一种电镀工艺中对镀件预处理的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电镀产品及工艺领域，特别是涉及一种电镀工艺中对镀件预处理的方法。
【背景技术】
[0002]电镀是一种用电化学方法在镀件表面上沉积所需形态的金属覆层工艺。在电镀过程一般需要外电路、电镀溶液、阴阳极等装置进行电镀。镀层可以是金属、合金、半导体等，基体为金属、陶瓷、塑料、玻璃和纤维等。一般在进行正式电镀前需要对待电镀件进行处理，但现有的处理后的电镀件电镀后容易会出现镀层花斑和抗蚀性差的现象，质量得不到保证。
【发明内容】
[0003]本发明主要解决的技术问题是提供一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，镀件电镀后使用时间长。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，包括步骤为:对待镀件进行清洗和抛光工序，所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂，所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺，所述化学抛光液的组分为:盐酸350-400g/L、三氧化铬100-150g/L、六次甲基四胺2_4g/L。
[0005]在本发明一个较佳实施例中，所述化学清洗液的组分为:氢氧化钠40g/L、十二水合磷酸三钠80g/L、碳酸钠55g/L、烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂2-5g/L。
[0006]在本发明一个较佳实施例中，所述清洗工序中清洗的时间为10-20分钟。
[0007]在本发明一个较佳实施例中，所述抛光工序中化学抛光液的温度为室温。
[0008]本发明的有益效果是:本发明的电镀工艺中对镀件预处理的方法，能够使镀件表面平整产生光泽，方法简单，操作便捷，预处理后的镀件结合力好且抗蚀性强，能够得到优质的镀层，电镀好的镀件使用时间长，不会出现花斑和抗蚀性差等现象，受到欢迎。
【具体实施方式】
[0009]下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0010]实施例一:
提供一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，包括步骤为:对待镀件进行清洗和抛光工序。所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂。所述化学清洗液的组分为:氢氧化钠40g/L、十二水合磷酸三钠SOg/L、碳酸钠55g/L、烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂2-5g/L。所述清洗工序中清洗的时间为15分钟。
[0011]所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺。所述化学抛光液的组分为:盐酸370g/L、三氧化铬120g/L、六次甲基四胺3g/L。所述抛光工序中化学抛光液的温度为室温。
[0012]实施例二:
提供一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，包括步骤为:对待镀件进行清洗和抛光工序。所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂。所述化学清洗液的组分为:氢氧化钠40g/L、十二水合磷酸三钠SOg/L、碳酸钠55g/L、烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂2-5g/L。所述清洗工序中清洗的时间为10分钟。
[0013]所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺。所述化学抛光液的组分为:盐酸350g/L、三氧化铬150g/L、六次甲基四胺4g/L。所述抛光工序中化学抛光液的温度为室温。
[0014]实施例三:
提供一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，包括步骤为:对待镀件进行清洗和抛光工序。所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂。所述化学清洗液的组分为:氢氧化钠40g/L、十二水合磷酸三钠SOg/L、碳酸钠55g/L、烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂2-5g/L。所述清洗工序中清洗的时间为20分钟。
[0015]所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺。所述化学抛光液的组分为:盐酸400g/L、三氧化铬100g/L、六次甲基四胺2g/L。所述抛光工序中化学抛光液的温度为室温。
[0016]本发明的有益效果是:
一、能够使镀件表面平整产生光泽，方法简单，操作便捷；
二、预处理后的镀件结合力好且抗蚀性强，能够得到优质的镀层；
三、电镀好的镀件使用时间长，不会出现花斑和抗蚀性差等现象，受到欢迎。
[0017]以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，其特征在于，包括步骤为:对待镀件进行清洗和抛光工序，所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂，所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺，所述化学抛光液的组分为:盐酸350-400g/L、三氧化铬100-150g/L、六次甲基四胺2-4g/L。2.根据权利要求1所述的电镀工艺中对镀件预处理的方法，其特征在于，所述化学清洗液的组分为:氢氧化钠40g/L、十二水合磷酸三钠80g/L、碳酸钠55g/L、烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂2-5g/L03.根据权利要求1所述的电镀工艺中对镀件预处理的方法，其特征在于，所述清洗工序中清洗的时间为10-20分钟。4.根据权利要求1所述的电镀工艺中对镀件预处理的方法，其特征在于，所述抛光工序中化学抛光液的温度为室温。
【专利摘要】本发明公开了一种电镀工艺中对镀件预处理的方法，包括步骤为：对待镀件进行清洗和抛光工序，所述清洗工序中采用的化学清洗液包括氢氧化钠、十二水合磷酸三钠、碳酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚乳化剂，所述抛光工序中采用的化学抛光液包括质量分数为37%的盐酸、三氧化铬和六次甲基四胺，所述化学抛光液的组分为：盐酸350-400g/L、三氧化铬100-150g/L、六次甲基四胺2-4g/L。通过上述方式，本发明的方法能够使镀件表面平整产生光泽，方法简单，操作便捷，预处理后的镀件结合力好且抗蚀性强，能够得到优质的镀层，电镀好的镀件使用时间长，不会出现花斑和抗蚀性差等现象，受到欢迎。
【IPC分类】C23G1/14, C25D5/34
【公开号】CN105525318
【申请号】CN201610029965
【发明人】陆文华
【申请人】苏州市华婷特种电镀有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2016年1月18日