一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置制造方法
【专利摘要】一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置，包括废液槽、第一过滤装置、储液槽、第二过滤装置、浓缩装置和含离子膜的电解装置，废液槽包括用于引入显影废液的第一进口、用以引入二氧化碳气体的第二进口，废液槽的出口与第一过滤装置的入口连通第一过滤装置包括光刻胶沉淀出口和液体出口，第一过滤装置的液体出口与储液槽的进口连通，储液槽的顶部设有供吸附剂放入的加料口，储液槽的出口与第二过滤装置的入口连通，第二过滤装置包括吸附剂出口和液体出口，第二过滤装置的液体出口与浓缩装置的入口连通，浓缩装置的出口与含离子膜的电解装置的入口连通，含离子膜的电解装置的出口为四甲基氢氧化铵出料口。本实用新型降低成本、减少污染。
【专利说明】一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及ー种四甲基氢氧化铵回收再利用装置。
【背景技术】
[0002]电子级四甲基氢氧化铵(Tetramethyl Ammonium Hydroxide, TMAH)用于显不面板(FDP)和半导体芯片生产过程中的显影液，是用量最大的电子化学品之一。一般使用后的显影液废水中除了 TMAH之外，还有光刻胶以及各种低浓度的金属离子杂质。由于TMAH是ー种腐蚀性化学品，因此经过废水处理方能排放。目前显示面板和半导体芯片生产厂家一般采用中和，稀释以达到排放标准。如此废液处理成本高，另ー方面TMAH是ー类含氮物质，容易造成富营养化污染等环境负担，而且TMAH废液进行处理后排放无法实现循环利用，从而使制造者的制造成本无法降低。
[0003]台湾第98114596号专利专利提供了ー种TMAH回收装置能够有效移除光刻胶，但无法除去其中的其他杂质；CN101993380中通过纳滤装置和树脂相结合进行TMAH回收，但该装置需要耐碱性的纳滤膜，而且需要更换频繁成本高。因此目前显影废中TMAH回收再利用仍然有需要改善之处，来降低整体制程的成本，并且大大减少排出废水对于环境的污染。
【发明内容】
[0004]为了克服已有四甲基氢氧化铵回收装置的成本高、污染较大的不足，本实用新型提供了一种降低成本、減少污染的四甲基氢氧化铵回收再利用装置。
[0005]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0006]一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置，包括废液槽、第一过滤装置、储液槽、第二过滤装置、浓缩装置和含离子膜的电解装置，所述废液槽包括用于引入显影废液的第一进ロ、用以引入ニ氧化碳气体的第二进ロ，所述废液槽的出口与第一过滤装置的入口连通所述第一过滤装置包括光刻胶沉淀出口和液体出口，所述第一过滤装置的液体出口与所述储液槽的进ロ连通，所述储液槽的顶部设有供吸附剂放入的加料ロ，所述储液槽的出ロ与第ニ过滤装置的入口连通，所述第二过滤装置包括吸附剂出口和液体出口，所述第二过滤装置的液体出口与浓缩装置的入口连通，所述浓缩装置的出口与含离子膜的电解装置的入口连通，所述含离子膜的电解装置的出口为四甲基氢氧化铵出料ロ。
[0007]进一歩，所述废液槽的出ロ与第一过滤装置的入ロ通过第一连接管道连通，所述连接管道上安装第一泵。
[0008]所述储液槽的出口与第二过滤装置的入口通过第二连接管道连通，所述连接管道
上安装第二泵。
[0009]本实用新型的有益效果主要表现在:能有效得将显影废液中TMAH重新纯化再利用，而且结构简单，可连续生产，循环使用，节约成本，降低污染，易于推广实用。
【专利附图】
【附图说明】[0010]图1是四甲基氢氧化铵回收再利用装置的示意图。
[0011]I一废液槽；2—水泵；3—过滤装置；4一储液槽；5—水泵；6—第二过滤装置；7—浓缩装置；8—电解装置。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图对本实用新型作进一步描述。
