一种薄膜表面清洁装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及薄膜生产领域，更具体地说，它涉及一种薄膜表面清洁装置。
【背景技术】
[0002]随着聚酰亚胺薄膜应用的领域的不断扩展，对于聚酰亚胺薄膜的要求也不断提高，过去聚酰亚胺主要用于电机电器绝缘行业，聚酰亚胺薄膜在该行业的应用主要被关注的是其耐热性及绝缘性能。随着科技不断进步聚酰亚胺在电子行业的应用越来越广泛，如电脑、手机、数码相机及高温标签等许多电子产品。电子行业应用的聚酰亚胺薄膜除了关注其耐热性、绝缘性、厚度均匀性等性能之外，薄膜表面的一些物理性能也是特别被关注的一一如薄膜表面是否洁净、是否有划痕、隔痕等表面瑕疵，此类瑕疵对于非常精细的线路将造成严重影响。因此制造出表面洁净没有瑕疵的薄膜是非常重要的。在聚酰亚胺薄膜生产过程中，由于在双向拉伸聚酰亚胺薄膜的生产过程中，薄膜需要在横拉机中通过针板夹具横向拉着薄膜向前运行，拉着薄膜的针板固定在链条上，链条是靠轴承在两条轨道上运行，由于轨道和链条轴承之间产生摩擦，久而久之就会产生一些很细微的金属末被带出轨道，由于在生产的薄膜表面静电很强，产生的这些金属末中部分会被吸到薄膜表面。
[0003]薄膜的边缘被压在针板上，针板固定着薄膜在横拉机中运行进行高温亚胺化及拉伸，薄膜在出口处剥离开针板进入切边及收卷工序之时，部分细微的薄膜碎片会从针尖上掉下来，由于薄膜表面具有很强的静电，这些细微的薄膜碎片会被吸到薄膜表面。被吸入薄膜表面的金属末及薄膜碎片，如果不能被及时的去除而随薄膜进入收卷工序，将会导致薄膜表面产生更多的划痕及隔痕，严重影响了产品的质量，因此亟需一种能够薄膜表面清洁
目.0
[0004]市场上公开了申请号为201220729690.0的专利文件一种薄膜表面清洁系统，包括位于薄膜拉伸机和薄膜收卷机之间的吸尘装置和磁铁装置，所述吸尘装置悬空于所述薄膜拉伸机产出的薄膜之上，所述磁铁装置非接触的位于所述薄膜下侧；所述吸尘装置包括一硬塑管和一引风机，所述硬塑管一端封闭，其另一端连接所述引风机，所述硬塑管位于所述薄膜正上方的部位开有一进风口。
[0005]塑料薄膜表面存在静电吸附，采用引风机直接牵引的方式，若引风机牵引力较小时很难到达预期除去薄膜碎片的效果，若引风机风力较大时，则会对薄膜的切边和收卷存在较大影响，对于磁铁而言虽然具有吸附金属的能力，但其对于距离的要求较高，且磁铁的设置对于机械设备运行具有较大的影响，再者磁铁只能够吸引薄膜下侧的金属粉末，而对于薄膜上侧的由于薄膜隔挡则无法实现吸附效果，存在需要改进之处。
【实用新型内容】
[0006]针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种薄膜表面清洁装置，该清洁装置能够将薄膜表面的金属末和薄膜碎片等杂质清理干净。
[0007]为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案:一种薄膜表面清洁装置，包括清除机构，所述清除机构包括机架、离子风机以及吸附磁铁，所述离子风机固定连接于机架且位于薄膜上方，所述吸附磁铁设于薄膜下方。
[0008]通过采用上述技术方案，清除机构的设置有利于薄膜在进入收卷工序之前其表面的金属末和薄膜碎片等杂质可以被清理干净，避免了这些杂质在收卷过程中对薄膜表面进行的伤害，清除机构由离子风机和机架构成，由于薄膜表面存在很强的静电吸附，离子风机是根据尖端放电和正负电“中和”原理设计制造的。它可消除绝缘材料及物品上的静电，从而通过风力带动，将薄膜表面的金属末和薄膜碎片等杂质清理干净。
[0009]本实用新型进一步设置为:所述离子风机与机架呈铰接设置。
[0010]通过采用上述技术方案，呈铰接设置的离子风机与机架能够调整风向，提高使用的灵活性。
[0011]本实用新型进一步设置为:所述薄膜下方设有收集架，所述吸附磁铁位于收集机架内部。
[0012]通过采用上述技术方案，收集架的设置能够将由离子风机除静电之后的金属末和薄膜碎片收集起来，保证作业环境不被污染。
[0013]本实用新型进一步设置为:所述机架与收集架下均固定连接有滑轮。
