速来维持容器中流体 的第一液位；加压容器以将流体分配到供给管线；和调整供给到容器的惰性气体压 力以将供给管线中流体的压力维持在用户定义的给定值。
图1是现有技术的具有泵-压力容器发动机的容积流体分配系统的示意图。 图2是现有技术的具有泵-脉冲-阻尼器发动机的流体分配系统的示意图。
图3是本发明的具有泵-压力容器发动机的容积流体分配系统的实施例的示意
图。
图4是本发明的具有泵-脉冲-阻尼器发动机的流体分配系统的实施例的示意图。
具体实施例方式
图3和图4给出了本发明的实施例。发明给出了一种具有基于泵的发动机的 流体分配系统，该系统对容积流体供给管线中流体的压力和流量状态提供稳定控 制。图3给出了根据本发明的泵-压力容器系统300的实施例。系统300包括具有 梭阀303的泵301 (例如往复泵、气动双膜片泵或其它类型的正向移置泵)。梭阀 303可以是外部梭阀或内部梭阀。高压气源305 (例如洁净的干燥空气)将气体供 给到梭阀303中的一对电磁阀303a和303b。主调节器308(例如电动-气动调节器) 和从调节器307 (例如圆顶-负荷压力调节器)被用来控制和调节供给到梭阀303 的高压气体的压力。主调节器308通过电路连接或通过无线连接连接到控制器309。 虽然图3中给出了主调节器和从调节器的构造，也可以使用单个的电磁调节器。
在使用外部梭阀的地方，控制器309通过交替地向阀发送电信号(为简化起 见，未在图3中显示)来控制电磁阀303a和303b的循环速率。每个电磁阀303a 和303b都连接到泵301的膜片，因此电磁阀的循环速率与泵301的动作速率相对 应。在一个实施例中，本发明设想主动地控制和调整供给到梭阀303的气体压力或 主动地控制和调整梭阀的循环速率，或两者皆有。
系统300进一步包括由惰性的润湿材料构造的压力容器311，例如过氟垸氧基 (PFA)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氯乙烯(PVC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或聚乙烯 (PE)。惰性气源313将惰性气体(例如氮)供给到容器3U，以便为通过过滤器 (未显示)和流体供给管线315的流体提供驱动力。主调节器318 (例如电动-气 动调节器)和从调节器317 (例如圆顶-负荷压力调节器)控制和调节供给到容器 311的惰性气体的压力。虽然优选使用主调节器和从调节器结构，但单个的调节器 (例如电动-气动调节器)也可用来基于来自控制器309的信号对惰性气体压力提 供主动控制。供给管线315将流体供给到几个应用点(例如半导体加工工具)(未 显示)。
加工流体源319连接到泵301的入口顶ij，该泵将流体分配到容器311的顶部，
如图3所示。优选地，容器311包括从位于容器311的顶部的流体入口延伸到容器
中点的内部管路(未显示)。重要的是，流入液体的动力不会防碍从容器311分配
的流体的动力，以便最小化供给管线315中流体的任何压力波动。当流体被施加到 容器311时，容器311中的排气孔(未显示)允许气体排出。在优选实施例中，测 力传感器321安装在容器311上以检测容器311中流体液位的变化。然而，电容、 光学或数字传感器也可用来监测容器中流体的液位，正如根据图1在前所述的一 样。
在工作过程中，控制器309接收来自测力传感器321的信号并且确定容器311 或容器中流体的重量是否位于高低给定值之间，该给定值优选的是用户可配置的。 当控制器309确定该重量处于低给定值时，它将向主调节器308和电磁阀303发送 信号并起动泵301。相反地，当控制器309确定该重量处于高给定值时，它使泵301 停止工作。与电容、光学和数字传感器相比，测力传感器对容器中流体液位的变化 非常敏感，所以给定值可被构造为将重量控制在小公差范围内，这将最小化由于容 器311中流体高差压力的变化所引起的供给管线315中流体压力的波动。同样地，
给定值可被构造为维持相同的重量，这将消除由于高差压力变化所引起的任何压力 波动；然而，在这种结构中，泵301将持续工作。
虽然系统300已经被描述为具有测力传感器，在次级优选实施例中，也可以 使用电容、光学或数字传感器代替测力传感器。在这种结构中， 一个传感器设置在 容器311的高液位而另一个传感器设置在容器311的中点液位。当流体液位到达中 点传感器时，控制器309将起动泵301以充填容器直到高液位传感器。因此，在这 种结构中，容器311中的流体将在高液位和中点液位之间交替，因此造成容器311 中的高差压力波动以及供给管线315中的压力波动。
