专利名称：用于制造模制品、尤其眼用透镜的工艺及装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及根据各独立权利要求前序部分所描述的用于制造模制品、尤其眼用透镜如接触透镜的工艺及装置。
背景技术：
在许多模制品制造工艺中均采用光，通过光引发例如化学反应。这特别应用(但并非是排他的)于接触透镜的制造，尤其所谓的“抛弃式接触透镜”的制造，其顾名思义，用于一次佩戴并随后被抛弃。这些抛弃式接触透镜在高度自动化制造工艺中被或多或少地全自动化制造。这样的制造工艺原理例如在WO-A-98/42497中被描述。
对于本发明来说，该制造工艺中下面部分具有重要意义，在将其中设置有多个模具的模具或模制工具闭合之后，被预先引入各接触透镜模具(通常为阴半模)中的初始材料(包括例如预聚物及光敏引发剂)，在特定强度的UV光下曝光一段特定时间。该初始材料因此发生聚合和/或交联，由此，随后模具中包含接触透镜，其具有模具的合适的结构，并无须进行任何修整处理。
如WO-A-01/00393所描述，由光源、例如UV灯射出的UV光通过光导被导向各模具中。此处，尤其使用液态光导。它们在UV光透射方面和可用截面区及发射的UV光的强度的均匀分布方面具有尤其好的属性。优选，对于每个模具设置独立的光导。
通过例如采用掩模约束入射光束，可以高度局部限定地控制借助于光敏引发剂而开始的初始材料的聚合和/或交联。严格地说，就是控制从“光”到“阴影”的转变，即，从仍正被提供光及其中发生聚合和/或交联(接触透镜边缘)的区域，到被筛网挡住并由此不发生聚合和/或交联的区域的转变。
非常严格的平行光束通常形成筛网边缘的清晰可辨的图像并由此形成光滑的接触透镜边缘。但公认地，在光化学聚合和/或交联接触透镜中会再现筛网的透明区缺陷和杂质。较差严格的平行光束更能接受筛网的缺陷和杂质，但边缘(接触透镜边缘)清晰度也更严格，因为从“光”到“阴影”的转变不再是突变。该缺点通过以精确完成聚合和/或交联所需要的光量曝光该初始材料而可被至少部分抵消。该阈值可通过增加小浓度的聚合抑制剂(例如自由基的N-氧化物)而被提高。
因此，必须尽可能精确地以完成聚合和/或交联所需要的光量曝光初始材料。为此，知道提供至初始材料上的精确光量是很重要的。从而测量UV光的强度。但这里必须考虑如下事实，光敏引发剂在特定波长具有特定的光谱吸收，其不能通过给定的公式而改变。例如，如果UV辐射光在该特定波长下的平均强度因光学组件(例如通过更换组件、组件老化、成批更换等)的改变而改变，则在光敏引发剂吸收的相关波长的光量可能太小或太大。
基本上，通过光敏引发剂吸收并由此引发聚合和/或交联的光的光量可通过对作用于初始材料的激发光谱、与光敏引发剂的吸收光谱进行卷积而计算(或更精确地，与未通过初始材料的剩余光谱进行卷积；该透射光谱由该方式确定，并且如果激发光谱已知，则吸收光谱可由此确定)。为此，必然需要光谱仪，但其在制造工艺中仅具有限制的适用性。这是因为，一方面，它们非常昂贵，另一方面，它们非常娇气并需要熟练的专业人员操作。实践中因此经常使用UV辐射仪。它们具有对于整个光谱范围较灵敏的光接收器(例如光电二极管)以及安装于它们之前的滤光器。但是，该滤光器综合性差，并仅覆盖大致限定的波长范围，其经常与光敏引发剂的光谱吸收不一致，所以UV光测量只表示对实际有效的激发光的量的非常粗糙的指示。
上述光学元件(例如光源、透镜、反射镜、滤光器、光导或用于筛网载体的模具的材料)的改变(更换、老化、成批更换)可由此导致激发光的常变的光谱组成。然而，如果不精通光谱变化知识，则不能预测对光敏引发剂以及光接收器的影响。因此，光接收器和光敏引发剂的不同光谱灵敏度对于将初始材料稳定曝光于最小光量有实质上的损害效果，所述最小光量由于上述原因(边缘的精度)而是希望的。另一方面，如果光量过大，则可导致聚合物退化并且还根据波长而加速光学元件(例如液态光导)的老化。
