专利名称：有害物质除去方法
技术领域：
本发明涉及有害物质除去方法，详细地说，涉及从内燃机或焚烧炉排出的气体中， 不使用稀有金属催化剂，除去一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质等有害物质的有害物质除 去方法。
背景技术：
如内燃机或焚烧炉那样，通过燃料或垃圾燃烧而排出的气体中作为有害物质含有 一氧化碳。作为除去该一氧化碳的技术，已知从前采用钼或钯等稀有金属制成过滤装置的 氧化催化剂。采用这种氧化催化剂，气体通过该过滤装置时，稀有金属使其发生氧化反应， 气体中的一氧化碳转换为二氧化碳。另外，从柴油发动机或焚烧炉排出的气体中，大量含有作为有害物质的颗粒状物 质。作为除去该颗粒状物质的技术，专利文献1公开一种采用开有多孔的耐热板构成的过 滤装置，捕集颗粒状物质的技术。然而，采用上述氧化催化剂的排气净化水平，为了符合日益严格的环保标准，必需 大量使用钼或钯等稀有金属。因此，稀有金属日益枯竭，价格高腾趋势，已变成人们关注的 社会问题。另外，通过氧化反应产出的二氧化碳，是招致地球变暖的温室效应气体，减少该二 氧化碳排放量已成为国际性课题。还有，颗粒状物质易在大气中悬浮，在人体呼吸道或肺中沉积而损害健康，成为大 气污染的主要原因，希望进一步除去。专利文献1 特开平11-257048号公报
发明内容
发明要解决的课题本发明的目的是为了解决上述问题，提供一种从内燃机或焚烧炉排出的气体中， 不使用稀有金属催化剂，除去一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质等有害物质的有害物质除 去方法。用于解决课题的手段为了解决上述问题，本发明采用的技术手段是除去气体中有害物质的方法，该方 法是在至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害 物质的有害物质除去方法。另外，有害物质除去方法，即除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法 具有从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害 物质的一次工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过上述一次工序的气体 接触，把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序。还有，有害物质除去方法，即除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法 具有从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害 物质的一次工序；使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成 的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过上述一次工序的气体接触， 把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序；以 及，从通过上述二次工序的气体中，进 一步除去该气体中残留的有害物质的残留有害物质除去工序。另外，有害物质除去方法，即除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法 具有从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中有害物 质的一次工序；从通过上述一次工序的气体，把气体中残留的有害物质进一步除去的残留 有害物质除去工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群 所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过上述残留有害物质 除去工序的气体接触，把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序。还有，有害物质除去方法，即除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法 是把至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含 乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，配合在至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生 物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，从该液 体中放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质。