专利名称：一种石英晶片快速干燥装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及石英干燥技术领域，具体属于一种石英晶片快速干燥装置。
背景技术：
石英晶片清洗工艺常规采用酒精清洗，清洗后酒精挥发自然干燥。这样清洗虽然可以保证清洗后石英的干燥，但清洗工作环境中酒精浓度高，安全隐患大，清洗成本高。用水直接清洗，一般不容易将其水分出去。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种石英晶片快速干燥装置，解决了石英晶片清洗干燥的问题，设计简单，结构合理，石英晶片用水清洗，离心干燥，加热蒸发，节约成本，操作安全可靠。本实用新型采用的技术方案如下:一种石英晶片快速干燥装置，包括箱体和旋转体，所述的旋转体设置于箱体内，旋转体周围设有网杯，网杯挂于旋转体上，旋转体上端设有盖体，盖体内设有加热片。所述的箱体外壁上设有通气孔。与已有技术相比，本实用新型的有益效果如下:本实用新型的采用水清洗石英晶片，石英晶片放入网杯中，网杯通过旋转体带动，在离心力的作用下脱水，避免大量水分从晶片表面蒸发形成水溃，再由箱体上的盖体加热片继续加热晶片表面，蒸发残余水份。可以用去离子水取代酒精清洗剂，达到了石英晶片表面无水溃清洁干燥的工艺标准要求，在节约生产成本提高工效的了同时，消除了安全隐患。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
参见附图，一种石英晶片快速干燥装置，包括箱体I和旋转体2，旋转体2设置于箱体I内，旋转体2周围设有网杯3，网杯3挂于旋转体2上，旋转体2上端设有盖体4，盖体4内设有加热片401，箱体I外壁上设有通气孔101，加快空气流通，石英晶片放入网杯3中，先在离心力的作用下脱水，避免大量水分从晶片表面蒸发形成水溃，再由盖体4上的加热片401继续加热晶片表面,蒸发残余水份。
权利要求1.一种石英晶片快速干燥装置，包括箱体和旋转体，其特征在于:所述的旋转体设置于箱体内，旋转体周围设有网杯，网杯挂于旋转体上，旋转体上端设有盖体，盖体内设有加热片。
2.根据权利要求1所述一种石英晶片快速干燥装置，其特征在于:所述的箱体外壁上设有通气孔。
专利摘要本实用新型公开了一种石英晶片快速干燥装置，包括箱体和旋转体，旋转体设置于箱体内，旋转体周围设有网杯，网杯挂于旋转体上，旋转体上端设有盖体，盖体内设有加热片。本实用新型解决了石英晶片清洗干燥的问题，设计简单，结构合理，石英晶片用水清洗，离心干燥，加热蒸发，节约成本，操作安全可靠。
文档编号F26B7/00GK203083300SQ201220743589
公开日2013年7月24日 申请日期2012年12月29日 优先权日2012年12月29日
发明者卢玉席 申请人:铜陵市方远电子科技有限公司