发明内容
本发明需要解决的问题在于尽可能精确地确定在光敏引发剂的光谱吸收中的波长的激发光的各光量，从而在制造工艺中可以一直控制相应的光量，即施加至初始材料的在光敏引发剂光谱吸收的波长处的光量。
该问题通过具有方法独立权利要求特征的工艺以及具有产品独立权利要求特征的设备解决。从属权利要求中示出所述工艺的有利变型或设备的进一步的实施例。
本发明的基本构思在于使简单的、宽带光接收器非常精确地适应光敏引发剂的灵敏度，从而当入射至含光敏引发剂的初始材料的激发光发生变化时，光接收器精确“注意到”在光敏引发剂具有其光谱吸收的相关波长下的该变化。此处，与激发光发生变化的原因是不相关的；而首要的是控制入射至初始材料的光量是否处于预定容差之内。
具体是，根据本发明，提出一种用于制造模制品、尤其眼用透镜如接触透镜的方法，其中，采用宽带光接收器测量光强，在该光接收器之前配置滤光器，其透射率被设计成通过滤光器并入射至光接收器之上的光的光强，与基于光敏引发剂在预定波长范围的波长下的光谱吸收而被光敏引发剂吸收的光强一致。滤光器由此设计成当光敏引发剂“看到”激发光时，所述光接收器“看到”该激发光。因此，该工艺允许连续控制在相关波长下即光敏引发剂具有其光谱吸收的波长下的激发光量。
上述工艺基本上还可适用于UV范围外的各种波长的光，然而，在制造接触透镜中通常采用UV光，因为通常使用的光敏引发剂在UV范围中具有吸收特性。
根据本发明工艺的一个变化，例如采用一种光敏引发剂，其吸收在UV-B范围中的光(即280nm-320nm)。另外，在该变化中，采用低通滤光器，其被设计并配置成仅仅具有高于所述低通滤光器的阈值波长的波长的光分别入射至配置于所述光接收器之前的滤光器或所述初始材料中的光敏引发剂上，其中，所述低通滤光器的阈值波长在UV-B范围内并低于所述入射光的波长。配置于所述光接收器之前的所述滤光器被形成为窄带滤光器，其具有在高于所述低通滤光器的阈值波长处的透射。
该变化是有利的，因为对于可导致接触透镜材料的聚合物退化并且还可加速液态光导老化的短波光来说，其自始便被低通滤光器阻隔。
另外，必须通过配置于光接收器之前的滤光器再现仅仅高于上述低通滤光器的阈值波长的光敏引发剂的光谱吸收的范围，因为，低于该阈值波长的光完全不能入射至含光敏引发剂的初始材料之上(其被低通滤光器阻断)，并由此低于低通滤光器阈值波长的光敏引发剂的灵敏度不起作用。这降低了滤光器结构设计上的复杂性，因为该光敏引发剂通常不仅是专门在UV-B范围中吸收，而是还在UV-C范围中部分吸收。然而，该范围不再需要通过滤光器而被“再现”，因为由于连接低通滤光器，来自该波长范围的光可不再入射至该滤光器或含光敏引发剂的初始材料上。
另外，该变化使得该工艺变得更实用，尤其当采用其发出波长实际上在UV-B范围之中，即位于光敏引发剂吸收范围之中但光敏引发剂的吸收较低的波长的光的光源时。因此，理所当然，含光敏引发剂的接触透镜材料被光曝光的时长，就不必如当该光处于在该波长处该光敏引发剂具有例如其最大吸收值的波长时那么严格。当然，上文开始已经提到，过量的辐射光(光剂量)一方面对接触透镜外周精确度有影响，所以，在光敏引发剂具有非常高吸收系数的波长处，该精确的辐射光量很快就能致使透镜外周变得不精确，而在光敏引发剂具有低吸收系数的波长处，其相应地对时间的苛求更少些。另外，对于整个接触透镜材料(初始材料)厚度而言，在光敏引发剂低吸收时的聚合/交联更均匀一些，因为对于低吸收，仅部分辐射光总被接触透镜的最上“层”吸收，并由此会存在足够的光仍到达接触透镜材料的下“层”并在那里被光敏引发剂吸收。因为以这种方式实现接触透镜材料(初始材料)的均匀聚合/交联，故可避免在接触透镜中产生应力。