另外，有害物质除去方法，即除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法 具有把至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及 含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，配合在至少含有含光合成菌的菌群所构成的微 生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，从该 液体中放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质的一次工序；以及，从通过上述一 次工序的气体，把该气体中残留的有害物质进一步除去的残留有害物质除去工序。再有，上述各有害物质除去方法，作为最终处理，也可具有从气体中进行脱臭的脱 臭工序，另外，从液体中放出气体时也可使气体形成细微气泡状放出。发明效果按照本发明，提供一种从内燃机或焚烧炉排出的气体中，不使用稀有金属催化剂， 除去一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质等有害物质的有害物质除去方法。
图1 (a)为表示实施例1的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例1的 有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。图2(a)为表示实施例2的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例2的 有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。图3(a)为表示实施例3的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例3的有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。图4(a)为表示实施例4的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例4的 有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。图5(a)为表示实施例5的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例5的 有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。图6 (a)为表示实施例6的有害物质除去方法的工序的流程图。(b)为实施例6的 有害物质除去方法使用的处理装置一构成例的概略构成说明图。符号说明A内燃机或焚烧炉B 一次工序 C残留有害物质除去工序D 二次工序E 脱臭工序L焙烧体M脱臭装置S 液体
具体实施例方式下面对本发明的该有害物质除去方法加以详细说明。还有，本发明中所谓除去， 不仅包括有害物质全部除去的场合，还包括6仅除去部分有害物质的状态(有害物质排出 量减轻的状态)的概念。另外，本发明中的所谓有害物质，作为一例，不仅可以举出一氧化 碳、二氧化碳及颗粒状物质等，但又不限于这些，在本发明的范围内还包括其他周知的有害 物质的概念。另外，在以下说明的各实施例中，各工序可以除去的有害物质的概念也有所不 同。另外，颗粒状物质只要是空气中悬浮的非常细微的粒子即可，包括尘埃、煤灰或粉尘的 概念。实施例1图1 (a)为表示实施例1的有害物质除去方法的工序的流程图。另夕卜，图1 (b)表 示除去有害物质的处理装置的本实施例的概略构成。本实施例中，采用把从内燃机或焚烧炉(A)排出的含一氧化碳、二氧化碳及颗粒 状物质等有害物质的气体，导入有害物质处理工序B进行处理后排出(F)的方法。通过有害物质处理工序B，使液体S中含有的微生物与气体反应，进行处理。上述液体S至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构 成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物。这些微生物，通过与通过液体中的上述气体反应，使这些气体中含有的一氧化碳、 二氧化碳及颗粒状物质等有害物质被除去处理。其次，对本实施例的有害物质除去方法中使用的处理装置一构成例概要加以说 明。本实施例采用的处理装置具有导入成为处理对象的气体的导入孔2d，以及把处 理过的气体排出外部的排出孔2e ；除该导入孔及排出孔外，还由形成密闭状的有害物质处理槽2a，以及，该有害物质处理槽2a内盛放的上述液体S构成，上述有害物质处理工序B， 是在该处理装置的内部进行处理。导入孔2d，设置在有害物质处理槽2a的下部区域2c，该导入孔2d，与把从内燃机 或焚烧炉(A)排出的气体导入有害物质处理槽2a内部的导管AP连接。