系统300进一步包括优选设置在靠近连接到应用点的进给管线、位于供给管 线315的中点的传感器325 (未显示)。该传感器连续地或周期地监测供给管线315 中的流体压力并向控制器309发送相应的信号。此后，控制器309向主调节器318 发送电信号以调整供给到容器311的惰性气体分配压力(通过从调节器317调节)， 以便将供给管线315中的流体压力维持在用户可配置的给定值。因此，系统300 被构造为对供给管线315中的流体的压力和流量状态提供稳定控制。
本发明的泵-压力容器系统300基本上减少或消除了由下列因素引起的供给管 线315中流体的压力波动1)通过过滤器的压力损失；2)来自管路、阀及其它此 类元件的摩擦损失；3)在高低给定值之间的流体高差压力的变化；和4)来自应用点的流体需要。因为压力被控制在供给管线315中传感器325的位置，控制器 309将自动地调整供给到容器311的惰性气体分配压力以便克服来自过滤器及其它 系统元件的几乎恒定的压力损失。另外，正如以上所讨论的，通过将流体液位维持 在小范围或相同的液位，高差压力损失可以基本上减少或消除。然而，因为来自应 用点的流体需要是突然的、不可预知的，很难消除由这种突然的压力损失所引起的 所有波动。此外，多个应用点可能同时需要流体，因此压力损失增加。无论如何， 传感器325将检测供给管线315中流体压力的任何变化并且控制器309将相应地调 整供给到容器311的惰性气体分配压力。因此，与图1所示的现有技术的系统100 相比，本发明的系统300充分地改进了供给管线315中的流体状态。
系统300还可以被构造为当每个应用点需要流体时接收它们的信号。这些信 号将由控制器309用来预测向主调节器318发送的适当信号，以便获得供给到容器 311的必要的惰性气体分配压力。在这种结构中，控制器309对供给管线315中动 态变化的反应时间比不向控制器309传送需要信号的系统300快。
如图3所示，系统300还可以被构造为控制供给到梭阀303的高压气体305 的压力。主调节器308 (例如电动-气动调节器)将接收来自控制器309的电信号， 随后向从调节器307 (例如圆顶-负荷压力调节器)依次发送气动信号以调整供给 到梭阀的气体压力。虽然优选使用主调节器和从调节器结构，但单个的调节器(例 如电动-气动调节器)可用来基于来自控制器309的信号对供给到梭阀的气体压力 提供主动控制。供给到梭阀303中的电磁阀303a和303b的增加压力将使泵中的膜 片更快地运动。因此，在高需求时期，其或者通过传感器315、需求信号(未显示， 不过上面讨论到了)或通过测力传感器321或通过三者所指示，泵送速率可被调节 为向供给管线315提供足够的流体。
类似地，在图3所示的系统300中，电磁阀303a和303b的循环速率还可以通过控制器309调整以增加泵301的流速。在工作过程中，控制器309向电磁阀303a和303b发送信号，造成它们交替触发并循环起动(即每个阀在一个循环中起动一次)。在高需求时期，控制器309将增加循环速率，这将导致通过泵301的高流速因'此向供给管线315提供足够的流体。因此，系统300与上述的现有技术的系统100相比，对供给管线中的流体状态提供更大的灵活性和控制。进一步设想系统300可以利用外围重复循环或内部重复循环进行工作。
图4给出了本发明的另一个实施例。与系统300类似，系统400包括流休进
给管线419、具有外部梭阔403的泵401、通过主调节器408和从调节器407调节 的用于梭阀403的高压气源405、控制器409和设置在供给管线415中的传感器425。 然而，代替的压力容器是，系统400包括泵401下游侧的脉冲-阻尼器411。此外， 虽然优选使用主调节器和从调节器结构，但单个的调节器(例如电动-气动调节器) 可被用来基于来自控制器409的信号对供给到梭阀403的气休压力提供主动控制。
系统400还包括脉冲-阻尼器411以便最小化由泵401的运行所引起的流体的 压力波动。特别是，由于泵的机械振动和在流体中产生的湍流，往复泵造成被泵送 流体中的压力波动。脉冲-阻尼器411包括内部隔膜或波纹管(未显示)。高压气体 405被供给到膜片的顶部并通过机械调节器417(例如圆顶-负荷压力调节器)调节。 因为供给管线415中的流体压力波动，作用在膜片底部的向上的力波动并且膜片机 械地调节以衰减流体中的任何压力脉动。机械调节器417可以替换为电动-气动调 节器(未显示)，那将使控制器409主动地调整供给到脉冲-阻尼器的气体405的压 力，以便改进其在减少供给管线415中流体的压力脉动方面的性能。另外，供给到 该脉冲-阻尼器的高压气体的压力可以基于来自应用点或设置在供给管线中的传感 器425的需求信号来调节。
