专利名称：：改进除污系统操作的方法及设备的制作方法
技术领域：
：本发明一般是涉及电子装置制造系统，特别是一种改进除污系统(abatementsystem)操作的方法及设备。
背景技术：
：电子装置制造工具传统地是利用适以进行工艺(例如化学气相沉积、外延硅生长、蚀刻等)以制造电子装置的反应室或其它适合设备。该些工艺可能会产生具有不希望存在的化学物质的废弃物(工艺的副产物)。传统的电子装置制造系统是利用除污设备来处理上述的废弃物。传统的除污单元及工艺利用多种来源(例如试剂、水、电力等)来处理废弃物。而此种除污单元一般对于其所处理的废弃物仅有些许了解，因此，传统的除污单元仅次最佳化地(sub-optimally)使用该些来源。然而，来源的次最佳化使用对于生产设备造成不预期的花费重担。另外，对于未最佳化地使用来源的除污单元需要较频繁的维护。因此，需要用于除污废弃物的改进方法及设备。
发明内容于本发明的一方面，提供一种设备，其包括(1)接口，是适以分析关于电子装置制造系统的信息，此电子装置制造系统是产生具有不希望存在的物质的废弃物，而该接口并适以提供关于该废弃物的信息；以及(2)除污系统，适以接收关于该废弃物的信息、接收该废弃物，并减弱不希望存在的物质。在本发明的另一方面，提供一种方法，其包括以除污系统接收信息，而此信息是关于具有不希望存在的物质的废弃物。本方法更包括接收该废弃物。本发明的其它特征及方面通过下方详细描述、权利要求及伴随的图式而变得更加明显。图1,绘示一电子装置制造系统的示意图，其包括电子装置制造工具、泵、接口及根据本发明的除污系统。图2,绘示根据本发明的一实施例而调整除污系统的方法流程图。图3，绘示破坏效率以及采用根据本发明的示范性除污处理的等离子除污系统所使用的等离子功率之间的示范性关系。图4，绘示破坏效率以及采用根据本发明的示范性除污处理的等离子除污系统中作为反应物的水的流速两者之间的示范性关系。主要组件符号说明<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>具体实施方式本发明是关于使电子装置制造过程中产生的不希望存在的物质除污最佳化的方法及设备。更特定的说，本发明是关于除污系统的最佳化，使其适于减弱或消除电子装置制造工具的废弃物中的不希望存在的物质。经最佳化的除污系统是可于除污处理中减弱或消除不希望存在的物质。除污处理针对废弃物中不同的不希望存在的物质，而使用不同种类及/或量的来源。通过针对不希望存在的物质使用最佳化的来源的量及/或种类，则此最佳化的除污系统可使得来源的使用最小化。除污来源的最佳化是透过对于待除污的物质的量及/或种类的了解。因此，在本发明的至少一实施例中，待从废弃物中除污的物质的量及/或种类是于除污处理过程中(例如原位及/或实时)判定，及/或基于自参考系统而先获得的信息(将于下述)。举例而言，通过仅使用减弱不希望存在的物质所需的功率量，则相对于传统的所需而可使用较少的功率，藉此，降低了除污系统的操作花费。其它的实例包括延长除污系统的周期性维护之间的时间，以及对于不希望存在的物质具有较高的破坏效率，等等。废弃物中不希望存在的物质的种类及量是根据电子装置制造工具所执行的处理而有所不同。废弃物中不希望存在的物质可被量测及预测，而此信息是提供至一接口或适以分析此信息的适合设备。接口是提供分析结果至除污系统，而除污系统则利用此结果以最佳化地使用除污来源或增进除污来源的使用。除污处理可使用水、RF功率、温度、天然气等来除污废弃物。除污处理的破坏效率是与所使用的来源量有关，而除污处理亦与废弃物的种类及组成有关。在至少一实施例中，提供与废弃物的种类及组成相关信息至除污系统(例如原位及/或实时及/或基于参考系统)，除污系统则利用此信息来修改来源的使用。