根据本发明工艺的一个变化，采用结构上集成低通滤光器的光源。该变化结构简单，并能够确保波长低于低通滤光器阈值波长的光被恒定阻挡入射至滤光器以及入射至含光敏引发剂的接触透镜材料上。根据本发明工艺的另一个变化，该低通滤光器由采用适当材料制成的光学元件如透镜形成。这些光学元件通常不是光源的部分。
根据本发明工艺的另一个变化，采用带多个独立滤光元件的窄带滤光器。这使得该窄带滤光器结构简单化，因为这些独立滤光元件的各种透射特性可被准叠加，从而易于得到希望的滤光器透射特性。
如开始所述，如果在制造模制品尤其接触透镜的过程中测量具有光敏引发剂吸收的波长的光的强度，则该工艺尤其有利。这样，能够在制造工艺中现场监测相关光量，即在光敏引发剂具有其光谱吸收的波长上的光量。
而且，根据本发明，提供一种用于制造模制品、尤其眼用透镜如接触透镜的设备，其中，提供宽带光接收器以测量光强。在该宽带光接收器之前设置滤光器，其透射特性被设计成，通过该滤光器及入射至光接收器的光，与基于光敏引发剂在预定波长范围的波长下的光谱吸收而被光敏引发剂吸收的光强一致。根据本发明的设备的相关实施例的有益之处与上述相应的工艺变化的有利之处一致。
因此，在根据本发明设备实施例中，用于对位于所述模具中的包含光敏引发剂的初始材料曝光的所述装置包括UV光源，所述光敏引发剂吸收在UV范围中的光。
根据本发明设备的另一个实施例，对在UV-B范围具有光谱吸收的光敏引发剂提供低通滤光器，所述滤光器被设计并配置成仅仅具有高于所述低通滤光器的阈值波长的波长的光分别入射至配置于所述光接收器之前的滤光器或所述初始材料中的光敏引发剂上。被配置于所述光接收器之前的所述滤光器被形成为窄带滤光器，其具有在高于所述低通滤光器的阈值波长处的透射。在相应的工艺变化中已说明了本实施例关于该滤光器更简单结构以及工艺的在如下情况的耐用性的有利之处，在所述情况下，光源发出在其处光敏引发剂确实吸收光但却只有很低的吸收系数的波长的光。
根据本发明设备的另一个实施例，用于曝光初始材料的装置包括结构上集成低通滤光器的光源。根据本发明设备的另一个实施例，光学元件如透镜可以提供为低通滤光器，并且其采用合适材料制造。这些实施例的相应优点同样也在相应工艺变化中作出说明。
根据本发明设备的另一个实施例，其中该窄带滤光器包括多个独立滤光元件，相应优点同样也在相应工艺变化中作出说明。
最后，根据本发明设备的另一个实施例，用于测量光强的装置被设计并配置成在模制品制造过程中进行对光强度的测量。
根据本发明工艺或根据本发明设备的其他有益之处将通过参照附图对本发明实施例的下列描述而得到理解。其中图1示出循环时钟周期制造接触透镜的工艺的实施例；图2-4示出用于制造接触透镜的模制工具在处于打开状态及闭合状态下的实施例；图5示出来自UV灯的光被耦合进光导的类型及方式的实施例；图6示出光从光导射出并入射至模具上的类型及方式的实施例；图7示出用于将模具中初始材料曝光于UV光的装置的实施例；图8示出基板上的闭合模制工具，以及用于测量从光导出射的光的强度的相应的测量装置的实施例，所述基板用于将模制工具传送至光导的光出射端下；图9示出测量装置的传感器的实施例的分解图；图10示出图9传感器的组装图；
图11示出传感器的三个滤光元件的各自的透射率曲线的实施例；以及图12示出图11滤光元件的透射率曲线与光敏引发剂“吸收曲线”([1-T]-光谱)一起的叠加曲线。
具体实施例方式
下面说明涉及接触透镜制造工艺的实施例。根据本发明的工艺尤其适用于接触透镜的制造，但并非限于接触透镜的制造，也非限于循环时钟周期工艺，其在下面将通过实施例更详细地被描述。
如上所述，图1示出用于制造接触透镜的循环时钟周期工艺的实施例。在该循环时钟周期工艺的第一步骤S1中，将初始材料，例如前面提到的预聚物，装入阴半模或多个阴半模中。例如，采用模制工具1，如图2所示，其包括两个半工具件10和11。在其中一个半工具件10中，设置有许多阴半模100，例如10个这样的阴半模100。在另一个半工具件11中，具有多个对应于所述多个阴半模100的阳半模110，在本说明的情形中为10个阳半模110。
