滚珠丝杠装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及用于半导体制造装置或液晶显示面板制造装置等的清洁环境下的滚珠丝杠装置。
【背景技术】
[0002]以往的滚珠丝杠装置中，密封部件由弹性材料制成，其与丝杠轴紧密接触来提高密封性。
[0003]在以往的提高了密封性的密封部件中，具有无法充分抑制高速运转时的在密封部件内产生的微颗粒的课题。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于，提供一种滚珠丝杠装置，其能够将在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒密封在移动部件内，极力抑制在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒向装置外漏出的量。
[0005]本实用新型为了实现上述目的，提供一种滚珠丝杠装置，其特征在于，具有:沿轴向延伸的滚道部件，其在外周面上具有滚动体滚动部；能够相对于所述滚道部件相对移动的移动部件，其在内周面上具有与所述滚动体滚动部相对的荷载滚动体滚动部；多个滚动体，其滚动自如地装填在由所述滚动体滚动部和所述荷载滚动体滚动部形成的滚动体滚动路内；滚动体循环路，其使所述滚动体滚动路的起点和终点连通而形成无限循环状的滚动体通路；和1对密封部件，其安装在所述移动部件的轴向两端，所述密封部件由固定环固定。
[0006]在上述滚珠丝杠装置中，所述1对密封部件在分别安装于所述移动部件上的状态下，沿着相对于所述滚道部件的轴向正交的方向截断时，形成为相对于所述滚道部件具有
0.15mm的范围内的间隙的形状。
[0007]本实用新型的密封部件形成为，相对于滚道部件具有0.15mm的范围内的间隙的形状，在滚道部件与密封部件之间形成硬的润滑脂层(密封膜)。与由密封部件单体相对于滚道部件设置间隙的情况相比，能够极力缩小密封部件与滚道部件之间的间隙，能够将在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒密封在移动部件内，极力抑制在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒向装置外漏出的量。
【附图说明】
[0008]图1是滚珠丝杠装置的剖视图。
[0009]附图标记说明
[0010]1滚珠丝杠装置
[0011]2滚道部件
[0012]3移动部件
[0013]4滚动体
[0014]5密封部件
[0015]6固定环
【具体实施方式】
[0016]作为本实施方式的滚珠丝杠装置1的构成，具有:沿轴向延伸的滚道部件(丝杠轴)2，其在外周面上具有滚动体滚动部；能够相对于滚道部件2相对移动的移动部件(螺母)3，其在内周面上具有与滚动体滚动部相对的荷载滚动体滚动部；多个滚动体(滚珠)4，其滚动自如地装填在由滚动体滚动部和荷载滚动体滚动部形成的滚动体滚动路内；滚动体循环路，其使滚动体滚动路的起点和终点连通而形成无限循环状的滚动体通路；和1对密封部件5，其安装在移动部件3的轴向两端，各密封部件5由固定环6固定在移动部件3的轴向端部。
[0017]1对密封部件5在分别安装于移动部件3上的状态下，沿着相对于滚道部件2的轴向正交的方向截断时，形成为相对于滚道部件2具有0.15mm的范围内的间隙的形状。
[0018]本实用新型的密封部件形成为，相对于滚道部件具有0.15mm的范围内的间隙的形状，在滚道部件与密封部件之间形成硬的润滑脂层(密封膜)。与由密封部件单体相对于滚道部件设置间隙的情况相比，能够极力缩小密封部件与滚道部件之间的间隙，能够将在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒密封在移动部件内，极力抑制在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒向装置外漏出的量。
【主权项】
1.一种滚珠丝杠装置，其特征在于，具有: 沿轴向延伸的滚道部件，其在外周面上具有滚动体滚动部； 能够相对于所述滚道部件相对移动的移动部件，其在内周面上具有与所述滚动体滚动部相对的荷载滚动体滚动部； 多个滚动体，其滚动自如地装填在由所述滚动体滚动部和所述荷载滚动体滚动部形成的滚动体滚动路内； 滚动体循环路，其使所述滚动体滚动路的起点和终点连通而形成无限循环状的滚动体通路；和 1对密封部件，其安装在所述移动部件的轴向两端， 所述密封部件由固定环固定。2.如权利要求1所述的滚珠丝杠装置，其特征在于， 所述1对密封部件在分别安装于所述移动部件上的状态下，沿着相对于所述滚道部件的轴向正交的方向截断时，形成为相对于所述滚道部件具有0.15mm的范围内的间隙的形状。
【专利摘要】本实用新型提供一种滚珠丝杠装置，能够将在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒密封在移动部件内，极力抑制在滚动体滚动路与滚动体之间产生的微颗粒向装置外漏出的量。作为滚珠丝杠装置1的构成，具有滚道部件(丝杠轴)(2)、移动部件(螺母)(3)和多个滚动体(滚珠)(4)。1对密封部件(5)安装在移动部件(3)的轴向两端部，各密封部件(5)由固定环(6)固定在移动部件(3)的轴向端部。
【IPC分类】F16H25/22
【公开号】CN205013624
【申请号】CN201520793454
【发明人】小笠原基泰
【申请人】日本精工株式会社
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年10月14日