一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及实验设备领域，尤其涉及一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水
目.0
【背景技术】
[0002]实验室的圆底烧瓶在实验结束洗刷干净后，由于烧瓶的瓶底是圆球形，且瓶颈的直径较小，瓶身较瓶颈大很多，烧瓶无法倒立，烧瓶内沾在瓶壁上的少许的水没有办法让其全部流出来，靠自然蒸发需要较长的时间，容易影响下次使用。且由于烧瓶的规格不同，烧瓶的平身大小也不相同，因此，控水装置中用于固定烧瓶的部件之间的间隙无法准确定位。
【实用新型内容】
[0003]基于上述【背景技术】存在的技术问题，本实用新型提出一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，该控水装置中用于固定烧瓶的部件可以根据烧瓶瓶身的大小调节间隙。
[0004]本实用新型提出了一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，包括:支撑架和装配在支撑架上的若干组活动架，支撑架包括第一主杆、第二主杆、以及固定在第一主杆上的第一支撑杆和固定在第二主杆上的第二支撑杆，第一主杆和第二主杆相对设置且第一主杆和第二主杆相对面均设置有滑槽，第一主杆和第二主杆之间还连接有第一连杆和第二连杆；活动架包括滑杆和滑动连接在滑杆上的若干滑块，其中，滑杆的两端分别装配在滑槽内，滑块的端面上设置有放置槽，放置槽贯穿滑块本体；滑块的侧面设置有安装孔，安装孔的截面形状与滑杆的截面形状相匹配；滑块通过安装孔与滑杆的配合实现与滑杆的滑动连接。
[0005]优选地，支撑架的下方设置有集水槽，集水槽的上端固定在第一主杆、第二主杆、以及第一连杆和第二连杆上，集水槽的底部设有出水口。
[0006]优选地，集水槽截面形状为漏斗形。
[0007]优选地，安装孔的数量至少为两个且沿滑块的中轴线对称分布。
[0008]优选地，滑杆的截面形状为矩形。
[0009]优选地，放置槽内侧设有防护垫。
[0010]优选地，防护垫为硅胶材料制成。
[0011]本实用新型将用于固定烧瓶的放置槽设置在独立的滑块上，将滑块活动式安装在滑杆上，并将滑杆的两端活动式安装在第一主杆和第二主杆上的滑槽内，使用时，通过滑块在滑杆上的滑动调整滑块之间的横向距离，通过滑杆在滑槽内的滑动调整滑块之间的纵向距离，以适应瓶身大小的需求，简单实用。此外，本实用新型还在支撑架的下方设置集水槽，用于将烧瓶控下来的水收集，避免滴湿工作场地；且本实用新型中的滑杆的截面形状设置为矩形，放置更加稳固可靠。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置的结构示意图；
[0013]图2为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置的俯视图；
[0014]图3为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置中滑块与滑杆的装配示意图。
【具体实施方式】
[0015]下面，通过具体实施例对本实用新型的技术方案进行详细说明。
[0016]如图1-3所示，图1为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置的结构示意图；图2为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置中支撑架的俯视图；图3为本实用新型提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置中滑块与滑杆的装配示意图。
[0017]参照图1-3，本实用新型实施例提出的一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，包括:支撑架I和装配在支撑架I上的若干组活动架2，在支撑架I的下方设置有集水槽6，集水槽6的底部设有出水口 61，集水槽6截面形状为漏斗形；支撑架I包括第一主杆
11、第二主杆12、以及固定在第一主杆11上的第一支撑杆13和固定在第二主杆12上的第二支撑杆14，第一主杆11和第二主杆12相对设置且第一主杆11和第二主杆12相对面均设置有滑槽3，第一主杆11和第二主杆12之间还连接有第一连杆15和第二连杆16，其中，集水槽6的上端固定在第一主杆11、第二主杆12、以及第一连杆15和第二连杆16上；活动架2包括滑杆21和滑动连接在滑杆21上的若干滑块22，其中，滑杆21的截面形状为矩形，滑杆21的两端分别装配在滑槽3内，滑块22的端面上设置有放置槽4，放置槽4贯穿滑块22本体，放置槽4内侧设有用硅胶材料制成的防护垫41 ;滑块22的侧面设置有安装孔5，安装孔5的截面形状与滑杆21的截面形状相匹配，安装孔5的数量为两个且沿滑块22的中轴线对称分布；滑块22通过安装孔5与滑杆21的配合实现与滑杆21的滑动连接。
[0018]本实用新型在使用时，通过滑块22在滑杆21上的滑动调整滑块22之间的横向距离，通过滑杆21在滑槽3内的滑动调整滑块22之间的纵向距离，以实用瓶身大小的需求。
[0019]以上所述，仅为本实用新型较佳的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，其特征在于，包括:支撑架(I)和装配在支撑架(I)上的若干组活动架(2)，支撑架(I)包括第一主杆(11)、第二主杆(12)、以及固定在第一主杆(11)上的第一支撑杆(13)和固定在第二主杆(12)上的第二支撑杆(14)，第一主杆(11)和第二主杆(12)相对设置且第一主杆(11)和第二主杆(12)相对面均设置有滑槽(3)，第一主杆(11)和第二主杆(12)之间还连接有第一连杆(15)和第二连杆(16);活动架(2)包括滑杆(21)和滑动连接在滑杆(21)上的若干滑块(22)，其中，滑杆(21)的两端分别装配在滑槽(3)内，滑块(22)的端面上设置有放置槽(4)，放置槽(4)贯穿滑块(22)本体；滑块(22)的侧面设置有安装孔(5)，安装孔(5)的截面形状与滑杆(21)的截面形状相匹配；滑块(22)通过安装孔(5)与滑杆(21)的配合实现与滑杆(21)的滑动连接。
2.根据权利要求1所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，其特征在于，支撑架(I)的下方设置有集水槽(6)，集水槽(6)的上端固定在第一主杆(11)、第二主杆(12)、以及第一连杆(15)和第二连杆(16)上，集水槽(6)的底部设有出水口(61)。
3.根据权利要求2所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，其特征在于，集水槽(6)截面形状为漏斗形。
4.根据权利要求1所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，其特征在于，安装孔(5)的数量至少为两个且沿滑块(22)的中轴线对称分布。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，其特征在于，滑杆(21)的截面形状为矩形。
6.根据权利要求1所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，放置槽(4)内侧设有防护垫(41)。
7.根据权利要求6所述的用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，防护垫(41)为硅胶材料制成。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于实验室的调节式圆底烧瓶控水装置，包括：支撑架和装配在支撑架上的若干组活动架，支撑架包括第一主杆、第二主杆、以及固定在第一主杆上的第一支撑杆和固定在第二主杆上的第二支撑杆，第一主杆和第二主杆相对设置且第一主杆和第二主杆相对面均设置有滑槽；活动架包括滑杆和若干滑块，滑杆的两端分别装配在滑槽内，滑块的端面上设置有放置槽，放置槽贯穿滑块本体；滑块的侧面设置有安装孔；滑块通过安装孔与滑杆的配合实现与滑杆的滑动连接。本实用新型通过滑块在滑杆上的滑动调整滑块之间的横向距离，通过滑杆在滑槽内的滑动调整滑块之间的纵向距离，可以根据烧瓶体积大小任意调节间隙，简单实用。
【IPC分类】B01L9-00
【公开号】CN204352895
【申请号】CN201420787633
【发明人】田军
【申请人】天长市田氏实验设备有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2014年12月13日