在下面的步骤S2中，将模制工具1闭合，其中，如图3箭头13所示，首先通过半模11绕轴12的转动、然后如图4的箭头14所示的直线运动，而完成所述闭合。然后，如图4所示，模制工具1处于闭合位置。
阳半模110及其相关部件对UV光来说是透明的。在第三步骤S3中，将位于腔体中即位于阳半模110和阴半模100之间的空间中的初始材料(预聚物)曝光于UV光，从而发生初始材料的聚合和/或交联。在第四步骤S4中，重复相同的过程。选择两个曝光步骤S3和S4或曝光位置的原因在于，循环时钟周期工艺的周期时间可被缩短。这是因为，原理上，最慢的步骤确定周期时间。另一方面，需要将初始材料曝光于特定强度的UV光下达特定时长，以确保初始材料充分聚合和/或交联。
在随后的步骤S5中，当模制工具1仍然处于闭合状态时，对还位于模具中的接触透镜进行第一次检查。在该步骤S5中，例如，可检测该接触透镜的中心区的夹杂物或其他相对粗糙、易观察到的缺陷。
在下面的步骤S6中，将模制工具1打开，该打开与步骤S2中描述的闭合模制工具的过程顺序相反。
在下一步骤S7中，对阴阳半模110、100喷洒例如水等，以影响对接触透镜移出，并另一方面将过量的未交联预聚物从接触透镜和/或半模中清洗掉。
在下面的步骤S8中，接触透镜自动地从阳半模110转到阴半模100中。在一些情况下，当模制工具1被打开时，接触透镜业已留在了阴半模100之中，但多半情况下其还是粘于阳半模110之中。然而，由于对于后续自动步骤，必须确保接触透镜位于阴半模100之中，因此，在步骤S8，该接触透镜自动从阳半模转移到阴半模之中。在接触透镜已留在了阴半模中的情形中，试图进行转移，但由于此时接触透镜已位于阴半模之中，因此无转移发生。在步骤S8之后，确保在任何情况下接触透镜位于阴半模中。
在步骤S9中，例如用水将阴半模100润湿，其简单化了在阴半模100中对准接触透镜的中心，因为以这种方式，该接触透镜可更容易滑入阴半模100的中心。所述对准透镜的中心又在下面的步骤S10中很重要，因为在该步骤中从阴半模抓持接触透镜。
当该被抓持的接触透镜在步骤S10被抓持之后在步骤S11的循环(第二次)过程中被检查、尤其检查接触透镜边缘是否满意的时候，在步骤S12中将不满意的接触透镜抛弃。另一方面，在步骤S13中将满意的接触透镜置于包装件中，其可选地可包含保护溶液(如盐水)。
当在步骤S10中将接触透镜从阴半模100移出之后，可在步骤14，在循环(主)进程中，用水冲洗模制工具1和设置半工具件10和11中的半模100和110，并且接下来该循环(主)进程可以从步骤S1将预聚物装入阴半模100中开始新的循环。
在图7中，可以看到用于将位于模具中的初始材料曝光于UV光下的装置2。其可用于上述制造工艺的步骤S3和S4中以将初始材料曝光于UV光，以聚合和/或交联该初始材料。该装置2包括设于外壳21中的UV灯20(在不同电压或不同电流下操作)。提供多个光导3，此处例如为10个，其每个都围绕UV灯20排列，每个均具有保持器30并将灯20射出的光传输至各个模具，其中，为了清楚起见，此处以并排形式来说明。下面将对光导3进行更详细的说明。
图7中还示出温度传感器22，其测量UV灯20表面附近的温度，并且，当超出某个温度，便启动通风机23，其吸入穿过外壳21的冷却气体24。另外，可提供用于测量UV光强的传感器25，其向控制器26传递相应的信号，该控制器26将UV灯20设置成，将特定的希望的UV光强度提供为常规设置点选择。
