曲轴油孔清洗密封装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种曲轴油孔清洗密封装置，包括上卡瓦、下卡瓦，所述下卡瓦扣合在曲轴轴颈上，上卡瓦和下卡瓦内侧圆弧面上分别设有闭环式凹槽，凹槽中分别嵌装有上密封圈和下密封圈，上密封圈和下密封圈与曲轴轴颈接触形成环形密封空间。本实用新型使用时清洗液通过上卡瓦上设有的进液孔进入环形密封空间，进而进入曲轴的直油孔和斜油孔内，实现对曲轴油孔内部的清洗。其密封性好，清洗液不会向上卡瓦和下卡瓦两侧方向泄压。具有结构合理，制造简单，密封性好，更换方便的特点，是一种理想的曲轴油孔清洗密封装置。
【专利说明】曲轴油孔清洗密封装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及曲轴油孔清洗工装，具体是一种曲轴油孔清洗密封装置。
【背景技术】
[0002]现有技术中，曲轴清洗机工装通常通过上、下卡瓦直接与轴颈相接触，密封性较差，从而向两侧方向泄压，导致曲轴油孔清洁度不达标。
【发明内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构合理，制造简单，密封性好，更换方便的曲轴油孔清洗密封装置。
[0004]本实用新型解决其技术问题采用的技术方案是:一种曲轴油孔清洗密封装置，包括上卡瓦、下卡瓦，所述上卡瓦、下卡瓦扣合在曲轴轴颈上，其特征在于:所述上卡瓦和下卡瓦内侧圆弧面上分别设有闭环式凹槽，凹槽中分别嵌装有上密封圈和下密封圈，上密封圈和下密封圈与曲轴轴颈接触形成环形密封空间。
[0005]所述上密封圈和下密封圈为闭环式密封圈，分别镶嵌在上卡瓦及下卡瓦的闭环式凹槽中。
[0006]本实用新型在上卡瓦和下卡瓦凹槽中分别嵌装上密封圈和下密封圈，它们与曲轴轴颈接触形成环形密封空间，清洗液通过上卡瓦上设有的进液孔进入环形密封空间，进而进入曲轴的直油孔和斜油孔内，实现对曲轴油孔内部的清洗。对照现有技术，本实用新型密封性好，清洗液不会向上卡瓦和下卡瓦两侧方向泄压。其具有结构合理，制造简单，密封性好，更换方便的特点。是一种理想的曲轴油孔清洗密封装置。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]下面结合附图对本实用新型做进一步描述。
[0008]图1是本实用新型的组成结构示意图。
[0009]图2是图1的A-A向示意图。
[0010]图中1.上卡瓦，2.曲轴轴颈，3.上密封圈，4.环形密封空间，5.下密封圈，6.下卡瓦。
【具体实施方式】
[0011]从图1、图2中可以看出，一种曲轴油孔清洗密封装置，包括上卡瓦1、下卡瓦6，所述上卡瓦1、下卡瓦6扣合在曲轴轴颈2上，其特征在于:所述上卡瓦I和下卡瓦6内侧圆弧面上分别设有闭环式凹槽，凹槽中分别嵌装有上密封圈3和下密封圈5，上密封圈3和下密封圈5与曲轴轴颈接触形成环形密封空间4。
[0012]所述上密封圈3和下密封圈5为闭环式密封圈，分别镶嵌在上卡瓦及下卡瓦的闭环式凹槽中。
[0013]本实用新型使用时，清洗液通过上卡瓦I上设有的进液孔进入环形密封空间4，进而进入曲轴的直油孔21和斜油孔22内，并从斜油孔进入其它油孔，完成曲轴油孔内部的清洗。
[0014]本实用新型密封性好，清洗液不会向上卡瓦和下卡瓦两侧方向泄压。其具有结构合理，制造简单，密封性好，更换方便的特点。是一种理想的曲轴油孔清洗密封装置。
【权利要求】
1.一种曲轴油孔清洗密封装置，包括上卡瓦、下卡瓦，所述上卡瓦、下卡瓦扣合在曲轴轴颈上，其特征在于:所述上卡瓦和下卡瓦内侧圆弧面上分别设有闭环式凹槽，凹槽中分别嵌装有上密封圈和下密封圈，上密封圈和下密封圈与曲轴轴颈接触形成环形密封空间。
2.根据权利要求1所述的曲轴油孔清洗密封装置，其特征在于:所述上密封圈和下密封圈为闭环式密封圈，分别镶嵌在上卡瓦及下卡瓦的闭环式凹槽中。
【文档编号】F16J15/06GK204004386SQ201420398060
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年7月18日 优先权日:2014年7月18日
【发明者】丛建臣, 胡京开, 于海明, 张晓琳 申请人:天润曲轴股份有限公司