[0014]通过采用上述技术方案，滑轮的设置便于调节机架、收集架与运转设备之间的距离，提高使用灵活性。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型实施例一种薄膜表面清洁装置的结构示意图。
[0016]附图标记:1、薄膜拉伸机；2、薄膜收卷机；3、机架；4、离子风机；5、收集架；6、吸附磁铁。
【具体实施方式】
[0017]参照图1对本实用新型实施例做进一步说明。
[0018]如图1所示，一种薄膜表面清洁装置，包括位于薄膜拉伸机I和薄膜收卷机2之间用于清除薄膜表面残留的薄膜碎片和金属粉末的清除机构，所述清除机构包括机架3和离子风机4，所述离子风机4固定连接于机架3且位于薄膜上方，所述机架3有两根竖直的直杆和连接的横杆组成，离子风机4连接在横杆上，所述薄膜下方还设有吸附磁铁6。
[0019]通过采用上述技术方案，清除机构的设置有利于薄膜在进入收卷工序之前其表面的金属末和薄膜碎片等杂质可以被清理干净，避免了这些杂质在收卷过程中对薄膜表面进行的伤害，清除机构由离子风机4和机架3构成，由于薄膜表面存在很强的静电吸附，离子风机4是根据尖端放电和正负电“中和”原理设计制造的。它可消除绝缘材料及物品上的静电，从而通过风力带动，将薄膜表面的金属末和薄膜碎片等杂质清理干净，离子风机4风量大小可以调节，使得消电空间范围更大。
[0020]进一步设置为:所述离子风机4与机架3呈铰接设置。呈铰接设置的离子风机4与机架3能够调整风向，提高使用的灵活性。
[0021]进一步设置为:所述薄膜下方设有收集架5，收集架5呈空心长方体设置，长方体的收集架5两侧宽度大于拉伸机和收卷机的宽度，所述吸附磁铁6位于收集机架3内部。收集架5的设置能够将由离子风机4除静电之后的金属末和薄膜碎片收集起来，保证作业环境不被污染。
[0022]进一步设置为:所述机架3与收集架5下均固定连接有滑轮。滑轮的设置便于调节机架3、收集架5与运转设备之间的距离，提高使用灵活性。
[0023]【具体实施方式】:当薄膜拉伸机I生产出来的薄膜从本实施例中穿过时，开启离子风机4，离子风机4可以将薄膜表面的静电消除，利用离子风机4的风力将薄膜表面的金属末和薄膜碎片吹离薄膜上表面，且可以根据不同的情况调节离子风机4的风力大小和风力方向，金属末和薄膜碎片被风力吹向薄膜下方的收集架5内部，薄膜表面的金属末被本实施例中的吸附磁铁6吸离薄膜表面，从而保证了薄膜表面的清洁，当不需要使用时关闭离子风机4，同时可通过滑轮将收集架5和机架3远离薄膜拉伸机I和薄膜收卷机2，避免影响其运转。
[0024]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种薄膜表面清洁装置，包括清除机构，其特征在于，所述清除机构包括机架、离子风机以及吸附磁铁，所述离子风机固定连接于机架且位于薄膜上方，所述吸附磁铁设于薄膜下方，所述离子风机与机架呈铰接设置。
2.根据权利要求1所述的一种薄膜表面清洁装置，其特征在于，所述薄膜下方设有收集架，所述吸附磁铁位于收集机架内部。
3.根据权利要求2所述的一种薄膜表面清洁装置，其特征在于，所述机架与收集架下均固定连接有滑轮。
【专利摘要】本实用新型公开了一种薄膜表面清洁装置，其技术方案要点是包括位于薄膜拉伸机和薄膜收卷机之间用于清除薄膜表面残留的薄膜碎片和金属粉末的清除机构，所述清除机构包括机架和离子风机，所述离子风机固定连接于机架且位于薄膜上方，所述薄膜下方还设有吸附磁铁。清除机构的设置有利于薄膜在进入收卷工序之前其表面的金属末和薄膜碎片等杂质可以被清理干净，避免了这些杂质在收卷过程中对薄膜表面进行的伤害，清除机构由离子风机和机架构成，由于薄膜表面存在很强的静电吸附，离子风机是根据尖端放电和正负电“中和”原理设计制造的。它可消除绝缘材料及物品上的静电，从而通过风力带动，将薄膜表面的金属末和薄膜碎片等杂质清理干净。
【IPC分类】H05F3-04, B03C1-02, B29C55-04, B08B5-02
【公开号】CN204564665
【申请号】CN201520051436
【发明人】杨世京, 高存锁
【申请人】杭州中塑包装材料有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年1月24日