因此，在不过度使用来源的前提下，可达到所期望的破坏效率。图1绘示具有电子装置制造工具、泵、接口及根据本发明的除污系统的电子装置制造系统。电子装置制造系统100可包括电子装置制造工具102、泵104及除污系统106。电子装置制造工具102包括一处理室108，处理室108是通过真空管路110而耦接至除污系统106。泵104则通过导管112而耦接至除污系统106。处理室108亦通过流体管路116而耦接至化学物质输送单元114。接口118可通过信号线路120而耦接至处理室108、化学物质输送单元114、泵104及除污系统106。除污系统106可包括一反应器122,而反应器122可耦接至电力/燃料源124、反应物源126及冷却源128。电子装置制造工具102是适以使用工艺而制造电子装置。该些工艺是在低于周围压力(例如1大气压；1atm)的压力下于处理室108中进行。举例来说，部分工艺可于约8~700毫托(mTorr)的压力下进行，但亦可采用其它压力值。为了达到此压力，泵104需将废弃物(例如气体、等离子等)自处理室108中移除。废弃物可经由真空管路110运送。待以泵104移除的废弃物的化学前驱物(例如SiH4、NF3、CF4、BCl3等)是可经由多种方法而添加入处理室108中。举例来说，化学前驱物可自化学物质输送单元114经由流体管路116而流至处理室108。另外，化学物质输送单元114是适以通过信号线路120而提供由化学物质输送单元114所提供的化学前驱物的信息(例如压力、化学组成、流速等)。接口118是适以接收来自电子装置制造系统100的信息。举例来说，接口118可接收与处理室108中的工艺相关的信息。而该些信息包括工艺信息(例如工艺步骤时间、压力、流体流速等)，并可以由传感器、控制器或其它适合设备提供。接口118可使用此种信息以判定额外信息，例如废弃物的参数。在一或多个实施例中，接口118可接收来自一或多个数据库的信息，而该些数据库包括与工艺相关的参数的已知行为。如先前并入的美国专利申请第—/——号，数据库是总括来自所建构的参考系统(图中未示)的信息，而此参考系统具有与电子装置制造系统100相同的设计，并精密地量测此参考系统的系统参数随着时间的变化。参考系统所得的参数量测值可用于推导描述一或多个参数随着时间变化的行为的函数(例如最佳适配曲线、常态分布方程式等)，或是作为一或多个其它参数的函数。该些函数可以常数描迷，并组织于一数据库中而可由接口118取得。接口118可使用数据库中的信息以判定所期望及/或最佳的数值，藉以调整电子装置制造系统100的真实参数。接口118可提供与废弃物相关的信息至除污系统106，而该些信息可用于调整除污系统106的参数。废弃物可经由真空管路110而由处理室108运送至除污系统106。泵104可自处理室108移除废弃物，并将废弃物移至除污系统106。除污系统106是适以利用电力/燃料源124、反应物源126及/或冷却源128来减弱废弃物中不希望存在的物质。在一实施例中，除污系统106可以为一等离子除污系统。示范性的等离子除污系统可以为购自力口州圣荷西的MetronTechnologylnc.的Litmas系统，但亦可采用其它除污系统。除污系统可以使用电力/燃料源124所供应的燃料/电力、反应物源126所供应的反应物(例如水、水蒸气、氧气、氬气)，以及冷却源128所供应的冷却水或其它适当流体。除污系统106可形成等离子，其可用于减弱或消除废弃物中的不希望存在的物质，于下将更详细描述。在相同或选择性的实施例中，亦可包括后泵(post-pump)除污系统。举例来说，除污系统106不存在于电子装置制造系统100中，取而代之的，在泵104的下游是包括后泵除污系统。可选择地，除了除污系统106之外，亦使用后泵除污系统。与废弃物相关的信息亦提供至后泵除污系统。