排出孔2e，设置在有害物质处理槽2a的上部区域2b，与通过该有害物质处理槽2a 内的液体S中有害物质被除去的气体排至外部的导管BP连接。还有，在本实施例中，在有害物质处理槽2a中盛放的上述液体S被放入，以使在有 害物质处理槽2a的上部区域2b留有空间。在本实施例中，上述导管AP的构成如下。导管AP具有从有害物质处理槽2a外部，通过导入孔2d，向有害物质处理槽2a内 部的下部区域2c内插入，在该下部区域2c中以被覆有害物质处理槽2a底面那样构成的延 长部PE。而且，该延长部PE上形成许多细孔。如果形成这样的结构，则在液体S的最深部 位，气体从多个孔向形成细微泡H，从液体S中放出。此时，与大的泡相比，细微泡H，由于液 体S中含有的微生物与泡H的接触积极，可促进气体的处理，是优选的。另外，该导管AP，在上述下部区域2c中也可具有多个。另外，在本实施例中，导管AP可以形成直的管状，但也可以螺旋状处在上述下部 区域2c中。还有，导管AP不限于本实施例采用的形态，例如，也可以是仅从外部紧密嵌入导 入孔2d的形态等，在本发明的范围内可作设计变更。按照上述处理装置，从内燃机或焚烧炉㈧的排气，通过导管AP排放至有害物质 处理槽2a内部的液体S中。而且，排放至上述液体S中的气体，通过液体S中含有的微生物的作用，气体中的 一氧化碳与二氧化碳被除去处理的同时，颗粒状物质从气体中被分离处理，进入液体S中， 沉淀至有害物质处理槽2a的底部(有害物质处理工序B)。即，在有害物质处理工序B被处 理过的、通过液体S中，暂时停留于有害物质处理槽2a的上部区域2b的气体，一氧化碳、二 氧化碳及颗粒状物质已被除去。因此，从上部区域2b通过导管BP排出(F)的气体，如上所述，是有害物质被除去 的清洁气体。实施例2图2(a)为表示实施例2的有害物质除去方法的工序的流程图。在本实施例中，具有一次工序B与二次工序D。即，采用以下方法把从内燃机或焚 烧炉(A)排出的含一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质等有害物质的气体，导入一次工序B， 实施有害物质除去处理，再把上述一次工序未除去的残留有害物质，在二次工序D除去处 理后排出(F)0在该二次工序D，一次工序B未除去的一氧化碳或二氧化碳等有害物质残留时，其 一氧化碳或二氧化碳被进一步除去。因此，即使在本实施例中，在采用与实施例1同样一次 工序B的除去处理的阶段，有害物质也可完全除去。还有，本实施例的一次工序B，由于是与上述实施例1中说明的有害物质处理工序B同样内容的工序，故本实施例中省略其说明。因此，在这里对二次工序D加以说明。在该二次工序D中，焙烧体L中含有的微生物与经过一次工序B的气体反应进行
处理。 上述焙烧体L，以陶瓷作为主成分，其中至少含有含光合成菌的菌群所构成的微 生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物而构成。另外，在本实施例采用的焙烧体L中形成了可通过气体的贯穿孔。如这样形成的 结构，气体与焙烧体L的接触面积增大，可促进微生物所致的处理，是优选的。这些微生物，在焙烧体L的表面，与经过一次工序B的气体反应，该气体中含有的 (残留的)一氧化碳、二氧化碳等有害物质被除去处理。其次，对本实施例的有害物质除去方法中使用的处理装置一构成例的概要加以说 明(图 2(b))。还有，本实施例的一次工序B的处理装置，由于与上述实施例1中说明的有害物质 处理工序B的处理装置具有同样的构成，故在这里省略一次工序B的处理装置的说明。还 有，上述实施例1中说明的有害物质处理槽2a，在本实施例中称作一次工序处理槽2a。本实施例中采用的处理装置，具备把从一次工序B介由导管BP排出的气体导入 的导入孔4d以及把处理过的气体排至外部的排出孔4e ；除该导入孔及排出孔外，还由形成 密闭状的二次工序处理槽4a，以及，该二次工序处理槽4a内盛放的上述焙烧体L构成，上述 二次工序D，在该处理装置的内部进行处理。