[0013]参照图1，一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置，包括废液槽1、第一过滤装置3、储液槽4、第二过滤装置6、浓缩装置7和含离子膜的电解装置8，所述废液槽I包括用于引入显影废液的第一进口、用以引入二氧化碳气体的第二进口，所述废液槽I的出口与第一过滤装置3的入口连通所述第一过滤装置3包括光刻胶沉淀出口和液体出口，所述第一过滤装置3的液体出口与所述储液槽4的进口连通，所述储液槽4的顶部设有供吸附剂放入的加料口，所述储液槽4的出口与第二过滤装置6的入口连通，所述第二过滤装置6包括吸附剂出口和液体出口，所述第二过滤装置6的液体出口与浓缩装置7的入口连通，所述浓缩装置7的出口与含离子膜的电解装置8的入口连通，所述含离子膜的电解装置8的出口为四甲基氢氧化铵出料口。
[0014]进一步，所述废液槽的I出口与第一过滤装置3的入口通过第一连接管道连通，所述连接管道上安装第一泵。
[0015]所述储液槽4的出口与第二过滤装置6的入口通过第二连接管道连通，所述连接
管道上安装第二泵。
[0016]本实施例中，一套二氧化碳提供装置，可以源源不断提供二氧化碳。
[0017]一废液槽I，用于接收存储显影废液，废液中包含TMAH以及光刻胶，金属离子等杂质。二氧化碳提供装置通过气体管道和废液槽相连，通过阀门控制二氧化碳进入废液槽，降低废液PH，从而使光刻胶沉淀。
[0018]第一过滤装置3，与废液槽相连，将二氧化碳处理完全的废液进行过滤，除去光刻胶。在废液槽和过滤装置间设置至少一泵。
[0019]储液槽4，过滤后的液体进入储液槽，储液槽具有加料口，用于加入吸附剂，以去除光刻胶中树脂之外如感光剂等化合物。
[0020]第二过滤装置6，与储液槽相连，将溶液进行过滤，除去吸附剂。在储液槽和过滤装
置间设置至少一泵。
[0021]浓缩装置7:将过滤后的液体进行浓缩装置，通过蒸发浓缩。
[0022]含离子膜的电解装置8，浓缩后的液体进入含离子膜的电解装置，通过去除金属杂质以及电解再生TMAH。
[0023]通过本实用新型提供的装置，能够将显影液中的光刻胶树脂通过沉淀除去，光刻胶中感光剂等添加剂通过吸附剂除去，最后通过含离子膜的电解装置实现去除金属杂质以及再生TMAH的目的。
[0024]参照图1，废液槽接收存储显影废液，废液中包含TMAH以及光刻胶，金属离子等杂质。二氧化碳通过气体管道和废液槽相连，通过阀门控制二氧化碳进入废液槽发生中和反应，降低废液PH，从而使光刻胶沉淀，通过过滤装置实现固液分离，除去光刻胶，过滤后的液体进入储液槽，储液槽具有加料口，用于加入吸附剂，吸附去除光刻胶中树脂之外如感光剂等化合物。进而再由过滤装置将溶液进行过滤，除去吸附剂。过滤后的溶液进行浓缩装置，通过蒸发浓缩。浓缩液进入含离子膜的电解装置，通过去除金属杂质以及电解再生TMAH。
【权利要求】
1.一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置，其特征在于:所述回收再利用装置包括废液槽、第一过滤装置、储液槽、第二过滤装置、浓缩装置和含离子膜的电解装置，所述废液槽包括用于引入显影废液的第一进ロ、用以引入ニ氧化碳气体的第二进ロ，所述废液槽的出口与第一过滤装置的入口连通所述第一过滤装置包括光刻胶沉淀出口和液体出口，所述第一过滤装置的液体出口与所述储液槽的进ロ连通，所述储液槽的顶部设有供吸附剂放入的加料ロ，所述储液槽的出口与第二过滤装置的入口连通，所述第二过滤装置包括吸附剂出口和液体出口，所述第二过滤装置的液体出口与浓缩装置的入口连通，所述浓缩装置的出口与含离子膜的电解装置的入口连通，所述含离子膜的电解装置的出口为四甲基氢氧化铵出料ロ。
2.如权利要求1所述的四甲基氢氧化铵回收再利用装置，其特征在于:所述废液槽的出口与第一过滤装置的入口通过第一连接管道连通，所述连接管道上安装第一泵。
3.如权利要求1或2所述的四甲基氢氧化铵回收再利用装置，其特征在于:所述储液槽的出口与第二过滤装置的入口通过第二连接管道连通，所述连接管道上安装第二泵。
【文档编号】C25B15/08GK203429267SQ201320464008
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2013年7月30日 优先权日:2013年7月30日
【发明者】梁小朝, 黄源, 尹云舰, 罗江, 王海龙 申请人:杭州格林达化学有限公司