图5示出来自UV灯20的光被耦合进光导3的光进入端300的类型及方式的实施例，该光导3然后将该UV光导向各个模具。用于传输来自UV灯20的UV光的整个供给线除了实用中的光导3之外，还包括石英棒31、滤光器32(深层通过型滤光器)及马达驱动可调光阑33。光阑孔径330的尺寸可通过马达331和可调耦合件332调节。将在该情况下设计成液态光导的光导3设置在光阑33的下游。液体光导尤其适用于引导UV光，但其不能承受如紧挨UV灯20处的高温。鉴于此提供石英棒31，其尽管不是柔性的，但能承受紧挨UV灯20的温度并对于UV光是透明的。在保持器30中将上述UV光耦合进各光导3，并且所述光导接着将UV光导向各模具中。该低通滤光器32阻挡低于截止波长的光成分，尤其是比例如光敏引发剂吸收的UV-B范围波长更短的UV光，所述光敏引发剂用于引发预聚物的交联和/或聚合。在耦合进液体光导(即作为光源的组成部分)之前直接提供这种低通滤光器32是有益的，因为该被阻挡的短波长光一方面能够导致液体光导3的老化，另一方面当液体光导完全允许该光通过时，该低通滤光器32通过阻挡该短波长光还可防止接触透镜材料的聚合物退化。
图6示出从光导3射出并入射至模具上的UV光的类型及方式的实施例。从光导3的光发射端301射出的UV光此时通过聚光器34入射至位于阳半模110和阴半模100之间的模具中的初始材料之上，这样，形成如图6的虚线所示的接触透镜。一般，可以想到，将例如聚光器34的透镜的光学元件采用合适材料制成并用作低通滤光器。当然，在该方式中，在短波UV光通过液体光导后将不能防止液体光导的老化，因为该短波UV光仅被光阑截止。
图8示出基板4上的具有半工具件10和11的闭合模制工具1，以及用于测量从光导3出射的UV光的强度的相应的测量装置5的实施例，所述基板4用于将模制工具1传送至光导3的光出射端下。光导3被配置成，当基板4在循环中位于静止位置时，出射UV光通过位于半工具件11中的阳半模110作用于初始材料之上。当基板4被该光曝光之后和模制工具1一起被移开时，基板4中的开口40移到光导3和测量装置5之间(当然，给定该基板的合适的结构一设置开口40-这可以可选地在其移入位时进行)。然后从光导3的光出射端301射出的UV光例如通过衰减器50作用于设于检测盘52之上的光敏传感器51之上。当基板4处于静止位置，即当模具中初始材料在一个循环中被UV光曝光，通过位于半工具件10的阴半模100的UV光类似地被测量装置5接收。然而，为了测量强度，该透射光仅可在有限的范围内使用，故其可例如用于检测模具污染等。而且，该测量装置5还包括电子部分，其中包括印刷电路主板53、处理印刷电路板54和模/数印刷电路板55。在前板56上，可具有网络连接(例如以太网)、串行接口(例如RS232)及电压供给连接，尤其还可具有至系统处理控制(SPS)的接口数据传输和/或控制信号传输以及该单元的状态指示器。
由于强度及其光量如何被大致测量等内容例如在EP-A-1314527中已更全面地描述，因此本文无需对其做进一步的解释。
在图8中讨论的光敏传感器51可采用各种各样的设计。这种传感器51的一个实施例在图9的分解图和图10的组装图中示出。该传感器的主要部件为滤光器，此处其被形成为滤光器组件510；以及宽带光接收器，此处其为传感器电路板511的形式。该传感器电路板511通过内部缆线512与位于传感器外壳514中的外部缆线(例如同轴缆线)的固定端513(例如BNC接口)连接。
该传感器外壳514具有向里突出的可转动的凸起5140，其被夹紧环516保持，并且在组装状态下(图10)与传感电路板511的止挡面5110抵接。该夹紧环516具有外螺纹。为了组装它，将传感电路板511插入该传感器外壳514中，并且将夹紧环516旋入传感器外壳514的内螺纹直到其将传感电路板511的止挡面5110夹紧并抵接突起5140。在其上端，传感器外壳514还具有圆柱形延伸体5141，其具有外螺纹。在底部，该传感器外壳514被旋上的盖5142密封。
