用于提供膜处理的系统及成膜控制系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于提供膜处理的系统及成膜控制系统。本文公开了用于利用成膜剂使用入口空气冷却装置处理表面如燃气涡轮表面的系统和方法。成膜控制系统包括构造成容纳成膜剂的储存罐；入口空气冷却装置；以及在第一端上联接于储存罐并且在第二端上联接于入口空气冷却装置的供应导管；其中成膜控制系统构造成将成膜剂从储存罐输送并且通过空气入口冷却装置排出成膜剂，并且成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
【专利说明】
用于提供膜处理的系统及成膜控制系统
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及一种用于提供膜处理的系统及成膜控制系统。
【背景技术】
[0002] 涡轮机如燃气涡轮典型地包括压缩机、燃烧器和涡轮。压缩机增大气体(典型地是 空气）的压力，并且压缩气体通过燃烧器与气体燃料混合，并且焚烧，导致了热气体。加热气 体用于驱动涡轮，该涡轮生成功率。
[0003] 燃气涡轮在具有不同气候的许多环境中操作。不同操作条件包括环境空气温度、 湿度、压力和颗粒物质浓度中的差异。燃气涡轮包括用以降低进入空气的温度的冷却装置。 这些冷却装置使用水来减小入口环境空气的温度，并且因此增大入口空气的密度。增大的 空气密度导致较高的质量流速和压力比，导致涡轮输出和效率的提高。
[0004] 燃气涡轮构件被清洁来保持性能，并且延长构件的总体寿命，例如，通过减少由污 垢引起的燃气涡轮构件的退化。燃气涡轮构件可在燃气涡轮未操作的同时清洁。称为脱机 清洁的该清洁可人工地执行。人工清洁的实例为曲柄清洗。曲柄清洗大体上通过将清洁溶 液引入到涡轮中同时缓慢曲柄作用发生来执行。该曲柄作用在不点燃或引入燃料的情况下 发生。由于燃气涡轮在执行曲柄清洗时并未操作，故燃气涡轮的生产力降低。燃气涡轮构件 在燃气涡轮联机时清洁也可完成。此类方法通常涉及使用附加装备和/或人工清洁。
[0005] 这些清洁方法用于除去累积在燃气涡轮构件上的污垢。然而，在清洁之后，燃气涡 轮构件在保养期间由于污垢的存在和累积而再次易于损坏。
[0006] 因此，存在的需要在于一种用于处理涡轮机表面（如，燃气涡轮的表面）的系统及 方法，其给予免除污垢和与其相关的损坏的保护，在燃气涡轮联机或脱机时人工地或自动 地执行，并且/或者其使用燃气涡轮的现有装备，从而延长修理和/或维护间隔之间的时间 段、延长构件的寿命和/或改进燃气涡轮的生产力。
【发明内容】
[0007] 根据本发明的一个方面，一种方法包括使成膜剂与液体混合来形成成膜溶液，其 中成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷或包括前 述中的至少一个的组合，以及使用入口空气冷却装置将成膜溶液分配到表面上。
[0008] 根据本发明的另一个方面，一种系统包括处理器和通信地联接于处理器的系统存 储器，系统存储器具有储存在其上的可执行指令，其在由处理器执行时，引起处理器执行操 作，该操作包括从传感器接收数据和提供指令来基于从传感器接收的数据使用入口空气冷 却装置将成膜剂分配到表面上。其中成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原 硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
[0009] 根据本发明的另一个方面，一种成膜控制系统包括构造成容纳成膜剂的储存罐、 入口空气冷却装置，以及在第一端上联接于储存罐并且在第二端上联接于入口空气冷却装 置的供应导管，其中成膜控制系统构造成将成膜剂从储存罐输送并且通过入口空气冷却装 置排出成膜剂，并且成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥 珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
[0010]技术方案1. 一种方法，包括：
