专利名称：容器等离子处理机用的双重密封装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及容器处理，其在于使容器内壁涂覆一势垒效应材料层。
背景技术：
然后，前驱气体(例如乙炔、(:2112)输入到容器中，该前驱气体 通过电磁轰击(一般用低功率的达2.45 GHz的超高频微波)被活化，以使 前驱气体进入冷等离子状态，并因而产生含氢化碳(包括CH、 CH2、 CH3) 的组分，氢化碳在容器的内壁上沉积成薄层(薄层的厚度视情况而定通常 为50纳米至200纳米，其中1纳米=10—9米)。 这正是已知处理机为什么配备密封装置的原因，所述密封装置包 括一环形垫圏，当容器被引入处理机内时，容器的开口(也被称作"器口") 将贴靠于所述垫圏上。作为例子进行说明，可以参考法国专利申请FR2 872 148 (Sidel)或者同族国际申请WO 2006/000539，还或者美国专利文献US 5 849 366。
07所述技术是可完善的。事实上，已经在密封垫圏处观察到存在泄 露。所述泄露是由在垫圏上逐渐沉积由等离子产生的碳化组分所引起的。 随着时间的推移，所述沉积在垫圏表面构成一薄膜，薄膜使所述垫圏的柔 性减小，从而在垫圏和容器口之间的分界面出现缝隙。为了避免产生这类
泄露，目前具有的解决方案是清洗或替换垫圏，这会在修理期间导致处理 机停止。
发明内容
所述装置使容器获得双重密封性，能降低对被污染垫圏的去污频 率或替换频率，从而有利于提高生产率。
按照一实施方式，第一密封表面适于与一容器器口配合。第二密 封表面例如适于与容器的一环箍配合。
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密封表面可以由至少一密封垫圏承载，且例如由两个不同的密封 垫圏承载。 本发明的其它目的和优点将体现在以下参考附图进行的描述中， 附图中
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图1是包括一改进密封装置的容器处理机的正视剖面图；[17-图2是图1中处理机的一细部的按比例放大的剖面图； [18-图3是图2中处理机的一细部的按比例放大的剖面图，示出一 改进的密封装置； 处理机1包括以例如钢或(优选地)铝或铝合金等导体材料制成 的腔3。在腔3内设置有以例如石英等能透电磁波的材料制成的围室4。处 理机1还包括一频率为2.45 GHz的低功率电磁微波发生器(未示出)，其 通过一波导管5被连接到腔3。 在腔4上设有盖6，在所述盖内安装有一衬套7，所述衬套在围 室4的延伸部分中、在围室的上端部界定出一喷口 8， 一喷射器9轴向地 穿过所述喷口 8,例如乙炔的前驱气体经由所述喷射器被引入容器2内。密封表面24、 25由至少一弹性垫圏承载。按照如图所示的一优 选的实施方式，密封表面24、 25分别由两分开的弹性垫圏27、 28带有， 所述弹性垫圏以可压缩材料，例如硅树脂或(天然或合成)橡胶材料制成。 为了保证对垫圏27、 28的保持和正确定位，密封装置23包括一 套筒29,所述套筒以例如铝或优选钢等刚性材料制成。所述套筒29在衬 套7侧具有一柱形主体30，套筒29支靠于所述衬套且^皮接合在(或者优 选地被旋狞在)所述衬套内，所述柱形主体30开有一通孔31，所述通孔 同轴地延伸在喷口 8的延长部分中。主体30在衬套7的相对面由一管状裙 部32延长，所述管状裙部在内部界定出一座槽，容器2的颈部12至少部 分地被接收在所述座槽中。 当颈部12被引入套筒29内时，在处理开始之前，所述空隙40 处在大气压力下。真空既实现在容器2内，也实现在围室4内，但风险在 于控制空隙40的超压因此会在垫圏27、 28处导致泄露。为了消除所述 风险，通过径向和/或轴向制在套筒29的主体30中的排气孔41，空隙40 被连接到喷口 8，所述排气孔41使由裙部在内部界定的空间(因此空隙40) 与套筒29的一外表面相连通，且更确切地，与一环形空间42相连通，所 述环形空间借助实施在所述套筒内的锪孔43,在衬套7和套筒29之间形 成。 此外，无论垫圏的数量如何，密封表面的数量可以大于两个，或 者还可以支靠在器口 13或环箍15的不同环形区上。
权利要求
1.容器(2)等离子处理机(1)用的密封装置(23)，其特征在于，所述密封装置包括至少第一和第二环形的密封表面(24、25)，所述密封表面适于分别与所述容器(2)的颈部(12)的不同的第一和第二环形区(13、15)配合，所述第一和第二环形区即一方面是器口(13)，另一方面是环箍(15)。
2. 按照权利要求l所述的密封装置(23)，其特征在于，所述密封表 面(24、 25)由至少一密封垫圏带有。
3. 按照权利要求2所述的密封装置(23)，其特征在于，所述密封表 面(24、 25)由两个不同的密封垫圏(27、 28)带有。
4. 按照权利要求2或3所述的密封装置(23)，其特征在于，所述密 封装置包括一套筒(29)，所述套筒(29)适于接收所述容器(2)的颈部(12)且形成所述密封垫圏(27、 28)用的框架。
5. 按照权利要求4所述的密封装置(23),其特征在于，所述套筒(29) 包括由管状的裙部(32)延长的一柱形主体(30)。
6. 按照权利要求3和5相结合所述的密封装置(23)，其特征在于， 所述第一密封垫圏(24)被嵌套在一锪孔(33)内，所述總孔(33)在所 述主体(30)和所述裙部(32)之间的连接部处形成于所述套筒(29)内， 而所述第二密封垫圏(25)被安装在所述裙部(32)上。
7. 按照权利要求5或6所述的密封装置(23)，其特征在于，其包括 至少一排气孔(41)，所述排气孔使由所述裙部(32)在内部限定的一空 间与所述套筒(29)的外部相连通。
8. 容器等离子处理机(1 )，其包括按照上述权利要求1至7中任一 项所述的密封装置(23)。
全文摘要
容器(2)的等离子处理机(1)用的密封装置(23)，其包括至少第一和第二环形的密封表面(24、25)，所述密封表面适于分别与容器(2)颈部(12)的不同的第一和第二环形区(13、15)配合。
文档编号F16J15/00GK101529137SQ200780038728
公开日2009年9月9日 申请日期2007年10月17日 优先权日2006年10月18日
发明者Y-A·杜克洛 申请人:西德尔合作公司