图2是绘示根据本发明而调整除污系统的方法流程图。方法200开始于步骤202，接着，在步骤204中，接口或其它适合设备可获取关于参数组的信息。在步骤204中，接口可以自电子装置制造系统、数据库、预测性解决方法(predictivesolution)、参考系统等获取信息。该些信息是关于电子装置制造系统100所产生的废弃物。而该些信息亦可包括电子装置制造系统100可采用的除污系统106的种类。接着，步骤206开始。在步骤206中，接口118及/或除污系统106可分析于步骤204中所获取的信息，以判定至少一所期望的除污参数值。举例来说，接口118可分析信息以根据除污系统106的种类而判定需要经调整的除污系统106参数。举例来说，针对用于减弱气态化学物质(例如全氟化碳PFCs、所选的有机化合物VOCs等)的前泵(pre-pump)等离子除污系统106，则可调整其等离子功率。减弱的气态化学物质的量是与施加至气态化学物质的等离子功率量成比例。举例来说，每分子PFCs需要数十个电子以造成任何实质的解离，用以将PFCs减弱至所期望的层级。通过将等离子功率调整至最佳量，则可将除污处理最佳化。过量(例如高于最佳量)的等离子会对于反应器122的壁面造成不期望的破坏。更特定的说，对于反应器122壁面的破坏是与等离子中每分子的电子量成比例。因此，通过提供适当量的等离子功率，则反应器122可较不常进行替换。在一选择性实施例中，于步骤206中需针对不同类型的除污系统106而做调整。举例来说，可采用后泵等离子、催化性及/或燃烧除污系统106。在后泵等离子除污系统106中，可经最佳化调整的参数包括功率、洗涤气体(purgegas)流速、反应物及冷却剂流速。针对后泵催化性除污系统106，可调整的参数包括洗涤气体流速、反应物及冷却剂流速。针对后泵燃烧催化性除污系统106,可经最佳化调整的参数包括燃料流速、洗涤气体流速、反应物及冷却剂流速。于步骤208中，在分析上述信息之后，除污系统可调整除污参数以符合所期望的除污参数值。举例来说，等离子功率可基于废弃物中PFCs量的升高而升高至所期望量。接着，方法200可于步骤210结束。图3是为显示破坏效率与采用根据本发明的示范性除污处理的等离子除污系统所使用的等离子功率之间的关系的曲线图。关系300是介于破坏效率302与除污处理的等离子功率304之间。待减弱的不希望存在的物质可以为PFCs。所期望的破坏效率306绘示为水平虚线。低PFC流速曲线308、中等PFC流速曲线310及高PFC流速曲线312是可代表针对通过除污系统106的流速的破坏效率302与等离子功率304之间的关系300。低功率线314、中等功率线316及高功率线318是指出施加至PFCs的等离子功率304量。PFCs的破坏效率302是与PFCs的流速相关。举例来说，PFCs流经除污系统106的流速愈高，则在一特定等离子功率304下的PFCs破坏效率302愈低。因此，可调整等离子功率304以达到所期望的破坏效率306。所期望的破坏效率306可介于约85%~100%之间。针对高PFC流速，则可使用高PFC流速曲线312来判定于高PFC流速下达到所期望的破坏效率306所需的等离子功率304量。高功率线318指出达到所期望的破坏效率306所需的等离子功率304量。藉此方式，则可选择适当的等离子功率304层级。在选择性的实施例中，可选择更高或更低的等离子功率304。举例来说，超过三种的等离子功率304层级可供选择。更特定的说，等离子功率304的连续范围是可供选择。可选择地，针对低PFC流速层级，则可于等离子功率304的开启/关闭应用上使用单一功率层级。同样地，可提供超过三种的流速曲线以选择适当的功率层级，藉以达到所期望的破坏效率306。举例来说，等离子功率304与破坏效率302之间的关系是可界定超过PFC流速的连续范围。