玻璃基板传递系统及其机械手的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种玻璃基板传递系统及其机械手，该机械手包括基板叉、移动组件、真空吸盘以及散热组件，其中，基板叉用于叉取玻璃基板，移动组件与基板叉连接，用于使得基板叉在工作空间内移动，真空吸盘设于基板叉上，用于吸取玻璃基板，散热组件设于基板叉、移动组件或真空吸盘的侧边，用于在真空吸盘受热且非吸持玻璃基板时移动至真空吸盘上方，以对真空吸盘进行散热。本发明提供的玻璃基板传递系统及其机械手及时对真空吸盘进行降温，避免因真空吸盘过热影响产品质量，提升了产品良率。
【专利说明】玻璃基板传递系统及其机械手
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示器制造【技术领域】，具体涉及一种机械手，还涉及一种玻璃基板传递系统。
【背景技术】
[0002]LCD产线皆会配置机械手，机械手经常需要在高温炉与其它制程机台之间往返作业，机械手很容易在高温炉作业中受热导致温度上升，若此时立即去其他制程机台作业，很可能会因机械手过热的高温而影响产品质量，导致玻璃基板亮度不均匀，造成各种痕迹的现象。
[0003]请参阅图1，图1是机械手位于高温炉内的工作示意图。
[0004]其中，高温炉310内部温较高，机械手100伸入高温炉310作业时，随时间的延长温度逐渐升高。
[0005]请一并参阅图2和图3，图2是机械手搬运玻璃基板的工作示意图，图3是图2所示的机械手的侧面结构示意图。
[0006]在多数情况下，机械手100从高温炉310中退出后，通常是尚未降温就进行玻璃基板200的搬运工作，此时，机械手100上的真空吸盘130会将高温传给玻璃基板200，导致玻璃基板200上产生坏点，影响产品质量。
【发明内容】
[0007]本发明提供一种玻璃基板传递系统及其机械手，能够解决现有技术中机械手会导致玻璃基板上产生坏点，影响产品质量的问题。
[0008]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是提供一种机械手，包括:
[0009]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0010]移动组件，与所述基板叉连接，用于使得所述基板叉在工作空间内移动；
[0011]真空吸盘，设于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板；
[0012]散热组件，设于所述基板叉、所述移动组件或所述真空吸盘的侧边，用于在所述真空吸盘受热且非吸持所述玻璃基板时移动至所述真空吸盘上方，以对所述真空吸盘进行散热。
[0013]根据本发明一优选实施例，所述散热组件包括依次连接的气体喷嘴、气管以及气泵，所述气体喷嘴用于向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0014]根据本发明一优选实施例，所述气体喷嘴为一个，所述一个气体喷嘴移动至所述真空吸盘的中间上方并向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体；或者
[0015]所述气体喷嘴为多个，所述多个气体喷嘴移动至围绕所述真空吸盘并向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0016]根据本发明一优选实施例，所述真空吸盘为一圈结构或同心设置的多圈结构。
[0017]根据本发明一优选实施例，所述真空吸盘设有流体回路，所述流体回路内装有冷却流体，所述流体回路设于所述圈结构的内部，或者所述流体回路设于所述圈结构之间。
[0018]为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是提供一种玻璃基板传递系统，包括:
[0019]高温炉及其他制程机台；
[0020]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0021]移动组件，与所述基板叉连接，用于使得所述基板叉在工作空间内移动；
[0022]真空吸盘，设于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板；
[0023]散热组件，设于所述高温炉、所述其他制程机台、所述基板叉、所述移动组件或所述真空吸盘的侧边，用于在所述真空吸盘受热且非吸持所述玻璃基板时移动至所述真空吸盘上方，以对所述真空吸盘进行散热。
[0024]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况，本发明提供的玻璃基板传递系统及其机械手及时对真空吸盘进行降温，避免因真空吸盘过热影响产品质量，提升了产品良率。
【专利附图】
【附图说明】
[0025]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，其中:
[0026]图1是机械手位于高温炉内的工作示意图；
[0027]图2是机械手搬运玻璃基板的工作示意图；
[0028]图3是图2所示的机械手的侧面结构示意图；
[0029]图4是本发明一优选实施例的机械手的简化结构示意图；
[0030]图5是图4所示的机械手的一种工作状态示意图；
[0031]图6是图4所示的机械手的另一种工作状态示意图；
[0032]图7是图4所示的机械手的局部放大图；
[0033]图8是本发明另一优选实施例的机械手的简化结构示意图；
[0034]图9是本发明另一优选实施例的机械手的简化结构示意图。
【具体实施方式】
[0035]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0036]请一并参阅图4，图4是本发明一优选实施例的机械手的简化结构示意图。
[0037]本发明提供的机械手100包括基板叉110、移动组件120、真空吸盘130以及散热组件150。
[0038]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移动组件120与基板叉110连接，用于使得基板叉110在工作空间内移动，真空吸盘130设于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，散热组件150设于基板叉110、移动组件120或真空吸盘130的侧边，用于在真空吸盘130受热且非吸持玻璃基板200时移动至真空吸盘130上方，以对真空吸盘130进行散热。
[0039]其中，散热组件150包括依次连接的气体喷嘴、气管以及气泵，气体喷嘴用于向真空吸盘130喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0040]在一种实施例中，气体喷嘴可为一个，一个气体喷嘴移动至真空吸盘130的中间上方并向真空吸盘130喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0041]在另一种实施例中，气体喷嘴可为多个，多个气体喷嘴移动至围绕真空吸盘130并向真空吸盘130喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0042]请一并参阅图5和图6，图5和图6示出了机械手的两种工作状态示意图。
