专利名称：一种干涉条纹垂直度测量方法
技术领域：
本发明属于干涉成像光谱测量领域，具体涉及一种干涉条纹垂直度测量方法，可适用于干涉成像光谱仪。
背景技术：
为了干涉成像光谱仪的空间成像和光谱成像方向一致，必须保证干涉条纹的垂直度，测定干涉条纹垂直度能够在装校过程中控制干涉仪的装校精度。传统技术采用CCD静态采集干涉条纹图像，来判读图像上条纹的垂直度。但受CCD 自身垂直度影响和采集视场小影响(CCD静态采集是干涉场的一部分，对干涉条纹倾斜小的可能测不出来)，干涉条纹垂直度判读精度不高。
发明内容
本发明提供一种干涉条纹垂直度测量方法，以解决现有技术测量干涉条纹垂直度判读精度不高的技术问题。本发明的技术方案如下一种干涉条纹垂直度测量方法，包括以下步骤(1)把可水平方向旋转和俯仰方向旋转的二维转台调整水平；(2)将望远镜安装于二维转台上，将望远镜调焦到无穷远；(3)望远镜的分划十字对准干涉条纹上端的中心，使望远镜以俯仰方向自上而下扫描该干涉条纹，读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；或者望远镜的分划十字对准干涉条纹下端的中心，使望远镜以俯仰方向自下而上扫描该干涉条纹，读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；(4)保持此时望远镜的在俯仰方向上的位置不变，望远镜水平旋转，使望远镜的分划十字调整至对准该干涉条纹的中心，读出水平偏角β ；(5)该干涉条纹垂直度即Y = β/sin α。上述步骤C3)、(4)是依据二维转台上的标尺读出俯仰角α、水平偏角β。上述步骤C3)、(4)中对准干涉条纹的中心的操作是采用设置于望远镜后方的CXD 代替人眼观测对准。用以对准的干涉条纹既可以是亮条纹，也可以是暗条纹；测出某一亮条纹或某一暗条纹都可完成本发明目的。当然，也可以多测几个条纹，取平均值。本发明具有以下优点1、克服了传统技术CCD靶面的不垂直度影响，提高了干涉仪干涉条纹垂直度的测量精度，扩大了检测干涉条纹的视场。2、本发明操作简便，可广泛应用于剪切干涉仪干涉条纹等其他干涉条纹垂直度的测量。
图1为本发明望远镜及二维转台示意图。图2为本发明α、β、γ的关系。图3为本发明望远镜的分划十字扫描干涉条纹的示意图。附图标号说明1-望远镜，2-二维转台。
具体实施例方式本发明是扫描干涉场中干涉条尽可能大的范围。该干涉条纹垂直度测量方法，包括以下步骤(1)把可水平方向旋转和俯仰方向旋转的二维转台调整水平；(2)将望远镜安装于二维转台上，将望远镜调焦到无穷远；(3)望远镜的分划十字对准干涉条纹上端的中心，使望远镜以俯仰方向自上而下扫描该干涉条纹，依据二维转台上的标尺读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；或者望远镜的分划十字对准干涉条纹下端的中心，使望远镜以俯仰方向自下而上扫描该干涉条纹，依据二维转台上的标尺读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；(4)保持此时望远镜的在俯仰方向上的位置不变，望远镜水平旋转，使望远镜的分划十字调整至对准该干涉条纹的中心，依据二维转台上的标尺读出水平偏角β ；(5)该干涉条纹垂直度即Y = β/sin α。上述步骤C3)、(4)中对准干涉条纹的中心的操作是采用设置于望远镜后方的CXD 代替人眼观测对准。用以对准的干涉条纹既可以是亮条纹，也可以是暗条纹；测出某一亮条纹或某一暗条纹都可完成本发明目的。当然，也可以多测几个条纹，取平均值。所用的二维转台精度为0.5"，步骤C3)俯仰扫描4°范围，测量干涉条纹垂直度精度可到7. 17〃。
权利要求
1.一种干涉条纹垂直度测量方法，包括以下步骤(1)把可水平方向旋转和俯仰方向旋转的二维转台调整水平；(2)将望远镜安装于二维转台上，将望远镜调焦到无穷远；(3)望远镜的分划十字对准干涉条纹上端的中心，使望远镜以俯仰方向自上而下扫描该干涉条纹，读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；或者望远镜的分划十字对准干涉条纹下端的中心，使望远镜以俯仰方向自下而上扫描该干涉条纹，读出该干涉条纹扫描范围的俯仰角α ；(4)保持此时望远镜的在俯仰方向上的位置不变，望远镜水平旋转，使望远镜的分划十字调整至对准该干涉条纹的中心，读出水平偏角β ；(5)该干涉条纹垂直度即Y= β/sin α。
2.根据权利要求1所述的干涉条纹垂直度测量方法，其特征在于步骤(3)、(4)是依据二维转台上的标尺读出俯仰角α、水平偏角β。
3.根据权利要求2所述的干涉条纹垂直度测量方法，其特征在于步骤(3)、(4)中对准干涉条纹的中心的操作是采用设置于望远镜后方的CCD代替人眼观测对准。
全文摘要
本发明提供一种干涉条纹垂直度测量方法，以解决现有技术测量干涉条纹垂直度判读精度不高的技术问题。本发明采用望远镜的分划十字对准干涉亮条纹(或暗条纹)的中心，在俯仰方向上自下而上(或自上而下)扫描干涉条纹范围α，然后望远镜的分划十字再次对准同一干涉亮条纹(或暗条纹)的中心，从二维转台上读数水平偏角β，根据扫描角度和相差值可算出垂直度值γ。本发明操作简便，克服了传统技术CCD靶面的不垂直度影响，提高了干涉仪干涉条纹垂直度的测量精度，扩大了检测干涉条纹的视场。
文档编号G01J3/45GK102252635SQ20111017091
公开日2011年11月23日 申请日期2011年6月23日 优先权日2011年6月23日
发明者丑小全, 张建, 李华, 李立波, 焦巧利 申请人:中国科学院西安光学精密机械研究所