与系统300相似，存在着儿个可以导致供给管线415中流体压力波动的因素， 包括1)通过过滤器的压力损失；2)来自管道、阀及其它此类元件的摩擦损失； 3)来自泵的压力脉动；和4)来自应用点的流体需要。为了补偿这种压力波动， 系统400监测供给管线415中的压力并且调整泵送压力和/或动作速率以补偿所有 变化。
在工作过程中，控制器409连续地或周期地接收来自传感器425的、与供给 管线415中流体压力相对应的信号。控制器409试图通过调整泵401的速度将供给 管线415中的流体压力维持在用户可配置的给定值。控制器409可以通过调整供给 到梭阀403的气体405的压力或调整电磁阀403a和403b的循环速率，或两者者一起调整以实现该目的。
当控制器409调整供给到泵401的气体压力时，向主调节器408发送信号以调整供给到电磁阀403a和403b的气体压力。如果压力较高，将向泵的膜片施加更大的压力，因此使它们更快地运动。这导致供给管线中流体具有更高的流速和更高的压力。如果较低的压力被供给到电磁阀403a和403b，那么膜片将较慢地运动并具有较小的力，因此减少供给管线415中的流体压力。 当控制器409调整电磁阀403a和403b的循环速率时，它简单地改变触发和 起动阀的速率。为了增加压力，控制器409以较快的速率循环阀，反之为了减少压 力，控制器以较慢的速率循环电磁阀403a和403b。
控制器409还调整供给到泵401的气体压力和电磁阀403a和403b的循环速 率以获得最佳性能。例如，当供给管线415中的压力下降时，增加供给到电磁阀 403a和403b的压力可以很快地使供给管线中的流体压力增加，但是由泵401的运 行所引起的压力脉动会变得更大。因此，按需用压力的百分比增加供给到电磁阀 403a和403b的压力和通过增加电磁阀403a和403b的循环速率来补偿附加压力是
有利的。
如图3和图4所示，在制造过程中，本发明对供给到应用点(例如半导体加 工工具)的流体的压力和流量状态提供稳定控制。半导体制造过程长期需要改进基 于泵的流体分配系统，以便以恒定的压力和流量状态供给流体，从而最终改进半导 体微电路装置的产出率。
可以预料的是，根据上述的描述和例子，本发明其它的实施例和变化对本领 域的技术人员是显而易见的，而上述的实施例和变化同样包括在随后的权利要求所 阐述的本发明的范围之内。
权利要求
1.一种用来控制流体分配系统的供给管线中流体压力的装置，包括适于接收来自流体源的流体的泵；用来测量容器中流体液位的液位传感器的容器，其中该容器适于从泵接收流体并将流体分配到供给管线；用来将惰性气体供给到容器的惰性气源，其中该调节器适于调节惰性气体的压力；设置在供给管线中的流体传感器；和控制器，该控制器适于接收来自流体传感器的控制信号并将分配压力信号发送到调节器以调整惰性气体的压力，以便维持供给管线中流体的预定压力。
2. 如权利要求l所述的装置，其特征在于，该液位传感器是测力传感器。
3. 如权利要求l所述的装置，其特征在于，该液位传感器是从由电容、光学 和数字传感器组成的传感器组中选出来的。
4. 如权利要求3所述的装置，其特征在于，还包括从由电容、光学和数字传 感器组成的传感器组中选出来的第二液位传感器，其中，该第二液位传感器适于测量容器中流体的第二液位。
5. 如权利要求l所述的装置，其特征在于，该容器包括聚合材料。
6. 如权利要求5所述的装置，其特征在于，该聚合材料是从由过氟烷氧基、 聚四氟乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯和聚乙烯组成的聚合物组中选出来的。
7. 如权利要求l所述的装置，其特征在于，该流体是半导体加工流体。
8. 如权利要求7所述的装置，其特征在于，该半导体加工流体是从由酸、底 基、化学-机械抛光浆料和溶剂组成的流体组中选出来的。
9. 如权利要求l所述的装置，其特征在于，该调节器是电动－气动调节器。
10. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括从调节器，用于调节惰性气体的压力并适于接收气动信号。
11. 如权利要求9所述的装置，其特征在于，还包括从调节器，用于调节惰性气体的压力并适于接收来自电动－气动调节器的气动信号。
12.如权利要求1所述的装置，其特征在于，该泵包括具有一对电磁阀的外部梭阀，并且该控制器适于调整该电磁阀的循环速率。