另外，该传感器还包括容纳滤光器组件510的滤光器外壳515。该滤光器组件510位于孔5150中，其被玻璃盖5151从顶部密封。该滤光器外壳515同样具有内螺纹。将滤光器夹紧环5152旋入该内螺纹，并从底部将滤光器组件510固定于希望位置。然后，将预装有固定滤光器组件的滤光器外壳515旋入传感器外壳514的圆柱形延伸体5141的外螺纹上。
在滤光器外壳515的圆柱形延伸体5153上设置套管517，该套管在制造接触透镜时容纳例如阳半模，并且然后通过所述套管对接触透镜材料进行曝光。
如上所述，该传感器51的所述实施例仅为传感器设计的一个实施例。另外还可理解，还可以采用参照图8-10和EP-A-1314527中的相关描述的实例中相应的传感器，所述EP-A-1314527通过引用结合于此并作为本发明内容的一部分。
例如在EP-A-0790258中，例如与所述预聚物一起使用的光敏引发剂，在波长范围在300nm以上时仍然具有显著的吸收，即使吸收最大值在大大低于300nm处。所述传感器电路板511，在这里用作光接收器，具有宽带灵敏度，即，其至少在整个紫外光波长范围内灵敏，并且还常常对可见光波长区也很灵敏。然而，传感器应尽可能精确地再现光敏引发剂的行为，该光敏引发剂仅吸收长波UV范围中的特定波长。
鉴于此，用作滤光器的滤光器组件510优选由多个对不同波长范围具有不同透射率的滤光元件组成。通过叠加各滤光元件的透射特性，可获得希望的窄带滤光器。该滤光器(此处为滤光器组件510)因此可包括共三个滤光元件，以尽可能精确地获得对光敏引发剂“看到”在预聚物(初始材料)中曝光的光的再现。
图11示出各滤光元件的透射率曲线的一个实例，其中横坐标为波长，单位为nm，纵坐标为各滤光元件的标准化透射率(0＝不透明，1＝可透射的)。各透射率曲线分别为实线TC1、虚线TC2和点线TC3。
图12示出由这些透射率曲线和光敏引发剂的“吸收曲线”([1-T]-曲线，T＝透射率)的叠加。其中横坐标为波长，单位为nm，纵坐标为以点线示出的滤光器的标准化透射率TC4(根据图11的各滤光元件的叠加)、或以实线表示的光敏引发剂的标准化吸收AC(注意滤光器必须具有尽可能精确地与光敏引发剂的吸收一致的透射率，从而光接收器能够恰如光敏引发剂那样“看到”透射的光)。
权利要求
1.一种用于制造模制品、尤其例如接触透镜的眼用透镜的方法，其中，初始材料包含在给定波长范围具有光谱吸收(AC)的光敏引发剂，以预定量的具有在所述给定波长范围内的波长的光曝光所述初始材料，由此引发所述初始材料的聚合和/或交联，并以这种方式形成可脱模的模制品，在该方法中，测量所述光的强度，其特征在于，采用宽带光接收器(511)测量所述光强，在所述光接收器前方设置滤光器(510)，其透射率(TC1、TC2、TC3；TC4)被设计成通过所述滤光器(510)并入射至光接收器(511)上的光的强度，与基于所述光敏引发剂在给定波长范围的波长下的光谱吸收(AC)而被所述光敏引发剂吸收的光强一致。
2.如权利要求1所述的方法，其中使用吸收UV范围中的光的光敏引发剂，以及其中所述光为UV光。
3.如权利要求2所述的方法，其中使用吸收UV-B范围中的光的光敏引发剂，并且其中使用低通滤光器(32，34)，其被设计并配置成仅仅具有高于所述低通滤光器的阈值波长的波长的光分别入射至配置于所述光接收器(511)之前的滤光器(510)或所述初始材料中的光敏引发剂上，其中，所述低通滤光器(32，34)的阈值波长在UV-B范围内并低于所述入射光的波长，以及其中，配置于所述光接收器(511)之前的所述滤光器(510)被形成为窄带滤光器，其具有在高于所述低通滤光器(32，34)的阈值波长处的透射。
4.如权利要求3所述的方法，其中使用光源(20)，在所述光源(20)中在结构上集成所述低通滤光器(32)。
5.如权利要求3所述的方法，其中所述低通滤光器由采用合适材料制成的例如透镜的光学元件(34)形成。