[0011]使成膜剂与液体混合来形成成膜溶液，其中所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫 基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷，或包括前述中的至少一个的组合；以及
[0012] 使用入口空气冷却装置将所述成膜溶液分配到表面上。
[0013] 技术方案2.根据技术方案1所述的方法，其特征在于，所述表面为涡轮机表面或 燃气涡轮表面。
[0014] 技术方案3.根据技术方案1所述的方法，其特征在于，所述液体为去离子水。
[0015] 技术方案4.根据技术方案1所述的方法，其特征在于，所述成膜溶液的pH为从大 约5到大约9。
[0016] 技术方案5.根据技术方案1所述的方法，其特征在于，所述成膜剂包括硅氧烷、氟 硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯或琥珀酐硅烷中的至少两个的组合。
[0017] 技术方案6.根据技术方案1所述的方法，其特征在于，所述成膜剂将一个或更多 个性质给予所述表面，所述一个或更多个性质包括被动性、疏水性、疏油性、抗粘性质，或包 括前述中的至少一个的组合。
[0018]技术方案7. -种系统，包括：
[0019] 处理器；以及
[0020] 通信性地联接于所述处理器的系统存储器，所述系统存储器具有储存在其上的可 执行指令，其在由所述处理器执行时，引起所述处理器执行操作，所述操作包括：
[0021 ]从传感器接收数据；以及
[0022]基于从所述传感器接收的数据提供指令来使用入口空气冷却装置将成膜剂分配 到表面上，其中所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥 珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
[0023]技术方案8. -种成膜控制系统，包括：
[0024]构造成容纳成膜剂的储存罐；
[0025] 入口空气冷却装置；以及
[0026] 在第一端上联接于所述储存罐并且在第二端上联接于所述入口空气冷却装置的 供应导管;其中所述成膜控制系统构造成将所述成膜剂从所述储存罐输送并且通过所述入 口空气冷却装置排出所述成膜剂，并且所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基 硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
[0027] 技术方案9.根据技术方案8所述的成膜控制系统，其特征在于，所述成膜控制系 统还包括与所述供应导管流体连通的第二储存罐，其中所述第二储存罐包含去离子水，并 且其中所述去离子水在通过所述入口空气冷却装置排出所述去离子水和所述成膜剂之前 添加至所述成膜剂。
[0028] 技术方案10.根据技术方案9所述的成膜控制系统，其特征在于，所述成膜控制系 统还包括：
[0029]与待处理的表面连通的传感器；
[0030]设置在所述供应导管内的阀和具有处理器和操作性地联接于所述处理器的存储 器的控制器，所述存储器具有可执行指令，其在由所述处理器执行时引起所述处理器执行 操作，所述操作包括：
[0031 ]从所述传感器接收信号并且响应于所述接收将指令提供至所述阀以开启，以容许 将所述去离子水和所述成膜剂通过所述入口空气冷却装置排出到所述表面上。
[0032] 这些及其它优点和特征将从连同附图进行的以下描述变得更加显而易见。
【附图说明】
[0033] 认作是本发明的主题在说明书结束部分的权利要求中具体指出并且明确地要求 权利。本发明的前述及其它特征和优点从连同附图进行的以下详细描述中显而易见，在该 附图中：
[0034]图1为燃气涡轮的示例性示图；
[0035]图2为燃气涡轮压缩机的局部截面的示例性示图；
[0036]图3为燃气涡轮膜处理系统的示意性示图；
[0037]图4示出了使用燃气涡轮的入口空气冷却装置来分配膜处理的非限制性示例性方 法；
[0038]图5示出了使用燃气涡轮的入口空气冷却装置来分配膜处理的非限制性示例性方 法；以及
[0039] 图6为代表计算机系统的示例性框图，其中并入了本文公开的方法和系统或其部 分的方面。
[0040] 详细描述参照附图经由实例阐释了本发明的实施例连同优点和特征。
[0041] 部件列表
[0042] 10燃气涡轮
