一种有机硅流化床反应器气体分布装置的制造方法
【专利摘要】一种有机硅流化床反应器气体分布装置，包括呈锥形布置的两块气体分布板，在每块气体分布板上分布安装有多根氯甲烷进气管，在每根氯甲烷进气管的上端部均安装有一个风帽，风帽具有一向下延伸的帽檐，由风帽的帽檐与氯甲烷进气管管壁构成一个与氯甲烷进气管相通的过气通道，该过气通道的出气端朝向气体分布板，本实用新型提供一种气流速度均匀、气体不偏流，流化质量高、不易堵塞等优点的有机硅流化床反应器气体分布装置。
【专利说明】
一种有机硅流化床反应器气体分布装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及化工有机硅生产技术领域，具体地说是一种有机硅流化床反应器气体分布装置。
【背景技术】
[0002]有机硅材料具有优异的耐高、低温性，生物相容性等特点，可以广泛应用于工业、农业、军工等领域，在工业界享有“工业味精”的美誉。流化床反应器是有机硅生产的核心设备之一，气态氯甲烷由流化床下封头进入，经气体分布装置后进入流化床反应器内部，使硅粉及催化剂等固体颗粒物处于流化状态，在300°C左右温度条件下与之反应生成气态有机硅单体，因此，气体分布装置将直接影响流化床流化效果，进而影响反应速率和收率。
[0003]目前，当前国内外运行的万吨级有机硅流化床气体分布装置概括起来共分两类:一类是风帽侧孔的平板分布装置；一类是风帽侧孔的锥形分布装置。中国专利CN201969549U介绍了一种用于有机硅单体合成的流化床反应器的气体分布装置，该装置采用数层多孔平板分布板叠加设置，各板之间设置不锈钢石墨垫片，气孔错层设置。该装置有效降低了分布板上孔径完全堵塞的可能性，加工简单、维修方便，但由于各层分布板局部阻力不一，叠加后阻力增加，气体发生偏流的可能性更大，此外，流化床停车检修时，必须拆床清理该分布装置；中国专利CN 201140063Y介绍了一种有机硅单体流化床反应器的双锥导流式进气分布装置，该分布装置内锥体筛板上开有均匀的筛孔，锥体筛板外侧再套一个外锥板，上设导流孔，保证内锥板侧面压力均一。该分布器气体分布均匀，流化质量好，但扩大生产后，由于进气口少，双锥体内部可能存在气体压力不均一，影响流化质量，停车检修时，也必须拆床清理该装置。
【发明内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题是提供一种气流速度均匀、气体不偏流，流化质量高、不易堵塞等优点的有机硅流化床反应器气体分布装置。
[0005]为了解决上述问题，本实用新型的技术方案为:一种有机硅流化床反应器气体分布装置，包括呈锥形布置的两块气体分布板，在每块气体分布板上分布安装有多根氯甲烷进气管，在每根氯甲烷进气管的上端部均安装有一个风帽，风帽具有一向下延伸的帽檐，由风帽的帽檐与氯甲烷进气管管壁构成一个与氯甲烷进气管相通的过气通道，该过气通道的出气端朝向气体分布板。
[0006]进一步的，氯甲烷进气管远离风帽的一端穿过气体分布板、延伸至气体分布板的一侧，在氯甲烷进气管延伸出气体分布板的一侧的端部上固接有一个形状为喇叭形的进气
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[0007]本实用新型的的有益效果为:采用锥形布置的两块气体分布板比使用平面气体分布板增大了过气面积，提高了过气效率和流化质量;气体通过氯甲烷进气管从过气通道中喷出，过气通道喷出的气体会吹向气体分布板，气体再受到气体分布板的挡隔分化后进入到流化床罐体内，进而使得气体能够更加均匀的进而流化床罐体内；风帽可以遮挡流化床罐体内的粉末进入到氯甲烷进气管内，避免了生产过程中因堵塞而造成流化床偏流等现象，延长了生产周期，停车也可以不拆床清理，为多次连续开车提供了可能性。