图4是为显示破坏效率与采用根据本发明的示范性等离子除污处理的等离子除污系统中作为反应物的水的流速两者之间的关系的曲线图。破坏效率302与水流速402之间的关系400是由低PFC流速曲线404及高PFC流速曲线406来说明的。低水流速线408说明低PFC流速曲线404的峰值；高水流速线410说明高PFC流速曲线406的峰值。可通过调整水流速402至适当的峰值水流速而可达到所期望的破坏效率306。虽然图中是绘示两种PFC流速曲线，但本发明也可能仅使用单一曲线。可选择地，本发明也可使用PFC流速的连续范围。本发明可利用此种关系来判定适当的水流速，以最佳化地减弱废弃物中的PFC。可选择地，关系400是可关于除污处理中的化学反应。举例来说，针对四氟化碳(CF4)的除污，根据反应CF4+2H20—C02+4HF而以氧化氢(水)的形式供应氢。可由上方反应得知，一份的CF4需要两份的水，以完成转化。因此，水流速可为CF4流速的两倍。于部分实施例中，可利用为CF4或其它PFC气体流速的高达7倍的水流速。上述的说明仅揭示本发明的示范实施例。对于上述设备及方法所做的落入本发明范围的修改，对于熟悉本发明
技术领域：
的人士是明显的。举例来说，接口是可包括于电子装置制造工具之中，其中除污系统是与电子装置制造工具连通耦合，以获取与废弃物相关的信息。虽然本发明虽以较佳实施例说明如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内所作的更动与润饰，仍应属本发明的技术范畴。权利要求1.一种设备，包括接口，是适以分析关于电子装置制造系统的信息，该电子装置制造系统是产生具有不希望存在的物质的废弃物，而该接口并适以提供关于该废弃物的信息；以及除污系统，是适以接收关于该废弃物的该信息、接收该废弃物，并减弱该不希望存在的物质。2.如权利要求1所述的设备，其中该系统信息包括由该电子装置制造系统所提供的信息。3.如权利要求1所述的设备，其中该系统信息包括预测性解决方法。4.如权利要求1所述的设备，其中该除污系统利用关于该废弃物的该信息以减弱该不希望存在的物质。5.如权利要求1所述的设备，其中该除污系统为等离子除污系统。6.如权利要求1所述的设备，其中该除污系统为催化性除污系统。7.如权利要求1所述的设备，其中该除污系统为燃烧除污系统。8.如权利要求1所述的设备，其中该废弃物是由处理室产生。9.如权利要求8所述的设备，其中该废弃物通过泵而由该处理室中移除。10.—种方法，包括以除污系统接收信息，其中该信息关于具有不希望存在的物质的废弃物；以及接收该废弃物。11.如权利要求10所述的方法，其中关于该不希望存在的物质的该信息是包括预测性解决方法。12.如权利要求10所述的方法，其中该信息是由接口提供。13.如权利要求12所述的方法，其更包括将与电子装置制造系统相关的操作信息提供给该接口。14.如权利要求10所述的方法，其更包括以该除污系统来减弱该不希望存在的物质。15.如权利要求14所述的方法，其中以该除污系统来减弱该不希望存在的物质的步骤包括将该不希望存在的物质与多个反应物进行反应。全文摘要根据本发明的一方面，提供一种设备，其包括(1)接口，适以分析关于电子装置制造系统的信息，此电子装置制造系统产生具有不希望存在的物质的废弃物，而该接口并适以提供关于该废弃物的信息；以及(2)除污系统，适以接收关于该废弃物的信息、接收该废弃物，并减弱不希望存在的物质。本发明亦提供数种其它方面。文档编号F01N3/10GK101400875SQ200780008980公开日2009年4月1日申请日期2007年3月14日优先权日2006年3月16日发明者M·W·柯里,P·波西内夫,S·拉乌申请人:应用材料股份有限公司