用于织造的高稳定托辊组件的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型是一种托辊组件，特别涉及一种用于织造的高稳定托辊组件。
【背景技术】
[0002]现有技术中的织造车间，织造好的布要进行平整，但常规的辊体只有卷绕功能，卷绕后布还是不平整，需要进行二次卷绕。
[0003]中国专利201420478191.8，公开了一种纺织染色织带托辊，包括:托辊、横梁、左侧架、右侧架，所述左侧架、右侧架之间设有横梁，左侧架、右侧架上端之间设有托辊，所述托辊通过托辊挂耳安装在左侧架、右侧架上，托辊挂耳上开设有挂槽，托辊的托辊旋转轴卡设在托辊挂耳上的挂槽内，所述左侧架、右侧架下端两侧固定设有移动支架，移动支架下端安装有移动轮，移动轮通过卡板固定安装在移动支架上。此结构相对复杂，而且使用性能较低。
【发明内容】
[0004]本实用新型主要是解决现有技术中存在的不足，结构紧凑，满足生产所需，进一步提升产品品质的用于织造的高稳定托辊组件。
[0005]本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
[0006]—种用于织造的高稳定托辊组件，包括辊体，所述的辊体中设有轴，所述的轴的两侧端延伸出辊体，所述的辊体的两侧壁分别设有旋转操作端，所述的旋转操作端与轴间设有滚动轴承，所述的滚动轴承的左侧端通过密封圈与轴、旋转操作端相密封，所述的滚动轴承的右侧端通过密封组件与轴、旋转操作端相密封，所述的密封组件通过密封盖相压接，所述的密封组件通过内挡圈与外挡圈相挡接；
[0007]所述的辊体的内壁设有电热温控层，所述的辊体的长度为750mm，所述的辊体的直径为89mm，所述的轴的直径为20_。
[0008]作为优选，所述的密封组件包括内密封圈和外密封圈，所述的内密封圈与外密封圈呈配接状分布，所述的轴与外挡圈间通过轴用弹性挡圈相定位。
[0009]电热温控层是通过控制器调节辊体的温度，使布更加的平整，卷绕更加的顺畅。
[0010]因此，本实用新型提供的用于织造的高稳定托辊组件，减少制备工序，提升产品质量。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
[0013]实施例:如图1所示，一种用于织造的高稳定托辊组件，包括辊体I，所述的辊体I中设有轴2，所述的轴2的两侧端延伸出辊体I，所述的辊体I的两侧壁分别设有旋转操作端3，所述的旋转操作端3与轴2间设有滚动轴承4，所述的滚动轴承4的左侧端通过密封圈5与轴
2、旋转操作端3相密封，所述的滚动轴承4的右侧端通过密封组件与轴2、旋转操作端3相密封，所述的密封组件通过密封盖6相压接，所述的密封组件通过内挡圈7与外挡圈8相挡接；
[0014]所述的辊体I的内壁设有电热温控层9，所述的辊体I的长度为750mm，所述的辊体I的直径为89_，所述的轴2的直径为20_。
[0015]所述的密封组件包括内密封圈1和外密封圈11，所述的内密封圈1与外密封圈11呈配接状分布，所述的轴2与外挡圈8间通过轴用弹性挡圈12相定位。
【主权项】
1.一种用于织造的高稳定托辊组件，其特征在于:包括辊体(I)，所述的辊体(I)中设有轴(2)，所述的轴(2)的两侧端延伸出辊体(I)，所述的辊体(I)的两侧壁分别设有旋转操作端(3)，所述的旋转操作端(3)与轴(2)间设有滚动轴承(4)，所述的滚动轴承(4)的左侧端通过密封圈(5)与轴(2)、旋转操作端(3)相密封，所述的滚动轴承(4)的右侧端通过密封组件与轴(2)、旋转操作端(3)相密封，所述的密封组件通过密封盖(6)相压接，所述的密封组件通过内挡圈(7)与外挡圈(8)相挡接； 所述的辊体(I)的内壁设有电热温控层(9)，所述的辊体(I)的长度为750mm，所述的辊体(I)的直径为89_，所述的轴(2)的直径为20_。2.根据权利要求1所述的用于织造的高稳定托辊组件，其特征在于:所述的密封组件包括内密封圈(10)和外密封圈(11)，所述的内密封圈(10)与外密封圈(11)呈配接状分布，所述的轴(2)与外挡圈(8)间通过轴用弹性挡圈(12)相定位。
【专利摘要】本实用新型是一种托辊组件，特别涉及一种用于织造的高稳定托辊组件。包括辊体，所述的辊体中设有轴，所述的轴的两侧端延伸出辊体，所述的辊体的两侧壁分别设有旋转操作端，所述的旋转操作端与轴间设有滚动轴承，所述的滚动轴承的左侧端通过密封圈与轴、旋转操作端相密封，所述的滚动轴承的右侧端通过密封组件与轴、旋转操作端相密封，所述的密封组件通过密封盖相压接，所述的密封组件通过内挡圈与外挡圈相挡接。用于织造的高稳定托辊组件减少制备工序，提升产品质量。
【IPC分类】B65H75/08, B65H75/18
【公开号】CN205367330
【申请号】CN201521109048
【发明人】孙伟
【申请人】杭州新天元织造有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月29日