导入孔4d，设置在二次工序处理槽4a的下部区域4c，该导入孔4d，与把有害物质 处理槽2a的气体导入二次工序处理槽4a内部的导管BP连接。排出孔4e，设置在二次工序处理槽4a的上部区域4b，与把通过该二次工序处理槽 4a内的焙烧体L除去了有害物质的气体排至外部的导管DP连接。上述焙烧体L，以在上述二次工序处理槽4a的内部，于上部区域4b及下部区域4c 内留有空间地设置。另外，焙烧体L的贯穿孔，贯穿孔的方向为流过二次工序处理槽4a的气体的方向， 艮口，在本实施例中，相应上下方向而配置。由此，气体可通过焙烧体L的贯穿孔。按照上述处理装置，从一次工序处理槽2a排出的气体，通过导管BP排放至二次工 序处理槽4a内部的上部区域4b。此时，由于内燃机或焚烧炉(A)连续排出气体，故该气体 经过一次工序处理槽2a，连续地流入二次工序处理槽4a。因此，在二次工序处理槽4a中气 体从上部区域4b向下部区域4c流动。而且，在气体流动时，边与上述焙烧体L外表面接 触，或边与贯穿孔的内表面接触边通过，焙烧体L含有的微生物与气体反应，气体中残留的 一氧化碳与二氧化碳等有害物质被除去处理。而且，二次工序处理完成灼气体，从二次工序处理槽4a的导管DP排至二次工序处 理槽4a的外部。因此，从下部区域4b通过导管DP排出(F)的气体，如上所述，是有害物质被除去 的清洁气体。还有，采用本实施例的处理装置，焙烧体L的贯穿孔的方向按气体的流动方向配 置，但又不限于此，贯穿孔的方向与气体的流动方向成一定角度配置也可。此时，焙烧体L 的贯穿孔内流动的气体，由于比焙烧体L的外表面流动的气体缓慢，在贯穿孔内，气体与微生物的反应时间比较长，可促进有害物质的除去处理。实施例3图3(a)为表示实施例3的有害物质除去方法的工序的流程图。在本实施例中，除一次工序B与二次工序D外，还具有把气体中残留的有害物质进 一步除去的残留有害物质除去工序C。即，可以采用把内燃机或焚烧炉(A)的气体，采用一 次工序B把一氧化碳或二氧化碳，或颗粒状物质等有害物质进行除去处理，再把通过一次 工序B的气体中未除去的一氧化碳或二氧化碳等残留的有害物质，用二次工序D进行除去 处理，而且，经过该二次工序D的气体中未除去的颗粒状物质等残留的有害物质，用残留有 害物质除去工序C加以除去处理后排出(F)至外部的方法。采用该残留有害物质除去工序C时，当一次工序B中未除去的颗粒状物质等有害 物质残留时，该颗粒状物质可被进一步除去。因此，在本实施例中，在与实施例1同样用一 次工序B的除去处理的阶段，有害物质也可完全除去。
还有，本实施例的一次工序B，由于与上述实施例1中说明的有害物质处理工序B 的工序具有相同的内容，本实施例的二次工序D与上述实施例2中说明的工序具有相同的 内容，故在这里省略一次工序B与二次工序D的说明。以残留有害物质除去工序C的构成 为中心加以说明。采用残留有害物质除去工序C时，在残留有害物质除去装置J，与经过二次工序D 的气体反应，取出气体中残留的颗粒状物质，进行除去气体颗粒状物质的处理。其次，对本实施例的有害物质除去方法中使用的处理装置一构成例的概要加以说 明(图 3(b))。还有，本实施例的一次工序B的处理装置及二次工序D的处理装置之后，具有残留 有害物质除去工序C的处理装置的构成，该一次工序B的处理装置及二次工序D的处理装 置，在上述实施例2中已作了说明，故在这里以残留有害物质除去工序C的构成为中心加以 说明。本实施例中采用的处理装置，具有把从二次工序D介由导管DP排出的气体加以 导入的导入孔3d以及把处理过的气体排至外部的排出孔3e ；除该导入孔及排出孔外，还由 形成密闭状的二次工序处理槽3a ；以及，该残留有害物质除去槽3a内盛放的上述焙烧体L 构成，上述残留有害物质除去工序C，在该处理装置的内部进行处理。导入孔3d，设置在残留有害物质除去槽3a的下部区域3c，该导入孔3d，与从二次 工序处理槽4a导入残留有害物质除去槽3a内部的气体的导管DP连接。排出孔3e，设置在残留有害物质除去槽3a的上部区域3b，通过该残留有害物质除 去槽3a内的残留有害物质除去装置J，与把除去了有害物质的气体排至外部的导管CP连 接。上述残留有害物质除去装置J，在上述有害物质除去槽3a的内部，于上部区域3b 及下部区域3c内残留空间地设置。本实施例的残留有害物质除去装置J，具有可通过气体的内部空间，通过该空间外 部具有的电源K供给的电荷，在上述残留有害物质除去装置J的内部空间内产生负离子。此 时，通过负离子吸附带正电的颗粒状物质，从气体中除去。采用上述处理装置，从二次工序处理槽4a排出的气体，通过导管PD，排放至残留有害物质除去槽3a内部的下部区域3c。此时，由于内燃机或焚烧炉(A)连续地排出气体， 该气体经过二次工序处理槽4a连续地流入残留有害物质除去槽3a。