13. 如权利要求12所述的装置，其特征在于，该控制器适于接收来自通过供给管线供给的半导体加工工具的需求信号并基于该需求信号调整循环速率。
14. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，该泵是包括一对膜片和外部梭 阀的气动双膜片泵，该梭阀具有一对用于向该膜片供给高压气体的电磁阀。
15. 如权利要求14所述的装置，其特征在于，还包括用于调节供给到该梭阀 的高压气体的压力的高压气体调节器。
16. 如权利要求15所述的装置，其特征在于，该控制器适于向高压调节器发 送信号以调整该高压气体的压力，以便将流体维持在容器中的预定液位。
17. 如权利要求15所述的装置，其特征在于，该控制器适于向调节器发送信 号以便基于来自半导体加工工具的需求信号调整高压气体的压力。
18. 如权利要求15所述的装置，其特征在于，还包括从调节器，适于接收来 自高压调节器的气动信号并调节供给到梭阔的高压气体的压力。
19. 如权利要求1所述的装置，其特征在于，该泵包括具有一对电磁阀的内 部梭阀，并且其中，该控制器适于调整供给到该电磁阀的高压气体的压力。
20. —种用来控制流体分配系统的供给管线中流体压力的装置，包括 具有梭阀的泵，该梭阀包括一对电磁阀，其中该泵适于接收来自流体源的流体并将该流体供给到供给管线；用来将高压气体供给到一对电磁阀的高压气源； 用于调节供给到该电磁阀的高压气体的压力的高压气体调节器； 设置在供给管线中的流体传感器；和控制器，该控制器适于接收来自流体传感器的控制压力信号并维持供给管线 中流体的预定压力。
21.根据权利要求20所述的装置，其特征在于，还包括设置在泵下游的供给管线中的脉冲阻尼器。
22. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，该脉冲阻尼器包括隔膜，并且 其中，'该高压气源将高压气体供给到该隔膜的顶部。
23. 如权利要求22所述的装置，其特征在于，第二高压气体调节器设置为调节供给到该脉冲阻尼器的高压气体。
24. 如权利要求23所述的装置，其特征在于，该调节器是从由圆顶-负荷压力调节器和电动-气动压力调节器组成的调节器组中选出来的。
25. 如权利要求23所述的装置，其特征在于，该控制器适于向第二高压气体调节器发送信号以调整供给到隔膜顶部的高压气体的压力。
26. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，该控制器适于向高压气体调节器发送信号以调整供给到泵的高压气体的压力。
27. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，还包括从调节器，用于接收来自该高压气体调节器的气动信号。
28. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，该泵包括具有一对电磁阀的内部梭阀。
29. 如权利要求28所述的装置，其特征在于，该控制器适于调整供给到电磁 阀的高压气体的压力。
30. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，该泵包括具有一对梭阀的外部梭阀。
31. 如权利要求30所述的装置，其特征在于，该控制器适于凋整电磁阀的循环速率。
32. 如权利要求20所述的装置，其特征在于，该泵是气动双膜片泵。
33. —种用来控制容积流体分配系统中流体压力的方法，该系统包括泵； 容器，该容器具有液位传感器并适于接收用来加压容器的惰性气体以及将流体分配 到供给管线；用来调节惰性气体压力的惰性气体调节器；流体传感器；以及控制器， 该控制器适于接收来自流体传感器的控制信号并将信号发送到惰性气体调节器，该方法包括以下步骤通过基于来自液位传感器的信号调整泵的流速，从而维持容器中流体的第一液位；加压容器以将流体分配到供给管线；和凋整供给到容器的惰性气体压力以将供给管线中流体的压力维持在用户定义的给定值。
全文摘要
一种用于控制半导体制造过程中供给管线中流体压力的改进的容积流体分配系统。该分配系统包括带有压力容器或脉冲阻尼器的基于泵的发动机。在泵—压力容器实施例中，控制器监测供给管线中的流体压力并调整容器的分配压力。在泵—脉冲阻尼器实施例中，控制器监测供给管线中的流体压力并调整泵的流速以将供给管线中的压力维持在预定的给定值。
文档编号B67D7/72GK101208258SQ200680006461
公开日2008年6月25日 申请日期2006年3月6日 优先权日2005年3月4日
发明者B·R·罗伯特, D·杰肯 申请人:波克爱德华兹股份有限公司