[0043] 12燃烧区段
[0044] 14压缩机
[0045] 16 涡轮
[0046] 20燃烧室
[0047] 22排气导管
[0048] 24燃气涡轮压缩机的局部截面
[0049] 1〇〇 A级
[0050] 102 B级
[0051] 104 C级
[0052] 106,108,110 叶片
[0053] 112转子轮
[0054] 114 导叶
[0055] 116 外壳
[0056] 118 钟形口
[0057] 120空气流
[0058] 122抽气系统
[0059] 124抽气管
[0060] 126 抽取端口
[0061 ] 128 X级抽取管
[0062] 130 Y级抽取管
[0063] 200燃气涡轮清洗控制系统
[0064] 201燃气涡轮
[0065] 202压缩机
[0066] 203 入口导叶
[0067] 204 涡轮
[0068] 205结垢传感器
[0069] 206燃烧器
[0070] 208空气入口系统
[0071] 209冷却装置
[0072] 213发电机
[0073] 214储存罐
[0074] 215 导管
[0075] 216水平传感器
[0076] 218供应栗
[0077] 220清洁剂导管
[0078] 222调节阀
[0079] 223压力传感器
[0080] 224流量传感器 [0081 ] 232控制器
[0082] 234 输入
[0083] 236 输出
[0084] 400 方法
[0085] 402选择成膜剂
[0086] 404成膜剂分配到燃气涡轮上
[0087] 500 方法
[0088] 502压缩机结垢阈值
[0089] 504感测压缩机中的结垢水平
[0090] 506结垢水平传送至控制器
[0091] 508满足结垢阈值
[0092] 510将成膜剂引入到入口空气冷却装置中
[0093] 512将成膜溶液从入口空气冷却装置分配
[0094] 720计算机
[0095] 721处理单元
[0096] 722系统存储器
[0097] 723系统总线
[0098] 724 ROM
[0099] 725 RAM
[0100] 726 BIOS
[0101] 727硬盘驱动器
[0102] 728磁盘驱动器
[0103] 729可除去的磁盘
[0104] 730光盘驱动器
[0105] 731可除去的光盘
[0106] 732硬盘驱动器接口
[0107] 733磁盘驱动器接口
[0108] 734光盘驱动器接口
[0109] 735操作系统
[0110] 736应用程序
[0111] 737程序模块
[0112] 738程序数据
[0113] 740 键盘
[0114] 742定点装置
[0115] 746串行端口接口
[0116] 747监视器
[0117] 748视频适配器
[0118] 749远程计算机
[0119] 750存储器储存装置
[0120] 751 LAN
[0121] 752 WAN
[0122] 753网络接口或适配器
[0123] 754调制解调器
[0124] 755主机适配器
[0125] 756 SCSI总线
[0126] 762储存装置。
【具体实施方式】
[0127] 本文公开了用于使用入口空气冷却装置来施加膜处理的方法及系统。在保养中操 作期间暴露于污垢("预先结垢")之前，所得的膜处理给予防结垢性质来保护表面，如，涡轮 机、压缩机或燃气涡轮构件的表面。在实施例中，在保养中操作（〃结垢后〃)期间，膜处理也 给予防污垢来保护表面，如，燃气涡轮构件的表面。如下文更详细描述的，膜处理包括一种 或更多种成膜剂。成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀 酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。
[0128] 图1为燃气涡轮10的示例性示图。尽管本文所述的实施例将燃气涡轮称为示例性 表面，但本文所述的系统和方法可用于将膜处理提供(或施加）到任何期望表面，包括但不 限于涡轮机如燃气涡轮。如图1中所示，燃气涡轮10具有压缩机14与涡轮16之间的气体流动 路径中的燃烧区段12。燃烧区段12包括围绕环带的燃烧构件的环形阵列。燃烧构件包括还 称为燃烧器的燃烧室20,以及附接的燃料喷嘴。涡轮联接成旋转地驱动压缩机14和功率输 出驱动轴(未示出）。空气进入燃气涡轮10,并且穿过压缩机14。来自压缩机14的高压空气进 入燃烧区段12,其中，其与燃料混合并且焚烧。高能燃烧气体离开燃烧区段12以对涡轮16供 能，涡轮16继而驱动压缩机14和输出功率轴。燃烧气体通过排出导管22离开涡轮16。