因此，在残留有害物质 除去槽3a内，气体从下部区域3c向上部区域3b流动。而且，在气体流动时，由于通过上述 残留有害物质除去装置J的内部空间，负离子反应，气体中带正电的 残留颗粒状物质被处 理除去。而且，残留有害物质除去工序处理完成的气体，从残留有害物质除去槽3a的导管 CP向残留有害物质除去槽3a的外部排出。因此，从上部区域3b通过导管CP向外部排出(F)的气体，如上所述，是有害物质 被除去的清洁气体。实施例4在上述实施例3中，在一次工序B与二次工序D之后采用残留有害物质除去工序 C，实施残留有害物质除去处理，但在本实施例中，残留有害物质除去工序C如图4(a)所示 的流程图，采用在一次工序B与二次工序D之间进行处理的方法。即，内燃机或焚烧炉(A) 的气体，一氧化碳或二氧化碳，或颗粒状物质等被除去，另外，如不在一次工序B加以除去， 则气体中残留的有害物质中的颗粒状物质在残留有害物质除去工序C被处理除去，而且， 经过该残留有害物质除去工序C，当气体中残留一氧化碳或二氧化碳时，该气体中残留的一 氧化碳或二氧化碳在二次工序D被处理除去后排出(F)至外部。即使在这种情况下，也可以得到与上述实施例3同样的效果。本实施例中，作为有害物质除去方法中使用的处理装置，其构成与实施例3同样， 在本实施例中，一次工序B采用的处理装置的导管BP与残留有害物质除去槽3a的导入孔 连接，排出孔与二次工序D采用的处理装置的导入孔上连接的导管CP连接。各工序的处理装置的构成及作用效果，与上述权利要求1至权利要求3同样，故其 说明省略。实施例5在本实施例中，采用实施例2中说明的焙烧体L进行处理。S卩，如图5(a)的流程 图所示，采用在气体中含有的一氧化碳或二氧化碳以及颗粒状物质等有害物质的除去处理 方法。即，如图5(a)的流程图所示，从内燃机或焚烧炉㈧排出的气体，采用液体S与焙烧 体L的同时处理工序(G)处理后排出(F)至外部。即使在此情况下，也可以得到与上述实施例2同样的效果。其次，采用本实施例的有害物质除去方法，按照图5(a)的流程图处理的处理装置 一构成例的概略示于图5(b)。采用含微生物的液体S与含微生物的焙烧体L的同时处理工序(G)，在有害物质除 去槽2a的内部进行处理。S卩，本实施例的处理装置，其结构是在盛放上述实施例2的一次工序B中使用的 液体S的有害物质除去槽2a内，配置二次工序D使用的焙烧体L。此时，有害物质除去槽2a的下部区域2c中设置的导入孔2d，与从内燃机或焚烧 炉(A)向有害物质除去槽2a的内部导入排气的导管AP连接，另外，有害物质除去槽2a的 上部区域2b上设置的排出孔2e，具有导管BP，把经同时处理工序(G)处理后的气体排出。还有，即使在本实施例中，与上述实施例2同样，焙烧体L具有可通过气体的贯穿孔是优选的。另外，与上述实施例1同样，采用气体在液体S中作为细微气泡H放出的结构 (具有延长部PE的导管AP的结构)是优选的。因此，在同时处理工序(G)的处理中，气体被含微生物的液体S及含微生物的焙烧 体L的双方同时进行处理。其他的构成及作用效果，与上述实施例2同样，故其说明省略。还有，本实施例的同时处理工序(G)处理后，也可用实施例3说明的残留有害物质 除去工序C进行处理。
此时的处理装置中除有害物质除去槽2a外，还可以具有实施例3说明的残留有害 物质除去槽3a。另外，本实施例的同时处理工序(G)，也可用上述实施例2至实施例4的一次工序 (B)取代。此时，由于用焙烧体L重复进行处理，故有害物质的除去效率更加提高。实施例6在上述实施例1至实施例5说明的处理工序的最后，作为最终处理也可具备消臭工序。在本实施例中，作为一例，除上述实施例4中说明的处理工序以外，作为最终处理 还可具备消臭工序(参照图6(a)的流程图)。即，内燃机或焚烧炉㈧的气体，可以采用 在一次工序B处理除去一氧化碳或二氧化碳，或颗粒状物质等有害物质，再把一次工序B从 气体中未除去的颗粒状物质等残留有害物质，用残留有害物质除去工序C进行除去处理， 另外，把用一次工序B从气体中未除去的一氧化碳或二氧化碳等残留有害物质，用二次工 序D进行除去处理，再用脱臭工序E进行脱臭处理后排出(F)至外部的方法。还有，本实施例的一次工序B，与上述实施例1中说明的有害物质处理工序B的工 序具有相同的内容，本实施例的残留有害物质处理工序C的工序与上述实施例3中说明的 残留有害物质处理工序C的工序具有相同的内容，本实施例的二次工序D与上述实施例2 说明的工序具有相同的内容，故在这里，对一次工序B与残留有害物质处理工序C与二次工 序D的说明省略，以脱臭工序E的构成为中心进行说明。在脱臭工序E，在脱臭装置M中，经过残留有害物质处理工序C的气体发生反应，进 行气体中不愉快的臭味的脱臭处理。