6.如权利要求3-5中任一项所述的方法，其中采用带多个独立滤光元件的窄带滤光器。
7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中使用光源(20)，所述光源(20)发出具有这样波长的光，在所述波长处所述光敏引发剂确实吸收光但只具有低吸收系数。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中在制造所述模制品中测量预定波长的光的强度。
9.一种用于制造模制品、尤其例如接触透镜的眼用透镜的设备，包括模具(100，110)及用于将初始材料导入该模具的装置，其中，所述初始材料包含在预定波长范围具有光谱吸收(AC)的光敏引发剂，所述设备还包括用于将位于模具中的初始材料以预定量的光曝光的装置(2)，所述光的波长在光敏引发剂吸收的预定波长范围中，其引发所述初始材料的交联和/或聚合，以获得可脱模的模制品，并且，所述设备还包括用于测量所述光的强度的装置(5)，其特征在于，为了测量发出的所述光的强度，提供宽带光接收器(511)，在所述光接收器前方配置有滤光器(510)，所述滤光器的透射率(TC1、TC2、TC3；TC4)被设计成通过所述滤光器(510)并入射至所述光接收器(511)上的光的强度，与基于所述光敏引发剂在给定波长范围的波长下的光谱吸收(AC)而被所述光敏引发剂吸收的光的强度一致。
10.如权利要求9所述的设备，其中，用于对位于所述模具中的包含光敏引发剂的初始材料曝光的所述装置(2)包括UV光源(20)，所述光敏引发剂吸收在UV范围中的光。
11.如权利要求10所述的设备，其中，对在UV-B范围具有光谱吸收(AC)的光敏引发剂提供低通滤光器(32，34)，所述滤光器被设计并配置成仅仅具有高于所述深层通过滤光器(32，34)的阈值波长的波长的光分别入射至配置于所述光接收器(511)之前的滤光器(510)或所述初始材料中的光敏引发剂上，其中，所述低通滤光器的阈值波长在UV-B范围内并低于所述入射光的波长，以及其中，配置于所述光接收器(511)之前的所述滤光器(510)被形成为窄带滤光器，其具有在高于所述低通滤光器的阈值波长处的透射。
12.如权利要求11所述的设备，其中，所述用于曝光初始材料的装置包括光源(20)，所述光源(20)在结构上集成所述低通滤光器(32)。
13.如权利要求11所述的设备，其中由合适材料制成的例如透镜的光学元件(34)被提供为低通滤光器。
14.如权利要求11至13中任一项所述的设备，其中所述窄带滤光器包括多个独立滤光元件。
15.如权利要求9至14中任一项所述的设备，其包括光源(20)，所述光源(20)发出具有这样波长的光，在所述波长处所述光敏引发剂确实吸收光但只具有低吸收系数。
16.如权利要求9至15中任一项所述的设备，其中所述用于测量光强的装置(5)被设计并配置成，使得对强度的测量在制造所述模制品期间进行。
全文摘要
在用于制造例如接触透镜的模制品的方法中，初始材料包含在给定波长范围具有光谱吸收(AC)的光敏引发剂，以预定量的具有在所述给定波长范围内的波长的光曝光所述初始材料。由此引发所述初始材料的聚合和/或交联，并以这种方式形成可脱模的模制品。采用宽带光接收器(511)测量光强，在所述光接收器前方设置滤光器(510)，其透射率(TC1、TC2、TC3；TC4)被设计成通过所述滤光器(510)并入射至光接收器(511)上的光的光强，与基于光敏引发剂在预定波长范围的波长下的光谱吸收(AC)而被所述光敏引发剂吸收的光强一致。
文档编号B29C35/08GK101018662SQ200580030984
公开日2007年8月15日 申请日期2005年9月15日 优先权日2004年9月16日
发明者A·海因里希, B·赛费尔林, K·哈伯施特罗 申请人:诺瓦提斯公司