[0129]图2为与燃气涡轮10等一起使用的燃气涡轮压缩机24的局部截面的示例性示图。 压缩机24包括一级或更多级。如图2中所示，可存在A级100、B级102或C级104。用语"A级〃、"X 级"等在本文中与"第一级"、"第二级"等相反使用，以便防止本文所述的系统和方法以任何 方式限于与压缩机或涡轮的实际的第一级或第二级一起使用的推论。可使用任何数量的 级。各个级包括一定数量的沿周向布置的旋转叶片，如，叶片106、叶片108和叶片110。可使 用任何数量的叶片。叶片安装到转子轮112上。转子轮112附接于功率输出传动轴用于与其 一起旋转。各级可选还包括一定数量的沿周向布置的静止导叶114。可使用任何数量的导叶 114。导叶114可安装在外壳116内。外壳116从钟形口 118朝涡轮16延伸。因此，空气流120围 绕钟形口 118进入压缩机24,并且在流至燃烧器12之前，通过叶片，如，除了别的以外的叶片 106,108和110,以及级的导叶114压缩。抽气系统122可具有快速断开设备。快速断开设备可 位于抽气管124上，并且可为独立抽取管(如，例如，Y级抽气管130)中的任一个或所有的一 部分。快速断开设备可直接地连接于抽取端口 126。
[0130]燃气涡轮10还包括抽气系统122。抽气系统122抽取压缩机124中的空气流120的一 部分，用于冷却涡轮和用于其它目的。抽气系统122包括一个或更多个抽气管124。抽气管 124从围绕压缩机级中的一个的抽取端口 126朝涡轮的级中的一个延伸。在该实例中，示出 了 X级抽取管128和Y级抽取管13(ΚΧ级抽取管128围绕η级定位，并且Y级抽取管130围绕m级 定位。还可使用从压缩机24的其它级的抽取。X级抽取管128与涡轮的X级管132连通，而Y级 抽取管130与涡轮的Y级管134连通。例如，X级管128对应于涡轮的特定级，并且Y级管130对 应于涡轮的不同级。在另一个实施例中，抽气系统122具有快速断开设备。快速断开设备位 于抽气管124上，并且可为独立抽取管(如，例如，Y级抽取管130)中的任一个或所有的部分。 在实施例的方面中，快速断开设备直接地连接于抽取端口 126。
[0131]图3为用于与燃气涡轮201-起使用的燃气涡轮膜处理系统200的实施例的示例性 示意图。燃气涡轮201包括压缩机202、燃烧器206、涡轮204和空气入口系统208。燃气涡轮 201用于驱动电气负载或机械负载，如，发电机213。入口导叶203调制进入燃气涡轮201的空 气流120。压缩机包括结垢传感器205。结垢传感器205用于确定燃气涡轮201内的污垢的浓 度。结垢传感器205确定燃气涡轮201的特定表面上的污垢的浓度。结垢传感器205将该浓度 传送至控制器232。传送的浓度可与可预先选择的阈值相比较。如果由结垢传感器205检测 到的污垢的浓度超过阈值，则清洗和膜处理和/或膜处理例如自动地开始。
[0132]燃气涡轮膜处理系统200包括储存罐214,其容纳成膜剂。可使用用于不同类型或 一种类型的成膜剂的多个储存罐214。在一个实施例中，成膜剂包括硅烷。在另一个实施例 中，成膜剂为第一硅烷和第二硅烷(例如，氟硅烷和氢硫基硅烷)的混合物。第一硅烷和第二 硅烷以预定比率混合。在实施例的一个方面，成膜剂为氟硅烷和氨基硅烷的1:1的混合物。 混合可预先或按需要完成。在另一个实施例中，成膜剂与水成液如去离子水组合。"去离子 水〃能够与〃软化水〃互换。成膜剂以预定比率与去离子水混合。在实施例中，成膜剂、去离子 水或两者的混合物的pH可调整。例如，该pH调整可使用乙酸执行。在另一实施例中，非离子 表面活性剂添加至成膜剂以便改进水溶性。在又一个实施例中，成膜剂、去离子水或包括两 者的混合物的pH调整至从大约5到大约9的pH，具体是从大约5.5到大约8.5,更具体从大约 6.5到大约7.5。
