专利名称：一种氧化铝镀膜的方法
技术领域：
本发明属于镀膜工艺，更具体的说本发明涉及一种氧化铝镀膜的方法。
背景技术：
低红外反射率材料在国防以及其他工业部门有着特殊的用途，现有的低红外反射率材料多为半导体材料，如三氧化铟、锑化铟等，它们是以重掺杂法制造而成，其中是以过剩载流子的浓度变化影响材料的反射率。这类材料一般在最小反射率波长处的红外反射率为3～45％，反射率仍然偏高，而且材料制造工艺复杂，生产成本高。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中的不足，提供一种新型氧化铝镀膜的方法。该发明制造工艺简单，生产成本低。并且可根据需要使材料在整个红外波段的某个局部波长范围具有极低的红外反射率。
为达到上述目的，本发明可通过下述技术方案加以实现所述的发明材料，它是以铝板为基材，在其表面氧化镀覆氧化铝薄膜构成，包括下列步骤(一)水清洗铝板去污；(二)酸碱处理去油；(三)氧化镀膜处理，电解液按重量百分比采用1～40％的磷酸水溶液然后加入0。2～10g/L的柠檬酸以及乙二胺添加剂；(四)在上述电解液中，室温下25～35分钟。
本发明的有益效果是具有明显的工艺简单，制造成本低的优点，按此方法制造的低红外反射率，对波长为02～25μm范围的红外光，平均反射率低于1.5％，与半导体低红外反射率材料相比，不仅反射率大大降低，而且相应波长范围也大大拓宽了。
具体实施例方式
本发明的实施过程包括两方面，一方面是铝板基材的处理，另一方面是电解液的配制.铝板的处理首先是去污去油，然后水洗，碱处理，再水洗，酸处理，把按上述步骤处理完毕的铝板置入电解液中，通过直流电或是交流电，电压一般要恒压控制在10～130V，温度控制在20～40℃进行操作。电解液的配制是至关重要的，它是由无机酸水溶液与添加剂所组成。无机酸的种类及浓度的大小不仅决定着氧化处理所施加的电压的高低和模式，而且直接影响形成氧化铝膜层的组成及结构，从而决定了所制造材料的红外反射率。一般而言，磷酸和铬酸体系溶液中氧化处理的电压较高，并且随着施加电压的升高，所制造的材料红外反射率降低，材料的红外反射率特性通常表现为在某个局部红外波长范围的反射率极低，而在其余的红外波长范围仍保持相当高的红外反射率。在硫酸体系溶液中氧化处理的电压偏低，所制造材料的红外反射率特性表现为在全部红外波长范围具有极低的红外反射率。电解液的种类与施加电压的高低，对氧化铝膜多孔结构的孔径大小也有着直接影响。在酸液中加入添加剂，有助于提高膜的均质性和改善膜层的组成和结构，更有利于进一步降低材料红外反射率。
下面通过实施例对本发明作进一步说明例一纯铝板100×60×2mm；电解液组成H3PO41～8wt％；乙二胺05～5g/L；操作条件纯铝板作阳极，Ti基镀Pt网作阴极，电解电压为直流60～110V，22～24℃氧化处理28分钟。
按上述工艺处理后可在铝板表面生成厚约10μm的氧化铝膜，经测定在8～14μm，波段的平均红外反射率小于2％，而在其余波段的红外反射率平均大于90％。
例二纯铝板100×60×2mm；电解液组成H3PO413～25wt％；柠檬酸02～3g/L；操作条件阴，阳极均用铝合金板，电解电压为直流10～40V，20～23℃氧化处理35分钟。
按上述工艺处理后可在铝板表面生成厚约10μm的氧化铝膜，经测定在0.2～25μm，波段的平均红外反射率小于1.5％，而在其余波段的红外反射率平均大于90％。
权利要求
1.一种氧化铝镀膜的方法，包括下列步骤(一)水清洗铝板去污；(二)酸碱处理去油；(三)氧化镀膜处理，电解液按重量百分比采用1～40％的磷酸水溶液然后加入0.2～10g/L的柠檬酸以及乙二胺添加剂；(四)在上述电解液中，室温下25～35分钟。
全文摘要
本发明公开了一种氧化铝镀膜的方法，包括下列步骤(一)水清洗铝板去污；(二)酸碱处理去油；(三)氧化镀膜处理，电解液按重量百分比采用1～40％的磷酸水溶液然后加入0.2～10g/L的柠檬酸以及乙二胺添加剂；(四)在上述电解液中，室温下25～35分钟。本发明具有明显的工艺简单，制造成本低的优点，可在国防以及工业中广泛应用。
文档编号C25D11/04GK1483859SQ0213074
公开日2004年3月24日 申请日期2002年9月20日 优先权日2002年9月20日
发明者夏红元 申请人:夏红元