本实用新型涉及高氯酸钾生产技术领域，尤其涉及一种高氯酸钾一体式气流干燥装置。
背景技术：
高氯酸钾在生产制造中，需要利用干燥装置进行干燥。现有技术中一般采用气流式干燥设备进行连续化生产干燥，但目前的气流干燥设备产线较长、占地面积较大、空间利用率低，且能耗高，不利于企业的发展。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供一种干燥效果好、能耗低，具有占地面积小等优点的高氯酸钾一体式气流干燥装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：所述高氯酸钾一体式气流干燥装置包括干燥塔、搅拌装置、入料装置、旋风分离器和风机，所述搅拌装置设于干燥塔的底部，所述入料装置设于干燥塔的一侧，所述旋风分离器的进口连接干燥塔顶部的出口，所述风机连接旋风分离器设于干燥塔的塔顶，所述干燥塔的底部设有加热腔室，所述加热腔室内设有加热管，所述加热腔室的一侧设有进风口，所述进风口设有空气过滤器。
在本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的一种较佳实施例中，所述干燥塔内的顶部设有分级筛，所述分级筛上方还设有导向板。
在本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的一种较佳实施例中，所述导向板呈向干燥塔出口的弧型结构。
在本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的一种较佳实施例中，所述加热室内还设有温度传感器，所述温度传感器连接控制器，所述控制器控制所述加热管的加热温度。
在本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的一种较佳实施例中，所述加热室的干燥塔侧面设有热风进口，所述热风进口相对设于所述进风口的背面。
在本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的一种较佳实施例中，所述入料装置包括入料斗和其下方的进料管，所述进料管与所述干燥塔呈倾斜连接，所述入料斗内设有喂料器。
与现有技术相比，本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的有益效果是：
一、本实用新型采用一体式结构，占地面积小，缩短了产线，提高了空间利用率；
二、所述加热管直接设于所述干燥塔底部的加热腔室内，由所述控制器控制加热温度，保证物料最佳的干燥效果，且降低了热量的损失，提高了能源利用率；
三、所述导向板的设计，降低了风阻，提高了出料速率；
四、采用的所述入料装置，入料效果好，避免了螺旋进料器的使用，便于清洁进料管中的物料。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
图1是本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，所述高氯酸钾一体式气流干燥装置1包括干燥塔11、搅拌装置12、入料装置13、旋风分离器14和风机15，所述搅拌装置12设于干燥塔11的底部，所述入料装置13设于干燥塔11的一侧，所述旋风分离器14的进口连接干燥塔11顶部的出口，所述风机15连接旋风分离器14设于干燥塔11的塔顶，所述干燥塔11的底部设有加热腔室112，所述加热腔室112内设有加热管16，所述加热腔室112的一侧设有进风口111，所述进风口111设有空气过滤器17。
所述干燥塔11内的顶部设有分级筛18，用于对物料分级，阻挡块状未干燥小颗粒的物料，所述分级筛18上方还设有导向板19，所述导向板19呈向干燥塔出口的弧型结构，降低出料口的风阻。
所述加热室112内还设有温度传感器20，所述温度传感器20连接控制器21，所述控制器21控制所述加热管16的加热温度。
所述加热室112的干燥塔侧面设有热风进口113，所述热风进口113相对设于所述进风口111的背面。
所述入料装置13包括入料斗131和其下方的进料管132，所述进料管132与所述干燥塔11呈倾斜连接，所述入料斗131内设有喂料器22。
本实用新型提供的高氯酸钾一体式气流干燥装置1的有益效果是：
一、本实用新型采用一体式结构，占地面积小，缩短了产线，提高了空间利用率；
二、所述加热管16直接设于所述干燥塔11底部的加热腔室112内，由所述控制器21控制加热温度，保证物料最佳的干燥效果，且降低了热量的损失，提高了能源利用率；
三、所述导向板19的设计，降低了风阻，提高了出料速率；
四、采用的所述入料装置13，入料效果好，避免了螺旋进料器的使用，便于清洁进料管132中的物料。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围之内。