[0133] 储存罐214可选设有水平传感器216,并且通过导管215联接于供应栗218。供应栗 218可通过设置在成膜剂导管220中的成膜剂流动调节阀222连接于入口空气冷却装置209。 入口空气冷却装置209为蒸发冷却器、喷雾器、深冷器等。相同类型或不同类型的多个入口 空气冷却装置209可在单个燃气涡轮201中使用。在一个实施例中，入口空气冷却装置209为 输送成膜剂的低压喷雾器。在另一个实施例中，入口空气冷却装置209具有水供应源，其可 集成在燃气涡轮201内或与其分开。成膜剂可选与来自水供应源的水混合。混合以成膜剂与 水的预定比率进行。由入口空气冷却装置209使用的水可选处理成除去污染物。该处理包括 诸如反渗透、高级氧化、紫外线曝光、脉动功率，以及其它水处理过程。
[0134] 入口空气冷却装置209设置在入口空气系统208内或外，并且按照空气流在入口空 气系统208的任何空气过滤器和入口导叶203之前或之后。压力传感器223和流量传感器224 设置在成膜剂导管220中，以提供数据来控制成膜剂流至冷却装置209。在实施例中，燃气涡 轮膜处理系统200包括替代储存罐214或除储存罐214之外的快速断开设备。快速断开设备 并入到成膜剂流动调节阀222、成膜剂导管220和/或联机清洗系统210中。快速断开设备用 于外部供应源(如来自例如，供应卡车）。
[0135] 燃气涡轮膜处理系统200还可包括控制器232。控制器232接收输入234,如，压缩机 202的结垢的水平、储存罐214的水平、供应栗218的流速、供应栗218的状态、成膜剂至压缩 机202的流速、压缩机202的温度、成膜剂流动调节阀222的状态、燃气涡轮201的状态、入口 空气冷却装置209的状态，和/或关于燃气涡轮成膜处理系统200的状态或操作的任何其它 输入。在实施例的一个方面中，控制器232确定成膜剂与由其产生的成膜溶液中的去离子水 的比率。例如，控制器232确定成膜剂包括或不包括在成膜溶液中的量。在实施例的另一个 方面中，控制器232确定物质的混合比率以制备成膜剂。成膜溶液以预定比率自动地混合， 能够基于成膜剂的类型调整，并且喷射到钟形口 118中。入口和排泄阀可以可选在将成膜剂 或成膜溶液引入至入口空气冷却装置209之前定位和对准。混合可预先完成或在需要时进 行。基于在那时入口空气冷却装置209的水供应源中有多少水可用或将使用多少水，控制器 232计量供应至入口空气冷却装置209的成膜剂的量。在一个实施例中，控制器232以相等部 分混合氟硅烷和氢硫基硅烷来产生成膜剂。在本发明的方面中，控制器232接着在将所得的 成膜溶液引入至入口空气冷却装置209之前将计量量的成膜剂与计量量的水混合。在另一 个实施例中，氟硅烷和氢硫基硅烷可已经混合来产生成膜剂并且储存在储存罐214中。在另 一个实施例中，供应卡车可使用快速断开设备连接，以提供氟硅烷和氨基硅烷的混合物来 用作成膜剂。水和成膜剂接着可以以预定比率混合来产生成膜溶液。比率可基于使用的特 定成膜剂的类型来调整。
[0136] 本公开构想出了一定数量的变型，所有都在本公开的范围内。在一个实施例中，现 有的蒸发冷却器系统用于将成膜剂或成膜溶液输送至燃气涡轮，其中成膜剂在其中混合到 冷却水中，以产生成膜溶液。在另一个实施例中，现有的喷雾器系统用于将成膜剂或成膜溶 液输送至燃气涡轮，其中表面成膜剂在其中混合到喷雾器水中来产生成膜溶液。在又一个 实施例中，专用的低压喷雾器系统用于将成膜剂或成膜溶液输送至燃气涡轮，其中成膜剂 或成膜溶液直接地雾化。共同地，蒸发冷却器系统、现有的喷雾器系统和专用的低压喷雾器 系统大体上在本文中称为入口空气冷却装置。
[0137] 在一个实施例中，成膜剂或成膜溶液的喷射涉及在将成膜剂或成膜溶液引入到燃 气涡轮中之前使入口阀对准、定位和排序。在备选方案中，表面成膜配方可从独立源和外源 (例如，罐车)供应，并且可经由连接于喷雾器入口管路的供应管路上的快速断开设备人工 地连接。
[0138] 在另一个实施例中，控制器232提供输出236如指令或控制信号至成膜剂流动调节 阀222、供应栗218、燃气涡轮201、入口空气冷却装置209和/或至任何其它构件或系统。控制 器232为整装的，或作为备选，集成到较大的控制系统中。控制器232监测与涡轮系统如燃气 涡轮201相关联的各种传感器和其它器具。除控制某些涡轮功能如燃料流速之外，控制器 232可选生成来自其涡轮传感器的数据，并且呈现该数据用于显示给涡轮操作者。数据可使 用软件显示，该软件生成数据表和其它数据呈现。
