用于离子反应镀膜液体自动循环装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及机械领域，尤其涉及一种用于离子反应镀膜液体自动循环装置。
【背景技术】
[0002]现时电镀加工过程中，由于镀膜的不均，电镀液的浓差极化高，允许印记电流密封上限较低，因而电镀速度低。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种能防止了镀膜不均的用于离子反应镀膜液体自动循环装置，从而降低电镀液的浓差极化，提高允许的阴极电流密度上限，从而提高了电镀速度。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型的技术方案为:提供一种用于离子反应镀膜液体自动循环装置，包括离子反应槽、输出管道、磁力循环过滤机、输入管道、离子反应镀膜件前后的循环钛管，所述离子反应槽的底部设有槽体液体出口及循环钛管连接孔，所述输出管道的输入端及输出端分别与所述槽体液体出口及所述磁力循环过滤机的输入端密封相接，所述循环钛管的输入端密封插设于所述循环钛管连接孔中，且与所述输入管道的输出端密封相接，所述输入管道的输入端与所述磁力循环过滤机的输出端密封相接。
[0005]所述输出管道及所述输入管道上分别设有调节阀。
[0006]所述循环钛管的数量为两条。
[0007]与现有技术相比，本实用新型用于离子反应镀膜液体自动循环装置将离子反应槽的液体通过经磁力循环过滤机输送到均匀的循环钛管至被镀件周围，防止了镀膜的不均，降低电镀液的浓差极化，提高允许的阴极电流密度上限，从而提高了电镀速度。
[0008]通过以下的描述并结合附图，本实用新型将变得更加清晰，这些附图用于解释本实用新型的实施例。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型用于离子反应镀膜液体自动循环装置的结构图。
【具体实施方式】
[0010]参考图1，本实用新型用于离子反应镀膜液体自动循环装置100包括离子反应槽10、输出管道20、磁力循环过滤机30、输入管道40、离子反应镀膜件前后的循环钛管50。
[0011]所述离子反应槽10的底部设有槽体液体出口 11及循环钛管连接孔12。所述输出管道20的输入端及输出端分别与所述槽体液体出口 11及所述磁力循环过滤机30的输入端密封相接。所述循环钛管50的输入端密封插设于所述循环钛管连接孔12中，且与所述输入管道40的输出端密封相接。所述输入管道40的输入端与所述磁力循环过滤机30的输出端密封相接。所述输出管道20及所述输入管道40上分别设有调节阀60。本实施例中，所述循环钛管50的数量为两条。
[0012]本实用新型用于离子反应镀膜液体自动循环装置将离子反应槽10的液体通过经磁力循环过滤机30输送到均匀的循环钛管50至被镀件周围，防止了镀膜的不均，降低电镀液的浓差极化，提高允许的阴极电流密度上限，从而提高了电镀速度，尤其适用于连续电镀。
[0013]以上结合最佳实施例对本实用新型进行描述，但本实用新型并不局限于以上揭示的实施例，而应当涵盖各种根据本实施例的本质进行的修改、等效组合。
【主权项】
1.一种用于离子反应镀膜液体自动循环装置，其特征在于:包括离子反应槽、输出管道、磁力循环过滤机、输入管道、离子反应镀膜件前后的循环钛管，所述离子反应槽的底部设有槽体液体出口及循环钛管连接孔，所述输出管道的输入端及输出端分别与所述槽体液体出口及所述磁力循环过滤机的输入端密封相接，所述循环钛管的输入端密封插设于所述循环钛管连接孔中，且与所述输入管道的输出端密封相接，所述输入管道的输入端与所述磁力循环过滤机的输出端密封相接。2.如权利要求1所述的用于离子反应镀膜液体自动循环装置，其特征在于:所述输出管道及所述输入管道上分别设有调节阀。3.如权利要求1所述的用于离子反应镀膜液体自动循环装置，其特征在于:所述循环钛管的数量为两条。
【专利摘要】本实用新型公开一种用于离子反应镀膜液体自动循环装置，包括离子反应槽、输出管道、磁力循环过滤机、输入管道、离子反应镀膜件前后的循环钛管，离子反应槽的底部设有槽体液体出口及循环钛管连接孔，输出管道的输入端及输出端分别与槽体液体出口及磁力循环过滤机的输入端密封相接，循环钛管的输入端密封插设于循环钛管连接孔中，且与输入管道的输出端密封相接，输入管道的输入端与磁力循环过滤机的输出端密封相接。本实用新型用于离子反应镀膜液体自动循环装置将离子反应槽的液体通过经磁力循环过滤机输送到均匀的循环钛管至被镀件周围，防止了镀膜的不均，降低电镀液的浓差极化，提高允许的阴极电流密度上限，从而提高了电镀速度。
【IPC分类】C25D21/10, C25D21/06
【公开号】CN204690156
【申请号】CN201520375885
【发明人】张德友
【申请人】东莞市明谷一纳米材料有限公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月3日