专利名称：双室连续电去离子器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及工业纯水制备的一种脱盐处理装置，具体地说是应用在预脱盐(如反渗透膜设备)之后，利用分离膜与电场再生树脂的一种深度脱盐装置。
背景技术：
目前，连续电去离子器主要有EDI与CDI两种装置，其工作原理大致简述如下物料(给水)进入装置时分为二部分一部分进入中间脱盐间隔区，在流动过程中，物料中的离子被中间分层的阳阴树脂扑捉，从而产生离子交换现象；由于在电场作用下进行，中间分隔是由离子膜来分隔的，阳阴膜本身具有阳膜只允许阳离子通过，阴膜只允许阴离子通过；这样物料中的离子在发生交换时同时产生离子迁移现象，这样物料中的离子被截留而被纯化；另一部分物料同时进入加浓间隔区，在电场的作用下产生电解作用，利用膜单向的迁移性，使中间单室脱盐间隔区中的树脂得到置换与再生。EDI与CDI在结构中最根本的区别在于CDI中的加浓间隔区中添加了树脂，加快了离子迁移的速度。但是，目前EDI、CDI装置共同存在如下缺点1、由于中间脱盐间隔区为单室，没有设分布器(布水器)，物料(水)在流动过程中产生微小的滞流、短流现象；设备在运行过程中随着运行时间的增加出现不可逆转的脱盐率下降现象。
2、由于中间脱盐间隔区中填充的树脂是按阴、阳分层填充的，对于物料(水)中中性离子(如溶解硅)的去除率通常小于85％。
3、由于中间脱盐间隔区与加浓间隔区的密封只采用单密封圈，设备在运行中因物料(给水)水力作用，随时间的推移，往往出现漏物料(水)现象，需要不定期地紧固螺栓。
基于上述原因，连续电去离子器到目前为止只在小规模系统中使用，即使有个别的系统中有大规模的设备运行，出现的问题较多，无法广泛推广。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种性能可靠的双室连续电去离子器，从而解决目前连续电去离子器EDI、CDI中不可逆转的脱盐率下降、对中性离子(如溶解硅)的去除率通常小于85％、物料(水)渗漏等问题。
为了实现本实用新型的目的，拟采取以下技术方案它包括有加浓间隔区和脱盐间隔区，独特之处在于在中间脱盐间隔区进料处设置有缝隙布料器3；中间脱盐间隔区内增设一个离子抛光室7，其内填充有混合离子交换树脂21，该抛光室7与分层室8之间设置有缝隙布料器3。
上述的中间脱盐间隔区与加浓间隔区采用双密封圈13密封。
本实用新型的优点在于设计合理，结构简单，易实现，能解决现有技术存在的问题。设置缝隙布料(水)器从水力角度考虑增加流速，分布均匀，避免滞流、短流；添加混合离子抛光室7是从离子交换理论上来考虑，增加离子交换路径，进一步降解中性离子，提高中性离子的脱盐率可达99％以上；中间脱盐间隔区与加浓间隔区采用双密封圈13是从机械密封原理来考虑，内密封圈为预密封卸压，外密封为紧密密封。
图1为本实用新型的原理示意图。
图2为本实用新型的中间脱盐间隔平面结构示意图。
图3为本实用新型的加浓间隔密封平面结构示意图。
图4为本实用新型的整体外观结构示意图。
图5为图4的左视图。
具体实施方式
上述附图所公开的结构为本实用新型的一个实施例。图中，1为物料(水)中间脱盐端进口；2为加浓端进口；3为布料(水)器；4为产品端出口；5为加浓端出口；6为极水端出口；7为抛光室；8为分层室；9为分离膜；10为中间脱盐端间隔支撑体；11为固定螺孔；12为加浓端间隔支撑体；13为内外密封圈；14为加浓间阳阴树脂；15为固定支座；16为极板支座；17为装饰外壳；18为电源座；19为固定螺栓；20为外壳固定螺栓；21为抛光室内混合树脂；22为分层室阳阴树脂。
本实用新型在正常运行工作时，含盐物料(原水)进入时分为二部分，一部分由中间脱盐端进口1到中间脱盐间隔支撑体10内，另一部分也同时由加浓端进口2进入到加浓端间隔支撑体12内。进入到中间脱盐间隔支撑体10内的含盐物料(原水)经布料(水)器3均匀分布后进入到分层室8内，含盐物料(原水)与分层室阳阴树脂22充分接触，在电场与分离膜9的作用下，离子产生定向迁移与置换现象，于是物料(原水)得到了初步纯化，分层室阳阴树脂22同时也得到了再生；得到了初步纯化的物料(原水)再经中间布料(水)器3再次均匀分布后进入到抛光室7内，同样在电场与分离膜9的作用下，离子产生定向迁移与置换现象，于是物料(原水)得到了进一步纯化，抛光室混合树脂21同进也得到了再生；再经布料(水)器3均匀分布后由产品端出口4排出。这样，含盐物料(原水)经布料(水)器3均匀三次分布，两室不同的树脂层进行了二次脱盐处理使其达到脱盐与稳定运行的目的。
进入到加浓端间隔支撑体12内的物料(原水)也经加浓端间隔支撑体12内的布料(水)器3进入到加浓间阳阴树脂14，在电场与分离膜9的作用下，定向迁移得来的离子在树脂置换与水力作用下而排出，这样保证了设备的稳定运行。
本实用新型在正常运行工作时，内外密封圈13在固定支座15、固定螺栓19、固定螺孔11的紧固作用下起到密封效果。电源座18与极板支座16为设备提供稳定的电场条件。极板支座16与加浓端间隔支撑体12间产生微小的极水由极水端出口6排出。
权利要求1.一种双室连续电去离子器，包括有加浓间隔区和脱盐间隔区，其特征在于在中间脱盐间隔区进料处设置有缝隙布料器(3)；中间脱盐间隔区内增设一个离子抛光室(7)，其内填充有混合离子交换树脂(21)，该抛光室(7)与分层室(8)之间设置有缝隙布料器(3)。
2.按权利要求1所述的双室连续电去离子器，其特征在于上述的中间脱盐间隔区与加浓间隔区采用双密封圈(13)密封。
专利摘要一种双室连续电去离子器，主要解决现有技术中不可逆转的脱盐率下降、对中性离子去除率较小和物料渗漏等问题。它在中间脱盐间隔区进料处设置有缝隙布料器(布水器)，还增设了一个离子抛光室，其内填充有混合离子交换树脂，抛光室与分层室之间设置有缝隙布料器；中间脱盐间隔区与加浓间隔区采用双密封圈密封。本实用新型结构简单，性能良好，可广泛应用于石化、热电、制药、电子与电镀等工业纯水、高纯水制备及化学原料、药剂等浓缩中。
文档编号C02F1/469GK2611355SQ0228447
公开日2004年4月14日 申请日期2002年12月5日 优先权日2002年12月5日
发明者刘沙河 申请人:刘沙河