[0139] 控制器232的实例为计算机系统，其包括微处理器，该微处理器使用传感器输入和 来自操作人员的指令来执行程序以控制涡轮系统的操作。计算机系统包括逻辑单元如采样 和保持、求和和差分单元，其可以以软件实施，或由硬接线逻辑电路实施。由计算机系统处 理器生成的命令引起涡轮系统上的促动器例如调整燃料计算机系统(其将燃料供应至燃烧 室），设定压缩机的入口导叶，并且调整涡轮系统上的其它控制设定。计算机系统特征和功 能性的描述仅为示例性的，并且关于本公开是非限制性的。
[0140] 成膜剂包括硅烷，如，硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、原硅酸四乙酯、氨基硅烷或包 括前述中的至少一个的组合。硅烷(如，例如氟硅烷和硅氧烷)为单体硅化学制品。硅烷给予 如除了别的以外的疏水性、抗磨性、耐热性、疏油性和被动性的性质。应当理解的是，用语" 硅烷〃用于包含化学制品的组合，并且不仅为特定硅烷。
[0141]在示例性实施例中，系统200可构造用于在燃气涡轮脱机或联机时膜处理燃气涡 轮。燃气涡轮在机器如压缩机或涡轮区段以显著低于正常的操作温度操作时认作是脱机 的。例如，对于脱机膜处理，燃气涡轮可冷却，直到内部容积和表面充分地冷却，例如，至大 约145°F，以使引入燃气涡轮中的水或成膜或清洁溶液将不热冲击内部金属和引起蠕变，或 引起材料的任何机械或结构变形。
[0142] 图4中示出了方法400。
[0143]在402处，选择成膜剂。成膜剂可由控制器232、操作者或自动地选择。
[0144]在404处，成膜剂使用入口空气冷却装置209分配到燃气涡轮201表面上。
[0145]图5中不出了方法500。关于方法500描述的（多个)序列的各个部分标为表不方法 的特定部分;然而，方法的部分的特定顺序不限于此。在实施例中，执行该方法的顺序针对 期望应用选择。
[0146] 在502处，建立了压缩机202结垢阈值。阈值水平为一种或更多种污垢的总体结垢 水平或特定水平。结垢水平在燃气涡轮201中的一个或更多个位置处测得，并且一个或更多 个位置用于建立阈值水平。
[0147] 在504处，感测压缩机202中的结垢水平。
[0148] 在506处，结垢水平传送至控制器232。控制器232可在显示器上示出该信息，或将 其发送至操作者。
[0149] 在508处，控制器232确定是否满足结垢阈值。
[0150] 在510处，成膜剂引入到入口空气冷却装置209水供应源中。
[0151] 在512处，成膜溶液从入口空气冷却装置209分配到压缩机202中。
[0152] 图6为代表计算机系统的框图，其中可并入本文公开的方法和系统和/或其部分的 方面。如所示，示例性通用计算系统包括计算机720等，其包括处理单元721、系统存储器722 和系统总线723,其将包括系统存储器722的各种系统构件联接于处理单元721。系统总线 723可为若干类型的总线结构中的任一个，包括使用多种总线构架中的任一种的存储器总 线或存储器控制器、外围总线和本地总线。系统存储器722包括只读存储器(R0M)724和随机 存取存储器(RAM)725。基本输入/输出系统726(BI0S)储存在R0M724中，基本输入/输出系统 726(BI0S)包含基本例行程序，其有助于在计算机720内的元件之间传递信息（如，在启动期 间）。
[0153] 计算机720还可包括用于读取和写入硬盘(未示出）的硬盘驱动器727、用于读取或 写入可除去磁盘729的磁盘驱动器728,以及用于读取和写入可除去的光盘731如⑶-ROM或 其它光学介质的光盘驱动器730。硬盘驱动器727、磁盘驱动器728和光盘驱动器730分别由 硬盘驱动器接口 732、磁盘驱动器接口 733和光盘驱动器接口 734连接于系统总线723。驱动 器和它们相关联的计算机可读介质提供计算机可读指令、数据结构、程序模块和用于计算 机720的其它数据的非易失性储存。如本文所述，计算机可读介质为制造的有形的、物理的 和具体制品，并且因此不是信号本身。
[0154] 尽管本文所述的示例性环境使用硬盘、可除去磁盘729和可除去的光盘731，但将 认识到的是，可储存可由计算机存取的数据的其它类型的计算机可读介质也可用于示例性 操作环境中。此类其它类型的介质包括但不限于磁带盒、闪速存储卡、数据视频或多功能 盘、伯努利筒、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)等。
