一种高强度的立柱头的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种阀门部件，具体涉及一种高强度的立柱头。
【背景技术】
[0002]阀门中的立柱头座结构常常需要承受较大的力，尤其是立柱头与立柱座的连接部位，具有很大的剪切力，这样会经常导致立柱头的损坏，零件使用寿命短，因而要更换，十分的不便。
[0003]同时，如果要提高零件使用寿命，那么通常的做法是把连接部位的厚度设计偏大，这样的问题是零件成本大大增加。
[0004]而且立柱头座中的立柱头与立柱座两者的结合并没有十分的紧密，这样也会导致该立柱头座会在使用过程中出现松动。
【实用新型内容】
[0005]为了克服【背景技术】的不足，本实用新型提供一种高强度的立柱头，主要解决了现有的立柱头座使用寿命短的问题。
[0006]本实用新型所采用的技术方案是:一种高强度的立柱头，所述立柱头包括本体、连接段和本体帽，所述连接段上设有通孔，所述立柱头通过连接段插入与立柱头相配合的立柱座竖向锁紧槽内，所述的连接段与本体帽的连接处设有弹性片，所述的弹性片环绕在连接段上；所述的立柱头本体外层熔凝有一层激光熔覆层，所述的激光熔覆层为Cr材质。
[0007]所述的弹性片为铜片。
[0008]所述的连接段上设有外螺纹，该外螺纹与立柱座上的内螺纹相对应。
[0009]所述本体帽为弧形本体帽，本体帽的上部开设有孔。
[0010]所述的本体帽的弧度为12° -15°。
[0011]本实用新型的有益效果是:激光熔覆层的熔凝对该立柱头的强度大大增强了，因而也提供了使用寿命；弹性片的设置对立柱头与立柱座之间的结合具有反向作用力，因此就使得两者的结合更加的紧密。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的立柱头剖视图。
[0013]图2为立柱头的俯视图。
[0014]图3为与立柱头配合的整体立柱头座图。
[0015]图中1、本体；2、连接段；21、通孔；22、弹性片；3、本体帽；4、立柱座。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明:
[0017]如图1结合图2、图3所示，一种高强度的立柱头，所述立柱头包括本体1、连接段2和本体帽3，所述连接段2上设有通孔21，所述立柱头通过连接段2插入与立柱头相配合的立柱座4竖向锁紧槽内，所述的连接段2与本体帽3的连接处设有弹性片22，所述的弹性片22环绕在连接段2上；所述的立柱头本体外层熔凝有一层激光熔覆层，所述的激光熔覆层为Cr材质。弹性片22的设置对立柱头与立柱座之间的结合具有反向作用力，因此就使得两者的结合更加的紧密。
[0018]所述的弹性片22为铜片。也可以为其他带有弹性的金属片，本实用优选为铜片。
[0019]所述的连接段2上设有外螺纹，该外螺纹与立柱座4上的内螺纹相对应。
[0020]所述本体帽3为弧形本体帽，本体帽3的上部开设有孔。开设孔的目的是为了锁紧件在锁紧的时候有着力点，锁紧的更加牢固。
[0021]所述的本体帽3的弧度为12° -15°。本实用优选13°，最符合人体手掌工程学，具有更好的着力点。
[0022]各位技术人员须知:虽然本实用新型已按照上述【具体实施方式】做了描述，但是本实用新型的发明思想并不仅限于此实用新型，任何运用本发明思想的改装，都将纳入本专利专利权保护范围内。
【主权项】
1.一种高强度的立柱头，其特征在于:所述立柱头包括本体、连接段和本体帽，所述连接段上设有通孔，所述立柱头通过连接段插入与立柱头相配合的立柱座竖向锁紧槽内，所述的连接段与本体帽的连接处设有弹性片，所述的弹性片环绕在连接段上；所述的立柱头本体外层熔凝有一层激光熔覆层，所述的激光熔覆层为Cr材质。
2.根据权利要求1所述的高强度的立柱头，其特征在于:所述的弹性片为铜片。
3.根据权利要求1所述的高强度的立柱头，其特征在于:所述的连接段上设有外螺纹，该外螺纹与立柱座上的内螺纹相对应。
4.根据权利要求1所述的高强度的立柱头，其特征在于:所述本体帽为弧形本体帽，本体帽的上部开设有孔。
5.根据权利要求4所述的高强度的立柱头，其特征在于:所述的本体帽的弧度为12。-15° 。
【专利摘要】本实用新型涉及一种高强度的立柱头。主要解决了现有的立柱头座使用寿命短的问题。其特征在于：所述立柱头包括本体、连接段和本体帽，所述连接段上设有通孔，所述立柱头通过连接段插入与立柱头相配合的立柱座竖向锁紧槽内，所述的连接段与本体帽的连接处设有弹性片，所述的弹性片环绕在连接段上；所述的立柱头本体外层熔凝有一层激光熔覆层，所述的激光熔覆层为Cr材质。激光熔覆层的熔凝对该立柱头的强度大大增强了，因而也提供了使用寿命；弹性片的设置对立柱头与立柱座之间的结合具有反向作用力，因此就使得两者的结合更加的紧密。
【IPC分类】F16K51-00
【公开号】CN204403557
【申请号】CN201420829305
【发明人】孔维方
【申请人】温州市研制阀门厂
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2014年12月24日