[0008]另一方面，喇叭形的进气口可以使气体更加容易集中进入到氯甲烷进气管内，提高进气效率;风帽的顶面为球面，减少气体在风帽直角处的扰流，是的气体能够更加顺畅的排出。
【附图说明】
[0009]下面结合附图对本实用新型做进一步的说明:
[0010]图1为本实用新型的结构示意图，
[0011 ]图2为本实用新型改进的结构的示意图，
[0012]图3为本实用新型在使用时的结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]如图1到3所示:一种有机硅流化床反应器气体分布装置，包括呈锥形布置的两块气体分布板1，在每块气体分布板I上分布安装有多根氯甲烷进气管2，在每根氯甲烷进气管2的上端部均安装有一个风帽3，风帽3具有一向下延伸的帽檐32，风帽3通过支撑杆4固定连接在氯甲烷进气管2的一端，由风帽3的帽檐与氯甲烷进气管2管壁构成一个与氯甲烷进气管2相通的过气通道31，该过气通道31的出气端朝向气体分布板I。
[0014]本实用新型还可以做如下改进:
[0015]进一步的，氯甲烷进气管2远离风帽3的一端穿过气体分布板1、延伸至气体分布板I的一侧，在氯甲烷进气管2延伸出气体分布板I的一侧的端部上固接有一个形状为喇叭形的进气口 21。
[0016]进一步的，风帽3的顶面为球面。
[0017]在实际生产时，过气通道31的宽度可以为2?15mm，高度200mm以上，两块气体分布板I之间的夹角可以在90到160度之间，风帽3的直径可以为25到40毫米，高250到300毫米，
壁厚5到8毫米。
[0018]具体使用时，硅粉从硅粉输送管7进入到流化床罐体5内，氯甲烷气体由氯甲烷进料管6进入到流化床罐体下封头的空腔51中，通过过气通道31进入到流化床罐体5内，使进床硅粉流态化。
[0019]采用锥形布置的两块气体分布板I比使用平面气体分布板I增大了过气面积，提高了过气效率和流化质量;气体通过氯甲烷进气管2从过气通道31中喷出，过气通道31喷出的气体会吹向气体分布板I，气体再受到气体分布板I的挡隔分化后进入到流化床罐体5内，进而使得气体能够更加均匀的进而流化床罐体5中；风帽3可以遮挡流化床罐体5内的粉末进入到氯甲烷进气管2内，避免了生产过程中因堵塞而造成流化床偏流等现象，延长了生产周期，停车也可以不拆床清理，为多次连续开车提供了可能性。
[0020]另一方面，喇叭形的进气口21可以使气体更加容易集中进入到氯甲烷进气管2内，提高进气效率;风帽3的顶面为球面，减少气体在风帽直角处的扰流，是的气体能够更加顺畅的排出。
【主权项】
1.一种有机硅流化床反应器气体分布装置，其特征在于:包括呈锥形布置的两块气体分布板(I)，在每块气体分布板(I)上分布安装有多根氯甲烧进气管(2 )，在每根氯甲烧进气管(2)的上端部均安装有一个风帽(3)，风帽(3)具有一向下延伸的帽檐(32)，由风帽(3)的帽檐(32)与氯甲烷进气管(2)管壁构成一个与氯甲烷进气管(2)相通的过气通道(31)，该过气通道(31)的出气端朝向气体分布板(I)。2.根据权利要求1所述的一种有机硅流化床反应器气体分布装置，其特征在于:氯甲烷进气管(2)远离风帽(3)的一端穿过气体分布板(1)、延伸至气体分布板(I)的一侧，在氯甲烷进气管(2 )延伸出气体分布板(I)的一侧的端部上固接有一个形状为喇叭形的进气口(21)。3.根据权利要求1或2所述的一种有机硅流化床反应器气体分布装置，其特征在于:风帽(3)的顶面为球面。
【文档编号】B01J8/32GK205550237SQ201620189126
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年3月11日
【发明人】阎世城, 李书兵, 颜昌锐, 王文金, 万竺, 庹保华, 李坤
【申请人】湖北兴瑞化工有限公司