[0155] 一定数量的程序模块可储存在硬盘、磁盘729、光盘731、R0M724或RAM725上，包括 操作系统735、一个或更多个应用程序736、其它程序模块737和程序数据738。使用者可通过 输入装置如键盘740和定点装置742输入命令和信息到计算机720中。其它输入装置(未示 出）可包括麦克风、操纵杆、游戏板、卫星盘、扫描仪等。这些及其它输入装置通常通过串行 端口接口 746连接于处理单元721 (串行端口接口 746联接于系统总线723 )，但可由其它接口 连接，如，并行端口、游戏端口或通用串行总线(USB)。监视器747或其它类型的显示装置还 经由接口如视频适配器748连接于系统总线723。除监视器747之外，计算机可包括其它外围 输出装置(未示出），如扬声器和打印机。图6的示例性系统还包括主机适配器755、小型计算 机系统接口（SCSI)总线756,以及连接于SCSI总线756的外部储存装置762。
[0156] 计算机720可在网络环境中使用与一个或更多个远程计算机如远程计算机749的 逻辑连接来操作。远程计算机749可为个人计算机、服务器、路由器、网络PC、等同装置或其 它公用网络节点，并且可包括上文关于计算机720所述的元件中的许多个或所有，但图6中 仅示出了存储器储存装置750。图6中所绘的逻辑连接包括局域网（LAN)751和宽域网(WAN) 752。此类网络环境在办公室、企业内计算机网络、内部网和因特网中为常见的。
[0157] 当用于LAN网络环境中时，计算机720通过网络接口或适配器753连接于LAN751。当 用于WAN网络环境中时，计算机720可包括调制解调器754或用于在宽域网752如因特网上建 立通信的其它器件。可在内部或外部的调制解调器754经由串行端口接口 746连接于系统总 线723。在网络环境中，关于计算机720或其部分绘出的程序模块可储存在远程存储器储存 装置中。将认识到的是，所示网络连接为示例性的，并且可使用建立计算机之间的通信链路 的其它器件。
[0158] 计算机720可包括多种计算机可读储存介质。计算机可读储存介质可为任何可用 介质，其可由计算机720存取，并且包括易失性和非易失性介质，可除去和非可除去的介质。 经由实例，并且不限制，计算机可读介质可包括计算机储存介质和通信介质。计算机储存介 质包括以用于储存信息的任何方法或技术实施的易失性和非易失性介质、可除去和非可除 去的介质，如，计算机可读指令、数据结构、程序模块或其它数据。计算机储存介质包括但不 限于RAM、ROM、EEPROM、闪速存储器或其它存储器技术、CD-ROM、数字多功能盘(DVD)或其它 光盘储存器、磁带盒、磁带、磁盘储存器或其它磁储存装置，或可用于储存期望的信息并且 可由计算机720存取的任何其它介质。以上中的任一个的组合也应当包括在可用于储存用 于实施本文所述的方法和系统的源代码的计算机可读介质的范围内。本文公开的特征或元 件的任何组合可用于一个或更多个实施例中。
[0159] 本文中所述的实施例的技术效果在于提供用于使用冷却装置将膜处理提供至表 面(如，涡轮机或更具体的是燃气涡轮的表面)的系统及方法，其给予免除污垢和与其相关 的损坏的保护，在燃气涡轮联机或脱机时人工地或自动地执行，并且/或者其使用燃气涡轮 的现有装备，从而延长修理和/或维护间隔之间的时间段、延长构件的寿命和/或改进燃气 涡轮的生产力。
[0160] 本文所述的术语用于仅描述特定实施例的目的，并且不旨在限制本发明。在用语 定义脱离用语的常用意义的情况下，
【申请人】旨在使用本文提供的定义，除非明确指出。单数 形式〃一〃、〃一个〃和〃该〃旨在也包括复数形式，除非上下文清楚地另外指出。将理解的是， 尽管用语第一、第二等可用于描述各种元件，但这些元件不应当由这些用语限制。这些用语 仅用于将一个元件与另一个区分开。用语"和/或"包括相关联的所列物品中的一个或更多 个的组合中的任一个和所有。短语〃联接于〃和〃与…联接〃构想为直接或间接联接。
[0161] 实例
[0162] 实例 1