其次，沿上述图6(a)的流程图进行处理的处理装置一构成例的简要构成示于图 6(b)，按照该图进行说明。对本实施例的有害物质处理方法使用的处理装置一构成例的简要构成加以说明 (图 6(b))。还有，本实施例的构成是在一次工序B的处理装置及残留有害物质处理工序C及 二次工序D的处理装置之后具有脱臭工序E的处理装置，该一次工序B的处理装置及二次 工序D的处理装置在上述实施例2中已作了说明，残留有害物质处理工序C的处理装置在 上述实施例3中已作了说明，故在这里以脱臭工序E的处理装置的构成为中心加以说明。本实施例中采用的处理装置，具有把从二次工序D通过导管DP排出的气体导入 的导入孔5d以及把处理过的气体排出至外部的排出孔5e ；除该导入孔及排出孔以外，还以 具有形成密闭状的脱臭工序处理糟5a以及该脱臭工序处理糟5a内盛放的上述脱臭装置M 而构成，上述脱臭工序E在该处理装置的内部进行处理。导入孔5d，设在脱臭工序处理糟5a的下部区域5c，该导入孔5d，与从二次工序处理槽4a向脱臭工序处理糟5a内部导入气体的导管DP连接。排出孔5e，设在脱臭工序处理糟5a的上部区域5b，通过该脱臭工序处理糟5a内 的脱臭装置M,与把不愉快的臭味脱除了的气体排出至外部的导管EP连接。上述脱臭装置M，以在上述脱臭工序处理糟5a的内部，于上部区域5b及下部区域 5c中残留空间地设置。
本实施例的脱臭装置M，具有可通过气体的内部空间，当气体通过该空间时，把气 体中不愉快的臭味进行脱臭处理。作为脱臭装置M，本实施例中采用用如活性炭等多孔体 的细微的孔吸附臭味分子的脱臭装置。采用上述处理装置，从二次工序处理槽4a排出的气体，通过导管DP，排出至脱臭 工序处理糟5a内部的下部区域5c。此时，内燃机或焚烧炉(A)，由于连续排出气体，该气体 经过二次工序处理槽4a，连续地流入脱臭工序处理糟5a。因此，在脱臭工序处理糟5a，气体 从下部区域5c向上部区域5b流动。而且，在气体流动时，通过上述脱臭装置M的内部空间 进行脱臭处理。而且，脱臭处理工序处理完成的气体，从脱臭工序处理糟5a的导管EP排出至脱臭 工序处理糟5a的外部。因此，从上部区域5b通过导管EP排出(F)至外部的气体，如上所述，是有害物质 被除去的清洁气体。还有，上述各实施例的一次工序B及二次工序D使用的含光合成菌的菌群形成的 微生物、含酵母菌的菌群形成的微生物、及含乳酸菌的菌群形成的微生物，既可至少含有， 也可添加其他微生物。此时，可以更加期待微生物的活动被活化。另外，各菌群的比例，可 根据期待的有害物质的浓度等任意设定。上述实施例2至实施例4中说明的处理装置，各处理槽横向排列配置，但处理槽的 配置方案也可以是其他配置方案。例如，按照处理工序的顺序，也可纵向排列配置。另外， 备处理槽不用导管连接，通过处理槽彼此直接相邻连接，气体也可以是在各处理槽中流动 的形态。另外，也可采用多台处理装置汇集于一个处理槽中的结构。例如，也可在实施例2 的一次工序处理槽2a的上部区域2b的空间配置二次处理工序D的焙烧体L。
权利要求
有害物质除去方法，其是除去的气体中的有害物质方法，该方法是从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质的有害物质除去方法。
2.有害物质除去方法，其是除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法具有 从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳 酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质 的一次工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含光酵母菌的菌群所构 成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过了上述一次工序的气体 接触，把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序。
3.有害物质除去方法，其是除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法具有 从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物及、含乳 酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质 的一次工序；使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、及含酵母菌的菌群所构成的 微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过了上述一次工序的气体接触， 把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序；以及，从通过了上述二次工序的气体，进 一步除去该气体中残留的有害物质的残留有害物质除去工序。