[0043]一般情况下，散热组件150位于机械手100的侧边，当机械手100从高温炉310中退出且处于非吸持玻璃基板200状态时，散热组件150从机械手100的侧边移至真空吸盘130的上方，对真空吸盘130喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
[0044]请一并参阅图7，图7是图4所示的机械手的局部放大图。
[0045]机械手100上设有多个真空吸盘130，每一真空吸盘130可为一圈结构，或者，每一真空吸盘130可为同心设置的多圈结构。图7中示出了真空吸盘130呈两圈结构的情况。
[0046]进一步地，该真空吸盘130设有流体回路140，流体回路140内装有冷却流体，流体回路140设于真空吸盘130圈结构的内部，或者流体回路140设于真空吸盘130圈结构之间，以时实对真空吸盘130进行散热。
[0047]请同时参阅图1、图4-图6，本发明还提供一种玻璃基板传递系统300，该玻璃基板传递系统300包括高温炉310及其他制程机台(图未示)以及上述的机械手100。机械手100的具体结构参照上文，此处不再重复赘述。
[0048]其中，散热组件150可设于高温炉310、其他制程机台、基板叉110、移动组件120或真空吸盘130的侧边，用于在真空吸盘130受热且非吸持玻璃基板200时移动至真空吸盘130上方，以对真空吸盘130进行散热。
[0049]请一并参阅图8，图8是本发明另一优选实施例的机械手的简化结构示意图。
[0050]在本实施例中，机械手100包括基板叉110、移动组件120、真空吸盘130。
[0051 ] 其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移动组件120与基板叉110连接，用于使得基板叉110在工作空间内移动，真空吸盘130设于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，该真空吸盘130设有流体回路140，流体回路140内装有冷却流体，以时实对真空吸盘130进行散热。
[0052]本实施例中，流体回路140设于真空吸盘130圈结构的内部，即流体回路140贯通基板叉110和真空吸盘130的圈结构的内部，以时实对真空吸盘130进行散热。
[0053]请一并参阅图9，图9是本发明另一优选实施例的机械手的简化结构示意图。
[0054]在本实施例中，机械手100包括基板叉110、移动组件120、真空吸盘130。
[0055]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移动组件120与基板叉110连接，用于使得基板叉110在工作空间内移动，真空吸盘130设于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200。该真空吸盘130设有流体回路140，流体回路140内装有冷却流体，以时实对真空吸盘130进行散热。
[0056]本实施例中，流体回路140设于真空吸盘130圈结构之间，即流体回路140贯通基板叉I1和真空吸盘130的两个圈结构之间，对两侧的圈结构进行散热以时实对真空吸盘130进行散热。
[0057]请同时参阅图1、8、9，本发明还提供一种玻璃基板传递系统300，该玻璃基板传递系统300包括高温炉310及其他制程机台(图未示)以及图8或图9所述的真空吸盘130。真空吸盘130的具体结构参照上文，此处不再重复赘述。
[0058]综上所述，本领域技术人员容易理解，本发明提供的玻璃基板传递系统300及其机械手100及时对真空吸盘130进行降温，避免因真空吸盘130过热影响产品质量，提升了产品良率。
[0059]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的【技术领域】，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【权利要求】
1.一种机械手，其特征在于，包括: 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移动组件，与所述基板叉连接，用于使得所述基板叉在工作空间内移动； 真空吸盘，设于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板； 散热组件，设于所述基板叉、所述移动组件或所述真空吸盘的侧边，用于在所述真空吸盘受热且非吸持所述玻璃基板时移动至所述真空吸盘上方，以对所述真空吸盘进行散热。
2.根据权利要求1所述的机械手，其特征在于，所述散热组件包括依次连接的气体喷嘴、气管以及气泵，所述气体喷嘴用于向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
3.根据权利要求2所述的机械手，其特征在于，所述气体喷嘴为一个，所述一个气体喷嘴移动至所述真空吸盘的中间上方并向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体；或者 所述气体喷嘴为多个，所述多个气体喷嘴移动至围绕所述真空吸盘并向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
4.根据权利要求1所述的机械手，其特征在于，所述真空吸盘为一圈结构或同心设置的多圈结构。
5.根据权利要求4所述的机械手，其特征在于，所述真空吸盘设有流体回路，所述流体回路内装有冷却流体，所述流体回路设于所述圈结构的内部，或者所述流体回路设于所述圈结构之间。
6.—种玻璃基板传递系统,其特征在于,包括: 高温炉及其他制程机台； 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移动组件，与所述基板叉连接，用于使得所述基板叉在工作空间内移动； 真空吸盘，设于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板； 散热组件，设于所述高温炉、所述其他制程机台、所述基板叉、所述移动组件或所述真空吸盘的侧边，用于在所述真空吸盘受热且非吸持所述玻璃基板时移动至所述真空吸盘上方，以对所述真空吸盘进行散热。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板传递系统，其特征在于，所述散热组件包括依次连接的气体喷嘴、气管以及气泵，所述气体喷嘴用于向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
8.根据权利要求7所述的玻璃基板传递系统，其特征在于，所述气体喷嘴为一个，所述一个气体喷嘴移动至所述真空吸盘的中间上方向并所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体；或者 所述气体喷嘴为多个，所述多个气体喷嘴移动至围绕所述真空吸盘并向所述真空吸盘喷射常温洁净气体或低温洁净气体。
9.根据权利要求6所述的玻璃基板传递系统，其特征在于，所述真空吸盘为一圈结构或同心设置的多圈结构。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板传递系统，其特征在于，所述真空吸盘设有流体回路，所述流体回路内装有冷却流体，所述流体回路设于所述圈结构的内部，或者所述流体回路设于所述圈结构之间。
【文档编号】B65G49/06GK104210844SQ201410459837
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2014年9月10日 优先权日:2014年9月10日
【发明者】孙世英 申请人:深圳市华星光电技术有限公司