旋转涂胶平台的制作方法

本实用新型属于涂胶装置的技术领域，特别是涉及一种旋转涂胶平台。

背景技术：

现有旋转涂胶平台的转台在旋转过程中会产生上下移位的问题，给涂胶过程带来一定的不便，同时会对涂胶质量造成一定的影响。另外，现有旋转涂胶平台为坐地式结构，移动难度大。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种旋转涂胶平台，提高对转台在高度方向的定位精度，避免转台产生上下移位。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是提供一种旋转涂胶平台，包括支撑架、转台、转轴、轴承座、第一轴承和第二轴承，所述转轴固定在支撑架上，所述轴承座安装在转台底部，所述转轴与轴承座之间通过第一轴承和第二轴承装配，所述轴承座的内腔上部和下部分别形成台阶状，所述转轴的顶端固定有挡板、下部形成台阶状，所述第一轴承的外圈与轴承座上部台阶结构抵靠、内圈与挡板抵压，所述第二轴承的外圈与轴承座下部台阶结构抵压、内圈与转轴下部台阶结构抵靠。

所述第一轴承和第二轴承为圆锥滚子轴承。

所述支撑架包括支撑板和支撑柱，所述支撑柱安装于支撑板上。

所述转轴安装在支撑柱顶部。

所述支撑架上安装有胶枪支架。

所述支撑架底部安装有可切换的滑轮和支撑地脚。

有益效果

在本实用新型中，转轴与轴承座之间的第一轴承和第二轴承的内圈和外圈分别通过限位结构进行限位，能够提高对转台在高度方向的定位精度，从而避免转台产生上下移位。本实用新型的底部安装有可切换的滑轮和支撑地脚，能够在需要对旋转涂胶平台进行移动时切换到滑轮从而方便移动。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图。

图2为本实用新型的平面结构示意图。

图3为图2中a-a剖面结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解，在阅读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改，这些等价形式同样落于

本技术：
所附权利要求书所限定的范围。

如图1-3所示的一种旋转涂胶平台，包括支撑架1、转台2、转轴3、轴承座4、第一轴承5和第二轴承6。

支撑架1包括支撑板和支撑柱，支撑柱安装于支撑板上，转轴3通过螺栓固定安装在支撑柱的顶部。轴承座4安装在转台2底部，转轴3与轴承座4之间通过第一轴承5和第二轴承6装配，从而实现转台2绕转轴3转动，方便人工进行涂胶操作。

如图3所示，轴承座4的内腔上部和下部分别形成台阶状，转轴3的顶端固定有挡板7、下部形成台阶状。第一轴承5和第二轴承6均为圆锥滚子轴承，第一轴承5的外圈与轴承座4上部台阶结构抵靠、内圈与挡板7抵压，第二轴承6的外圈与轴承座4下部台阶结构抵压、内圈与转轴3下部台阶结构抵靠。第一轴承5和第二轴承6的内圈和外圈分别通过限位结构进行限位，能够提高对转台2在高度方向的定位精度，从而避免转台2产生上下移位。

支撑架1的支撑板上安装有胶枪支架8。支撑板底部的四角位置分别安装有可切换的滑轮9和支撑地脚10，能够在需要对旋转涂胶平台进行移动时切换到滑轮9，从而方便移动。

技术特征：

1.一种旋转涂胶平台，包括支撑架(1)、转台(2)、转轴(3)、轴承座(4)、第一轴承(5)和第二轴承(6)，其特征在于：所述转轴(3)固定在支撑架(1)上，所述轴承座(4)安装在转台(2)底部，所述转轴(3)与轴承座(4)之间通过第一轴承(5)和第二轴承(6)装配，所述轴承座(4)的内腔上部和下部分别形成台阶状，所述转轴(3)的顶端固定有挡板(7)、下部形成台阶状，所述第一轴承(5)的外圈与轴承座(4)上部台阶结构抵靠、内圈与挡板(7)抵压，所述第二轴承(6)的外圈与轴承座(4)下部台阶结构抵压、内圈与转轴(3)下部台阶结构抵靠。

2.根据权利要求1所述的一种旋转涂胶平台，其特征在于：所述第一轴承(5)和第二轴承(6)为圆锥滚子轴承。

3.根据权利要求1所述的一种旋转涂胶平台，其特征在于：所述支撑架(1)包括支撑板和支撑柱，所述支撑柱安装于支撑板上。

4.根据权利要求3所述的一种旋转涂胶平台，其特征在于：所述转轴(3)安装在支撑柱顶部。

5.根据权利要求1所述的一种旋转涂胶平台，其特征在于：所述支撑架(1)上安装有胶枪支架(8)。

6.根据权利要求1所述的一种旋转涂胶平台，其特征在于：所述支撑架(1)底部安装有可切换的滑轮(9)和支撑地脚(10)。

技术总结
本实用新型涉及一种旋转涂胶平台，包括支撑架、转台、转轴、轴承座、第一轴承和第二轴承，转轴固定在支撑架上，轴承座安装在转台底部，转轴与轴承座之间通过第一轴承和第二轴承装配，轴承座的内腔上部和下部分别形成台阶状，转轴的顶端固定有挡板、下部形成台阶状，第一轴承的外圈与轴承座上部台阶结构抵靠、内圈与挡板抵压，第二轴承的外圈与轴承座下部台阶结构抵压、内圈与转轴下部台阶结构抵靠。本实用新型能够提高对转台在高度方向的定位精度，从而避免转台产生上下移位。

技术研发人员：张宇
受保护的技术使用者：上海君屹工业自动化股份有限公司
技术研发日：2019.04.08
技术公布日：2020.04.14