4.有害物质除去方法，其是除去气体中的有害物质的方法，其特征在于，该方法具有 从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳 酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质 的一次工序；从通过了上述一次工序的气体，把气体中残留的有害物质进一步除去的残留 有害物质除去工序；以及，使至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群 所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，与通过了上述残留有害物 质除去工序的气体接触，把气体中残留的有害物质进一步除去的二次工序。
5.有害物质除去方法，其是气体中的有害物质除去方法，其特征在于，该方法是把至 少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌 的菌群所构成的微生物的焙烧体，配合在至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含 酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，从该液体中 放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质。
6.有害物质除去方法，其是气体中的有害物质除去方法，其特征在于，该方法具有把 至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸 菌的菌群所构成的微生物的焙烧体，配合在至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物 及、含酵母菌的菌群所构成的微生物及、含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体中，从该液 体中放出含有害物质的气体，除去该气体中的有害物质的一次工序；以及，从通过了上述一 次工序的气体，把该气体中残留的有害物质进一步除去的残留有害物质除去工序。
7.按照权利要求1至权利要求6的任何一项所述的有害物质除去方法，其特征在于，作 为最终处理，具有从气体中进行脱臭的脱臭工序。
8.按照权利要求1至权利要求7的任何一项所述的有害物质除去方法，其特征在于，从 液体中放出气体时，使气体形成细微气泡而放出。
9.按照权利要求1或权利要求5中所述的有害物质除去方法，其特征在于，被除去的有 害物质为一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质。
10.按照权利要求2至权利要求4中任何一项所述的有害物质除去方法，其特征在于， 一次工序除去的有害物质为一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质。
11.按照权利要求3或权利要求4中所述的有害物质除去方法，其特征在于，二次工序 除去的有害物质为二氧化碳与一氧化碳。
12.按照权利要求3或权利要求4中所述的有害物质除去方法，其特征在于，残留有害 物质除去工序除去的有害物质为颗粒状物质。
全文摘要
本发明提供一种从内燃机或焚烧炉排出的气体中，不使用稀有金属催化剂，除去一氧化碳、二氧化碳及颗粒状物质等有害物质的有害物质除去方法。该方法具有从至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的液体S中，放出内燃机或焚烧炉(A)排出的气体，除去该气体中的二氧化碳与一氧化碳及颗粒状物质的一次工序B；进一步去颗粒状物质的残留有害物质除去工序C；与至少含有含光合成菌的菌群所构成的微生物、含酵母菌的菌群所构成的微生物、及含乳酸菌的菌群所构成的微生物的焙烧体接触，把该气体中二氧化碳及一氧化碳进一步除去的二次工序D；以及，从气体中采用脱臭装置M进行脱臭的脱臭工序E。
文档编号B01D53/81GK101970085SQ20088012559
公开日2011年2月9日 申请日期2008年12月27日 优先权日2007年12月28日
发明者久保田样规 申请人:雷恩宇宙有限责任公司