[0163] 样本1-4中的各个根据表1中提出的比率准备来产生成膜剂。样本1-4的成膜剂中 的各个通过以1:1的比率混合识别的第一硅烷和第二硅烷来制备。此外，样本1-4中的各个 根据含水配方或有机溶剂配方来制备。对于含水配方，蒸馏水的pH使用乙酸调整至4.5到 5.5，并且接着硅烷混合物以连续搅拌加入。适合量的非离子表面活性剂按需要添加在一些 样本中，以提高硅烷混合物在蒸馏水中的可溶性。对于有机溶剂配方，95%的乙醇和5%的蒸 馏水的混合物的pH使用乙酸调整至4.5到5.5,并且接着硅烷混合物以连续搅拌加入。
[0164] 表1
[0165] 实例2
[0166] 膜处理分别使用样本1-4的成膜剂来施加于燃气涡轮构件。膜处理燃气涡轮构件 预热至200°C，并且浸泡在污垢掺合物中30分钟。在以150°C整夜干燥之后，较少或没有污垢 存在于燃气涡轮构件上。
[0167] 实例3
[0168] 样本5为通过利用连续搅拌以0.5到2.0%的浓度使硅烷与去离子水混合来制备的 含水成膜溶液。pH使用乙酸调整至4.5到5.5。在样本6中，0.1%的非离子表面活性剂添加来 改进去离子水中的硅烷的可溶性。
[0169] 实例4
[0170]膜处理分别使用样本5-6的成膜溶液施加至燃气涡轮构件。膜处理燃气涡轮构件 预热至200°C，并且浸泡在污垢混合物中30分钟。在以150°C整夜干燥之后，较少或没有污垢 存在于燃气涡轮构件上。
[0171]实例1-4的结果因此展示了本文所述的燃气涡轮膜处理方法和系统导致燃气涡轮 构件的显著减少的结垢。
[0172]虽然已经结合仅有限数量的实施例来详细描述本发明，但应当容易理解，本发明 不限于此类公开的实施例。相反，可修改本发明，以并入迄今未描述但与本发明的精神和范 围相称的任何数量的变型、更改、替换或等同布置。另外，虽然已经描述了本发明的多种实 施例，但将理解，本发明的方面可包括所描述的实施例中的仅一些。因此，本发明不视为由 前述描述限制，而是仅由所附权利要求的范围限制。
【主权项】
1. 一种用于提供膜处理的系统，包括： 处理器；以及 通信性地联接于所述处理器的系统存储器，所述系统存储器具有储存在其上的可执行 指令，其在由所述处理器执行时，引起所述处理器执行操作，所述操作包括： 从传感器接收数据；以及 基于从所述传感器接收的数据提供指令来使用入口空气冷却装置将成膜剂分配到表 面上，其中所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯、琥珀酐 硅烷或包括前述中的至少一个的组合。2. 根据权利要求1所述的用于提供膜处理的系统，其特征在于，所述成膜剂包括硅氧 烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、原硅酸四乙酯或琥珀酐硅烷中的至少两个的混合物。3. -种成膜控制系统，包括： 构造成容纳成膜剂的储存罐； 入口空气冷却装置；以及 在第一端上联接于所述储存罐并且在第二端上联接于所述入口空气冷却装置的供应 导管;其中所述成膜控制系统构造成将所述成膜剂从所述储存罐输送并且通过所述入口空 气冷却装置排出所述成膜剂，并且所述成膜剂包括硅氧烷、氟硅烷、氢硫基硅烷、氨基硅烷、 原硅酸四乙酯、琥珀酐硅烷或包括前述中的至少一个的组合。4. 根据权利要求3所述的成膜控制系统，其特征在于，所述成膜控制系统还包括与所述 供应导管流体连通的第二储存罐，其中所述第二储存罐包含去离子水，并且其中所述去离 子水在通过所述入口空气冷却装置排出所述去离子水和所述成膜剂之前添加至所述成膜 剂。5. 根据权利要求4所述的成膜控制系统，其特征在于，所述成膜控制系统还包括： 与待处理的表面连通的传感器； 设置在所述供应导管内的阀和具有处理器和操作性地联接于所述处理器的存储器的 控制器，所述存储器具有可执行指令，其在由所述处理器执行时引起所述处理器执行操作， 所述操作包括： 从所述传感器接收信号并且响应于所述接收将指令提供至所述阀以开启，以容许将所 述去离子水和所述成膜剂通过所述入口空气冷却装置排出到所述表面上。
【文档编号】F02C7/00GK205578119SQ201520707709
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2015年9月14日
【发明人】S.埃卡纳亚克, R.胡利, E.门多扎, A.I.西皮奥
【申请人】通用电气公司