一种化学原料反应锅的密封系统的制作方法

文档序号:5621356阅读:240来源:国知局
专利名称:一种化学原料反应锅的密封系统的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种密封系统,尤其是一种化学原料反应锅的密封系统。
背景技术
现在传统的反应锅,由于采用液压开盖关盖,在采用负压的生产工艺,要抽真空,有时密封圈容易被大气压挤压变形,如果密封圈经常挤压变形,密封圈的寿命会降低。同时,当密封圈变形到一定程度时,反应锅会出现漏气的现象。造成反应锅内的反应由于反应条件无法达到正常反应条件而造成反应生成物不合格,造成废品率升高的现象。

实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种化学原料反应锅的密封圈,解决密封圈寿命短的问题。为了解决上述技术问题,本实用新型包括锅体和锅盖,锅盖下表面周边设置有密封圈,密封圈直径大小与锅体开口大小相匹配,密封圈环体内部沿环体轴线设置有密闭空腔。进一步,所述密封圈环体横截面为梯形。进一步,所述锅体开口端面上设置有与密封圈匹配的凹槽,所述密封圈与凹槽过盈配合。本实用新型的优点是,提高了密封圈的使用寿命,提高了密封效果。

附图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如附图1所示,本实用新型包括锅体I和锅盖2,锅盖2下表面周边设置有密封圈3,密封圈3直径大小与锅体I开口大小相匹配,密封圈3环体内部沿环体轴线设置有密闭空腔31,所述密封圈3环体横截面为梯形。为了使反应锅内负压过大时,密封圈的变形过大,所述锅体I开口端面上设置有与密封圈3匹配的凹槽11,所述密封圈3与凹槽11过盈配合。由于密封圈3环体横截面为梯形,使密封圈完全嵌入下法兰的梯形槽内,这样密封圈的形状就有所固定,不会轻易变形。
权利要求1.一种化学原料反应锅的密封系统,包括锅体(I)和锅盖(2),锅盖(2)下表面周边设置有密封圈(3),密封圈(3)直径大小与锅体(I)开口大小相匹配,其特征在于,密封圈(3) 环体内部沿环体轴线设置有密闭空腔(31)。
2.根据权利要求1所述的化学原料反应锅的密封系统,其特征在于,所述密封圈(3)环体横截面为梯形。
3.根据权利要求1或2所述的化学原料反应锅的密封系统,其特征在于,所述锅体(I) 开口端面上设置有与密封圈(3)匹配的凹槽(11),所述密封圈(3)与凹槽(11)过盈配合。
专利摘要本实用新型涉及一种密封圈,尤其是一种化学原料反应锅的密封系统。包括锅体、和锅盖,锅盖、下表面周边设置有密封圈、密封圈、直径大小与锅体、开口大小相匹配,、密封圈、环体内部沿环体轴线设置有密闭空腔。进一步,所述密封圈环体横截面为梯形。进一步,所述锅体开口端面上设置有与密封圈匹配的凹槽,所述密封圈与凹槽过盈配合。本实用新型可用于各种化学原料反应锅的密封。
文档编号F16J15/06GK202834056SQ201220550248
公开日2013年3月27日 申请日期2012年10月25日 优先权日2012年10月25日
发明者毛晓东 申请人:无锡市欣田机械有限公司
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